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公开(公告)号：CN113811636B
公开(公告)日：2023-10-20
申请号：CN202080034855.X
申请日：2020-04-22
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 乔纳森·弗兰克尔 , 科林·C·内科克 , 普拉文·K·纳万克尔 , 夸克·特伦 , 戈文德拉·德赛 , 塞卡尔·克里希纳萨米 , 桑迪普·S·德赛
IPC: C23C16/455 , C23C16/44 , C23C16/442
Abstract: 一种涂覆粒子的反应器，包括：用于保持待涂覆粒子的床的固定的真空腔室，固定的真空腔室具有形成半圆柱体的下部和上部；位于腔室的上部中的真空端口；叶片组件；用于使叶片组件的驱动轴旋转的电机；用于输送第一流体的化学物质输送系统；以及第一气体注入组件，第一气体注入组件用于从化学物质输送系统接收第一流体，并且具有孔，孔被配置为将第一反应物或前驱物气体注入腔室的下部，并使得第一反应物或前驱物气体实质上与半圆柱体的弯曲内表面相切地流动。
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公开(公告)号：CN118103546A
公开(公告)日：2024-05-28
申请号：CN202280070043.X
申请日：2022-10-21
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 布赖恩·海斯·伯罗斯 , 塞卡尔·克里希纳萨米 , 阿亚纳古达·拉拉维 , 莫妮卡·穆达尔卡 , 戈文德拉·德赛 , 希曼塔·库马尔·拉朱 , 巴萨瓦拉吉·帕坦谢蒂 , 戴维·马萨尤基·石川 , 维斯韦斯瓦伦·西瓦拉玛克里施南 , 施里坎特·斯瓦米纳坦 , 马里奥·坎布朗 , 罗伯特·纳瓦斯卡 , 王苗君 , 乔纳森·弗兰克尔
IPC: C23C16/44 , C23C16/455 , B01J19/00 , B01J3/02 , B01J4/00
Abstract: 一种用于涂覆颗粒的反应器，所述反应器包括可旋转反应器组件，所述可旋转反应器组件包括滚筒、入口管和出口管、静态气体入口管线、静态气体出口管线和马达，所述滚筒被配置成保持多个待涂覆颗粒，所述静态气体入口管线通过旋转入口密封件耦接至入口管，所述静态气体出口管线通过旋转出口密封件耦接至出口管，所述马达用于旋转可旋转反应器组件。
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公开(公告)号：CN113767188A
公开(公告)日：2021-12-07
申请号：CN202080030810.5
申请日：2020-04-22
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 乔纳森·弗兰克尔 , 科林·C·内科克 , 普拉文·K·纳万克尔 , 夸克·特伦 , 戈文德拉·德赛 , 塞卡尔·克里希纳萨米
IPC: C23C16/455 , C23C16/44
Abstract: 一种用于涂覆颗粒的反应器包括：固定的真空腔室，所述固定的真空腔室用于容纳待涂布的颗粒床；在腔室的上部中的真空端口；化学输送系统，所述化学输送系统经配置以将反应物气体或前驱物气体注入腔室的下部；桨叶组件；和马达，所述马达用于旋转所述桨叶组件的驱动轴。腔室的所述下部形成半圆柱体。所述桨叶组件包括：可旋转的驱动轴，所述可旋转的驱动轴沿着所述半圆柱体的轴线延伸穿过所述腔室；和多个桨叶，所述多个桨叶从所述驱动轴径向地延伸，以使得由所述马达旋转所述驱动轴的旋转使所述多个桨叶围绕所述驱动轴运行。
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公开(公告)号：CN111868299A
公开(公告)日：2020-10-30
申请号：CN201980019149.5
申请日：2019-03-18
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 尤里·梅尔尼克 , 苏克蒂·查特吉 , 考沙尔·冈加什卡尔 , 乔纳森·弗兰克尔 , 兰斯·A·斯卡德尔 , 普拉文·K·纳万克尔 , 大卫·亚历山大·布里兹 , 戴维·马萨尤基·石川
