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公开(公告)号：CN113767188A
公开(公告)日：2021-12-07
申请号：CN202080030810.5
申请日：2020-04-22
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 乔纳森·弗兰克尔 , 科林·C·内科克 , 普拉文·K·纳万克尔 , 夸克·特伦 , 戈文德拉·德赛 , 塞卡尔·克里希纳萨米
IPC: C23C16/455 , C23C16/44
Abstract: 一种用于涂覆颗粒的反应器包括：固定的真空腔室，所述固定的真空腔室用于容纳待涂布的颗粒床；在腔室的上部中的真空端口；化学输送系统，所述化学输送系统经配置以将反应物气体或前驱物气体注入腔室的下部；桨叶组件；和马达，所述马达用于旋转所述桨叶组件的驱动轴。腔室的所述下部形成半圆柱体。所述桨叶组件包括：可旋转的驱动轴，所述可旋转的驱动轴沿着所述半圆柱体的轴线延伸穿过所述腔室；和多个桨叶，所述多个桨叶从所述驱动轴径向地延伸，以使得由所述马达旋转所述驱动轴的旋转使所述多个桨叶围绕所述驱动轴运行。
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公开(公告)号：CN111868299A
公开(公告)日：2020-10-30
申请号：CN201980019149.5
申请日：2019-03-18
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 尤里·梅尔尼克 , 苏克蒂·查特吉 , 考沙尔·冈加什卡尔 , 乔纳森·弗兰克尔 , 兰斯·A·斯卡德尔 , 普拉文·K·纳万克尔 , 大卫·亚历山大·布里兹 , 戴维·马萨尤基·石川
IPC: C23C16/455 , C23C16/44 , C23C16/04 , C23C16/458
Abstract: 一种用于在多个部件的内部上施加涂层的气体分配组件包括支撑件，在所述支撑件内形成有多个部件空腔。每个部件空腔对应于相应部件以与所述相应部件的内部流体耦接。第一气源流动管线与所述部件空腔中的每个部件空腔流体耦接以将来自第一气源的第一气体提供到所述部件空腔中的每个部件空腔，并且第二气源流动管线与所述部件空腔中的每个部件空腔流体耦接以将来自第二气源的第二气体提供到所述部件空腔中的每个部件空腔。
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公开(公告)号：CN113811636B
公开(公告)日：2023-10-20
申请号：CN202080034855.X
申请日：2020-04-22
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 乔纳森·弗兰克尔 , 科林·C·内科克 , 普拉文·K·纳万克尔 , 夸克·特伦 , 戈文德拉·德赛 , 塞卡尔·克里希纳萨米 , 桑迪普·S·德赛
IPC: C23C16/455 , C23C16/44 , C23C16/442
Abstract: 一种涂覆粒子的反应器，包括：用于保持待涂覆粒子的床的固定的真空腔室，固定的真空腔室具有形成半圆柱体的下部和上部；位于腔室的上部中的真空端口；叶片组件；用于使叶片组件的驱动轴旋转的电机；用于输送第一流体的化学物质输送系统；以及第一气体注入组件，第一气体注入组件用于从化学物质输送系统接收第一流体，并且具有孔，孔被配置为将第一反应物或前驱物气体注入腔室的下部，并使得第一反应物或前驱物气体实质上与半圆柱体的弯曲内表面相切地流动。
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公开(公告)号：CN114008236A
公开(公告)日：2022-02-01
申请号：CN202080042908.2
申请日：2020-04-08
Applicant: 应用材料公司
Abstract: 本公开内容的实施方式大体涉及在航空部件上的保护涂层和用于沉积所述保护涂层的方法。在一个或多个实施方式中，一种用于在航空部件上产生保护涂层的方法包括：在含有镍和铝(例如，镍‑铝超合金)的所述航空部件上沉积金属氧化物模板层；和在热工艺和/或氧化工艺期间加热含有所述金属氧化物模板层的所述航空部件。所述热工艺和/或氧化工艺包括：将所述航空部件内含有的铝向含有所述金属氧化物模板层的所述航空部件的表面扩散；氧化所扩散的铝以产生设置在所述航空部件与所述金属氧化物模板层之间的氧化铝层；和去除所述金属氧化物模板层的至少一部分，同时留下所述氧化铝层。
