加热装置
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101389161A

    公开(公告)日:2009-03-18

    申请号:CN200810215336.4

    申请日:2008-09-05

    CPC classification number: H01L21/67103

    Abstract: 本发明涉及加热装置。提供能够在面内均匀地加热安装在加热面上的被加热物,并且可在较宽的温度范围内维持良好的均热性的加热装置。加热装置(10)具备:具有加热面(11a)、埋设有电阻发热体(12)的陶瓷基体(11)和接近该陶瓷基体(11)的背面(11b)安装固定的温度调节部件(21)。在该陶瓷基体(11)的加热面和电阻发热体(12)之间配置有具有导热率比陶瓷基体(11)的导热率更高的导热性部件(14)。在陶瓷基体(11)和温度调节部件(21)之间的间隙(31)压力可调地导入气体。

    加热装置
    4.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101389161B

    公开(公告)日:2013-11-06

    申请号:CN200810215336.4

    申请日:2008-09-05

    CPC classification number: H01L21/67103

    Abstract: 本发明涉及加热装置。提供能够在面内均匀地加热安装在加热面上的被加热物,并且可在较宽的温度范围内维持良好的均热性的加热装置。加热装置(10)具备:具有加热面(11a)、埋设有电阻发热体(12)的陶瓷基体(11)和接近该陶瓷基体(11)的背面(11b)安装固定的温度调节部件(21)。在该陶瓷基体(11)的加热面和电阻发热体(12)之间配置有具有导热率比陶瓷基体(11)的导热率更高的导热性部件(14)。在陶瓷基体(11)和温度调节部件(21)之间的间隙(31)压力可调地导入气体。

    静电吸盘
    9.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101043017A

    公开(公告)日:2007-09-26

    申请号:CN200710089473.3

    申请日:2007-03-23

    CPC classification number: H01L21/6831

    Abstract: 本发明提供一种静电吸盘,其能够以良好地特性同时得到晶片的热均匀性和绝缘部件的绝缘性。静电吸盘(1)具有在保持晶片(W)的保持面附近埋设了电极(12)的陶瓷基材(11)。在该陶瓷基材(11)的背面侧设有与电极(12)连接的端子(13);晶片(W)的温度调节部件(14);该端子(13)以及温度调节部件(14)的绝缘部件(15)。该绝缘部件(15)在与陶瓷基材(11)相接的端部具有凸缘部(15a),由高导热性陶瓷构成。

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