公开(公告)号：CN117296139A

公开(公告)日：2023-12-26

申请号：CN202280034744.8

申请日：2022-04-20

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 刘树坤 ,  朱恩乐 ,  王东岩 ,  沙尼什·奈利卡 ,  中川敏之 ,  叶祉渊 ,  阿布舍克·杜贝

IPC: H01L21/67

Abstract: 本文描述了用于在基板处理腔室内加热基板的设备。更具体地，描述了可能用于在基板处理腔室内使用的灯模块。灯模块包括反射器主体。反射器主体是反射材料。反射器主体包括设置在表面中并且被配置为将辐射能量引导朝向基板的槽。每个环包括具有不同横截面的多个槽，以允许将辐射能量从相同的环被引导于基板上的不同径向位置处。槽可以是弯曲槽或线性槽。

公开(公告)号：CN119096343A

公开(公告)日：2024-12-06

申请号：CN202380036673.X

申请日：2023-01-03

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 亚伯拉罕·帕拉蒂 ,  维诺德·拉马钱德兰 ,  刘树坤 ,  沙尼什·奈利卡 ,  拉贾·穆拉利·达莫哈兰 ,  丹尼·D·王

IPC: H01L21/67 ,  C30B25/10

Abstract: 一种用于基板处理腔室的加热模块包括加热灯，所述加热灯耦接至反射器板和热交换器。所述热交换器冷却所述加热模块内的气体。所述加热模块内的风扇使气体循环穿过所述反射器板中的孔隙以冷却加热灯泡。所述气体由所述热交换器冷却，并再循环。一个或多个罩在所述气体正在循环时引导所述气体。

公开(公告)号：CN116529429A

公开(公告)日：2023-08-01

申请号：CN202280007026.1

申请日：2022-01-20

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 刘树坤 ,  布赖恩·海斯·伯罗斯 ,  叶祉渊 ,  理查德·O·柯林斯 ,  朱恩乐 ,  丹尼·D·王 ,  沙尼什·奈利卡 ,  中川敏之 ,  阿布舍克·杜贝 ,  阿拉·莫拉迪亚 ,  卡蒂克·布彭德拉·仙

IPC: C30B25/08

Abstract: 本文描述了一种处理腔室，该处理腔室包括腔室主体，此腔室主体具有设置在底板上方的顶板，其中底盘和注入器环设置在该顶板与该底板之间。上下夹环分别将上部和底板固定到位。上加热模块耦接至顶板上的上夹环。下加热模块耦接至底板下方的下夹环。

公开(公告)号：CN222507545U

公开(公告)日：2025-02-18

申请号：CN202420992179.2

申请日：2024-05-09

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 拉贾·穆拉利·达莫哈兰 ,  刘树坤 ,  沙尼什·奈利卡 ,  朱恩乐 ,  卡莱瓦南·莫哈那达斯 ,  安妮特尼廷·帕蒂尔

IPC: H01L21/67

Abstract: 提供了一种用于处理腔室的模块化反射加热系统。该模块化反射加热系统包括：多个连接器；多个灯具，每个灯具连接到该连接器中的至少一个；反射器，该反射器包括：底座；以及反射组件，该反射组件包括第一多个反射部分和第二多个反射部分。该第一多个反射部分和该第二多个反射部分中的每个反射部分连接到该底座，并且该第一多个反射部分和该第二多个反射部分中的每个反射部分被配置为单独地与该底座断开。该模块化反射加热系统进一步包括备用反射部分，该备用反射部分被配置为替换该第一多个反射部分或该第二多个反射部分中的第一反射部分。