IPC: C23C16/455 , C23C16/44 , C23C16/04 , C23C16/458
Abstract: 一种用于在多个部件的内部上施加涂层的气体分配组件包括支撑件，在所述支撑件内形成有多个部件空腔。每个部件空腔对应于相应部件以与所述相应部件的内部流体耦接。第一气源流动管线与所述部件空腔中的每个部件空腔流体耦接以将来自第一气源的第一气体提供到所述部件空腔中的每个部件空腔，并且第二气源流动管线与所述部件空腔中的每个部件空腔流体耦接以将来自第二气源的第二气体提供到所述部件空腔中的每个部件空腔。
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公开(公告)号：CN113767188B
公开(公告)日：2024-02-09
申请号：CN202080030810.5
申请日：2020-04-22
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 乔纳森·弗兰克尔 , 科林·C·内科克 , 普拉文·K·纳万克尔 , 夸克·特伦 , 戈文德拉·德赛 , 塞卡尔·克里希纳萨米
IPC: C23C16/455 , C23C16/44
Abstract: 一种用于涂覆颗粒的反应器包括：固定的真空腔室，所述固定的真空腔室用于容纳待涂布的颗粒床；在腔室的上部中的真空端口；化学输送系统，所述化学输送系统经配置以将反应物气体或前驱物气体注入腔室的下部；桨叶组件；和马达，所述马达用于旋转所述桨叶组件的驱动轴。腔室的所述下部形成半圆柱体。所述桨叶组件包括：可旋转的驱动轴，所述可旋转的驱动轴沿着所述半圆柱体的轴线延伸穿过所述腔室；和多个桨叶，所述多个桨叶从所述驱动轴径向地延伸，以使得由所述马达旋转所述驱动轴的旋转使所述多个桨叶围绕所述驱动轴运行。(56)对比文件JP 2008007768 A,2008.01.17KR 101868703 B1,2018.06.18US 2003175186 A1,2003.09.18US 2004256326 A1,2004.12.23US 2008254219 A1,2008.10.16US 2015250731 A1,2015.09.10US 2017282136 A1,2017.10.05US 2019099328 A1,2019.04.04US 3946996 A,1976.03.30US 5744555 A,1998.04.28
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN117467974A
公开(公告)日：2024-01-30
申请号：CN202311284272.4
申请日：2020-04-22
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 乔纳森·弗兰克尔 , 科林·C·内科克 , 普拉文·K·纳万克尔 , 夸克·特伦 , 戈文德拉·德赛 , 塞卡尔·克里希纳萨米 , 桑迪普·S·德赛
IPC: C23C16/455 , C23C16/44 , C23C16/442 , C23C16/448
Abstract: 一种涂覆粒子的反应器，包括：用于保持待涂覆粒子的床的固定的真空腔室，固定的真空腔室具有形成半圆柱体的下部和上部；位于腔室的上部中的真空端口；叶片组件；用于使叶片组件的驱动轴旋转的电机；用于输送第一流体的化学物质输送系统；以及第一气体注入组件，第一气体注入组件用于从化学物质输送系统接收第一流体，并且具有孔，孔被配置为将第一反应物或前驱物气体注入腔室的下部，并使得第一反应物或前驱物气体实质上与半圆柱体的弯曲内表面相切地流动。
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公开(公告)号：CN114364825A
公开(公告)日：2022-04-15
申请号：CN202080059992.9
申请日：2020-08-17
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 戴维·马萨尤基·石川 , 乔纳森·弗兰克尔 , 约瑟夫·尤多夫斯基 , 大卫·亚历山大·布里兹