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公开(公告)号：CN111133127A
公开(公告)日：2020-05-08
申请号：CN201880062108.X
申请日：2018-09-21
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 兰加·拉奥·阿内帕利 , 科林·科斯塔诺·内科克 , 尤里·梅尔尼克 , 苏雷什·钱德·赛斯 , 普拉文·K·纳万克尔 , 苏克蒂·查特吉 , 兰斯·A·斯卡德尔
IPC: C23C16/40 , C23C16/455 , C23C16/56 , C23C16/01 , C12Q1/6869
Abstract: 公开了在用于生物学应用的MEMS器件上移除原生氧化物层和沉积具有受控数量的活性位点的介电层的方法。在一个方面中，一种方法包括通过以下步骤从基板的表面移除原生氧化物层：将基板暴露于呈气相的一种或多种配体以使原生氧化物层具有挥发性，及随后热解吸或以其他方式蚀刻具有挥发性的原生氧化物层。在另一方面中，一种方法包括在基板的表面上沉积介电层，所述介电层被选择为提供受控数量的活性位点。在又一方面中，一种方法包括从基板的表面移除原生氧化物层和在基板的表面上沉积介电层两者，其中通过将基板暴露于一种或多种配体来移除原生氧化物层，所述介电层被选择为提供受控数量的活性位点。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN104025264A
公开(公告)日：2014-09-03
申请号：CN201280065767.1
申请日：2012-12-21
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 乔·格里菲思·克鲁兹 , 朴廷元 , 普拉文·K·纳万克尔 , 内特斯·阮 , 哈恩·阮 , 陈图 , 徐晶晶
IPC: H01L21/302
CPC classification number: H01L21/02041 , B08B7/00 , C23C16/0227 , C23C16/44 , C23C16/4401 , C23C16/4405
Abstract: 本文提供用于清洁基板表面的方法和设备。在一些实施方式中，一种清洁基板表面的方法可包括：提供含氢气体到其中设置有多个热丝的第一腔室；使电流流经所述多个热丝以将所述多个热丝的温度升高到足够分解至少一些含氢气体的工艺温度；以及通过使所述基板暴露于由含氢气体分解所形成的氢原子达一段时间，来清洁所述基板的表面。
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公开(公告)号：CN113767188B
公开(公告)日：2024-02-09
申请号：CN202080030810.5
申请日：2020-04-22
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 乔纳森·弗兰克尔 , 科林·C·内科克 , 普拉文·K·纳万克尔 , 夸克·特伦 , 戈文德拉·德赛 , 塞卡尔·克里希纳萨米
IPC: C23C16/455 , C23C16/44
Abstract: 一种用于涂覆颗粒的反应器包括：固定的真空腔室，所述固定的真空腔室用于容纳待涂布的颗粒床；在腔室的上部中的真空端口；化学输送系统，所述化学输送系统经配置以将反应物气体或前驱物气体注入腔室的下部；桨叶组件；和马达，所述马达用于旋转所述桨叶组件的驱动轴。腔室的所述下部形成半圆柱体。所述桨叶组件包括：可旋转的驱动轴，所述可旋转的驱动轴沿着所述半圆柱体的轴线延伸穿过所述腔室；和多个桨叶，所述多个桨叶从所述驱动轴径向地延伸，以使得由所述马达旋转所述驱动轴的旋转使所述多个桨叶围绕所述驱动轴运行。(56)对比文件JP 2008007768 A,2008.01.17KR 101868703 B1,2018.06.18US 2003175186 A1,2003.09.18US 2004256326 A1,2004.12.23US 2008254219 A1,2008.10.16US 2015250731 A1,2015.09.10US 2017282136 A1,2017.10.05US 2019099328 A1,2019.04.04US 3946996 A,1976.03.30US 5744555 A,1998.04.28
