公开(公告)号：CN118103546A

公开(公告)日：2024-05-28

申请号：CN202280070043.X

申请日：2022-10-21

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 布赖恩·海斯·伯罗斯 ,  塞卡尔·克里希纳萨米 ,  阿亚纳古达·拉拉维 ,  莫妮卡·穆达尔卡 ,  戈文德拉·德赛 ,  希曼塔·库马尔·拉朱 ,  巴萨瓦拉吉·帕坦谢蒂 ,  戴维·马萨尤基·石川 ,  维斯韦斯瓦伦·西瓦拉玛克里施南 ,  施里坎特·斯瓦米纳坦 ,  马里奥·坎布朗 ,  罗伯特·纳瓦斯卡 ,  王苗君 ,  乔纳森·弗兰克尔

IPC: C23C16/44 ,  C23C16/455 ,  B01J19/00 ,  B01J3/02 ,  B01J4/00

Abstract: 一种用于涂覆颗粒的反应器，所述反应器包括可旋转反应器组件，所述可旋转反应器组件包括滚筒、入口管和出口管、静态气体入口管线、静态气体出口管线和马达，所述滚筒被配置成保持多个待涂覆颗粒，所述静态气体入口管线通过旋转入口密封件耦接至入口管，所述静态气体出口管线通过旋转出口密封件耦接至出口管，所述马达用于旋转可旋转反应器组件。

公开(公告)号：CN116529429A

公开(公告)日：2023-08-01

申请号：CN202280007026.1

申请日：2022-01-20

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 刘树坤 ,  布赖恩·海斯·伯罗斯 ,  叶祉渊 ,  理查德·O·柯林斯 ,  朱恩乐 ,  丹尼·D·王 ,  沙尼什·奈利卡 ,  中川敏之 ,  阿布舍克·杜贝 ,  阿拉·莫拉迪亚 ,  卡蒂克·布彭德拉·仙

IPC: C30B25/08

Abstract: 本文描述了一种处理腔室，该处理腔室包括腔室主体，此腔室主体具有设置在底板上方的顶板，其中底盘和注入器环设置在该顶板与该底板之间。上下夹环分别将上部和底板固定到位。上加热模块耦接至顶板上的上夹环。下加热模块耦接至底板下方的下夹环。

公开(公告)号：CN116194622A

公开(公告)日：2023-05-30

申请号：CN202180055701.3

申请日：2021-11-30

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 刘树坤 ,  叶祉渊 ,  理查德·O·柯林斯 ,  布赖恩·海斯·伯罗斯

IPC: C30B25/14

Abstract: 本文所公开的设备关于用于在热沉积腔室(诸如外延沉积腔室)内使用的腔室主体设计。腔室主体为分段式腔室主体设计，并包括注入环和基座板。基座板包括基板传送通道和穿过其中设置的一个或多个排气通道。注入环包括穿过其中设置的多个气体注入通道。注入环设置在基座板的顶部分并附接到基座板。一个或多个排气通道和气体注入通道彼此相对设置。一个或多个密封密封槽形成在基座板和注入环两者中，以使注入环和基座板能够彼此以及密封处理腔室内的其他部件。

公开(公告)号：CN115485822A

公开(公告)日：2022-12-16

申请号：CN202180032252.0

申请日：2021-07-16

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 卡蒂克·布彭德拉·仙 ,  舒伯特·S·楚 ,  阿德尔·乔治·塔诺 ,  阿拉·莫拉迪亚 ,  尼欧·O·谬 ,  苏拉吉特·库马尔 ,  朱作明 ,  布赖恩·海斯·伯罗斯 ,  维希瓦·库马尔·帕迪 ,  刘树坤 ,  斯里尼瓦萨·兰加帕

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/687 ,  H05B3/00

Abstract: 一种用于处理腔室中的处理套组，该处理套组包括：外衬套；内衬套，被配置为与处理腔室的气体注入组件及气体排放组件流体连通；第一环形反射器，设置在该外衬套与该内衬套之间；顶板及底板，附接于该内衬套的内表面，该顶板及底板与内衬套一起形成外壳；盒匣，设置在外壳之内，该盒匣包含被配置为在其上保持多个基板的多个搁架；及边缘温度校正元件，设置在该内衬套与第一环形反射器之间。