Abstract: 本文中所描述的实施方式提供涂布工艺(诸如，隔热涂层(TBC)在对象上的电子束物理气相沉积(EBPVD))的装置、软件应用程序及方法。对象可包括由镍及钴基超级合金制造的航天部件，例如，涡轮叶片及轮叶。本文中所描述的装置、软件应用程序及方法提供检测涂布工艺的终点，亦即，确定涂层的厚度何时满足目标值的能力以及用于闭环控制工艺参数的能力中的至少一个。
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公开(公告)号：CN112543820A
公开(公告)日：2021-03-23
申请号：CN201980044749.7
申请日：2019-06-12
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 科林·C·内科克 , 普拉文·K·纳万克尔 , 考沙尔·冈加什卡尔 , 维斯韦斯瓦伦·西瓦拉玛克里施南 , 乔纳森·弗兰克尔 , 戴维·马萨尤基·石川 , 夸克·特伦 , 约瑟夫·尤多夫斯基
IPC: C23C16/455 , C23C16/44 , C23C16/448 , C23C16/40 , A61K9/50
Abstract: 一种用于涂布颗粒的反应器包括一个或更多个马达；旋转真空腔室，所述旋转真空腔室经配置以保持待涂布的颗粒，其中所述旋转真空腔室耦接至所述马达以使所述旋转真空腔室围绕所述旋转真空腔室的圆柱形部分的轴向轴线在第一方向上旋转；真空端口，所述真空端口用于从所述旋转真空腔室排放气体；桨叶组件，所述桨叶组件包括延伸经过所述旋转真空腔室并耦接至所述一个或更多个马达的可旋转驱动轴、和从所述驱动轴径向延伸的至少一个桨叶，使得所述驱动轴藉由所述马达导致的旋转使所述桨叶围绕所述驱动轴在第二方向上旋转；和化学品输送系统，所述化学品输送系统包括在所述桨叶上的气体出口，所述气体出口经配置以将处理气体注入所述颗粒中。
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公开(公告)号：CN111936664A
公开(公告)日：2020-11-13
申请号：CN201980020460.1
申请日：2019-03-18
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 尤里·梅尔尼克 , 苏克蒂·查特吉 , 考沙尔·冈加什卡尔 , 乔纳森·弗兰克尔 , 兰斯·A·斯卡德尔 , 普拉文·K·纳万克尔 , 大卫·布里兹 , 托马斯·奈斯利 , 马克·沙丽 , 戴维·汤普森
IPC: C23C16/455 , C23C16/40 , C23C16/34 , C23C16/42
Abstract: 本公开内容的实施方式一般地涉及航空航天部件上的保护涂层和沉积保护涂层的方法。在一或多个实施方式中，一种在航空航天部件上沉积涂层的方法，包含：将航空航天部件暴露于第一前驱物和第一反应物以通过化学气相沉积(CVD)工艺或第一原子层沉积(ALD)工艺在航空航天部件的表面上形成第一沉积层；并且将航空航天部件暴露于第二前驱物和第二反应物以通过第二ALD工艺在第一沉积层上形成第二沉积层，其中第一沉积层和第二沉积层具有彼此不同的成分。
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公开(公告)号：CN116892011A
公开(公告)日：2023-10-17
申请号：CN202310717002.1
申请日：2019-03-18
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 尤里·梅尔尼克 , 苏克蒂·查特吉 , 考沙尔·冈加什卡尔 , 乔纳森·弗兰克尔 , 兰斯·A·斯卡德尔 , 普拉文·K·纳万克尔 , 大卫·布里兹 , 托马斯·奈斯利 , 马克·沙丽 , 戴维·汤普森
Abstract: 本公开内容的实施方式一般地涉及航空航天部件上的保护涂层和用于沉积保护涂层的方法。在一或多个实施方式中，一种在航空航天部件上沉积保护涂层的方法包括：顺序地将航空航天部件暴露于铬前驱物和反应物以通过原子层沉积工艺在航空航天部件的表面上形成含铬层。含铬层包含金属铬、氧化铬、氮化铬、碳化铬、硅化铬或上述各项的任何组合。
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