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公开(公告)号：CN117467974A
公开(公告)日：2024-01-30
申请号：CN202311284272.4
申请日：2020-04-22
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 乔纳森·弗兰克尔 , 科林·C·内科克 , 普拉文·K·纳万克尔 , 夸克·特伦 , 戈文德拉·德赛 , 塞卡尔·克里希纳萨米 , 桑迪普·S·德赛
IPC: C23C16/455 , C23C16/44 , C23C16/442 , C23C16/448
Abstract: 一种涂覆粒子的反应器，包括：用于保持待涂覆粒子的床的固定的真空腔室，固定的真空腔室具有形成半圆柱体的下部和上部；位于腔室的上部中的真空端口；叶片组件；用于使叶片组件的驱动轴旋转的电机；用于输送第一流体的化学物质输送系统；以及第一气体注入组件，第一气体注入组件用于从化学物质输送系统接收第一流体，并且具有孔，孔被配置为将第一反应物或前驱物气体注入腔室的下部，并使得第一反应物或前驱物气体实质上与半圆柱体的弯曲内表面相切地流动。
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公开(公告)号：CN112543820A
公开(公告)日：2021-03-23
申请号：CN201980044749.7
申请日：2019-06-12
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 科林·C·内科克 , 普拉文·K·纳万克尔 , 考沙尔·冈加什卡尔 , 维斯韦斯瓦伦·西瓦拉玛克里施南 , 乔纳森·弗兰克尔 , 戴维·马萨尤基·石川 , 夸克·特伦 , 约瑟夫·尤多夫斯基
IPC: C23C16/455 , C23C16/44 , C23C16/448 , C23C16/40 , A61K9/50
Abstract: 一种用于涂布颗粒的反应器包括一个或更多个马达；旋转真空腔室，所述旋转真空腔室经配置以保持待涂布的颗粒，其中所述旋转真空腔室耦接至所述马达以使所述旋转真空腔室围绕所述旋转真空腔室的圆柱形部分的轴向轴线在第一方向上旋转；真空端口，所述真空端口用于从所述旋转真空腔室排放气体；桨叶组件，所述桨叶组件包括延伸经过所述旋转真空腔室并耦接至所述一个或更多个马达的可旋转驱动轴、和从所述驱动轴径向延伸的至少一个桨叶，使得所述驱动轴藉由所述马达导致的旋转使所述桨叶围绕所述驱动轴在第二方向上旋转；和化学品输送系统，所述化学品输送系统包括在所述桨叶上的气体出口，所述气体出口经配置以将处理气体注入所述颗粒中。
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公开(公告)号：CN111936664A
公开(公告)日：2020-11-13
申请号：CN201980020460.1
申请日：2019-03-18
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 尤里·梅尔尼克 , 苏克蒂·查特吉 , 考沙尔·冈加什卡尔 , 乔纳森·弗兰克尔 , 兰斯·A·斯卡德尔 , 普拉文·K·纳万克尔 , 大卫·布里兹 , 托马斯·奈斯利 , 马克·沙丽 , 戴维·汤普森
IPC: C23C16/455 , C23C16/40 , C23C16/34 , C23C16/42
Abstract: 本公开内容的实施方式一般地涉及航空航天部件上的保护涂层和沉积保护涂层的方法。在一或多个实施方式中，一种在航空航天部件上沉积涂层的方法，包含：将航空航天部件暴露于第一前驱物和第一反应物以通过化学气相沉积(CVD)工艺或第一原子层沉积(ALD)工艺在航空航天部件的表面上形成第一沉积层；并且将航空航天部件暴露于第二前驱物和第二反应物以通过第二ALD工艺在第一沉积层上形成第二沉积层，其中第一沉积层和第二沉积层具有彼此不同的成分。
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