公开(公告)号：CN115516617A

公开(公告)日：2022-12-23

申请号：CN202180033318.8

申请日：2021-08-11

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 刘树坤 ,  阿德尔·乔治·塔诺 ,  帕特里克·C·杰尼斯 ,  叶祉渊

IPC: H01L21/67 ,  H05B3/00 ,  C30B25/08 ,  C30B25/10 ,  C30B25/14

Abstract: 公开一种用于在热处理腔室内加热基板的设备。该设备包括腔室主体、气体进口、气体出口、上窗、下窗、基板支撑件和上部加热装置。上部加热装置是激光加热装置，并且包括一个或多个激光组件。激光组件包括光源、冷却板、光纤和照射窗。

公开(公告)号：CN115516615A

公开(公告)日：2022-12-23

申请号：CN202180032885.1

申请日：2021-07-12

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 阿德尔·乔治·塔诺 ,  舒伯特·S·楚 ,  刘树坤 ,  卡蒂克·布彭德拉·仙 ,  朱作明 ,  阿拉·莫拉迪亚 ,  苏拉吉特·库马尔 ,  斯里尼瓦萨·兰加帕 ,  秦嘉政 ,  维希瓦·库马尔·帕迪

IPC: H01L21/67 ,  H05B3/00 ,  H01L21/687 ,  C30B25/10

Abstract: 提供批处理腔室及在批处理腔室中使用的处理配件。处理配件包括外衬垫、内衬垫、及顶板与底板，外衬垫具有上外衬垫与下外衬垫，顶板与底板附接于内衬垫的内表面。顶板与底板和内衬垫一起形成围护件，并且在围护件内设置盒。包括隔板的盒被构造成用以在隔板上保存多个基板。内衬垫具有入口开口与出口开口，入口开口设置在内衬垫的注入侧上并且被构造成用以与处理腔室的气体注入组件流体连通，出口开口设置在内衬垫的排出侧上并且被构造成用以与处理腔室的排气组件流体连通。围护件的内表面包括被构造成用以引起在围护件内的黑体辐射的材料。

公开(公告)号：CN115485822A

公开(公告)日：2022-12-16

申请号：CN202180032252.0

申请日：2021-07-16

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 卡蒂克·布彭德拉·仙 ,  舒伯特·S·楚 ,  阿德尔·乔治·塔诺 ,  阿拉·莫拉迪亚 ,  尼欧·O·谬 ,  苏拉吉特·库马尔 ,  朱作明 ,  布赖恩·海斯·伯罗斯 ,  维希瓦·库马尔·帕迪 ,  刘树坤 ,  斯里尼瓦萨·兰加帕

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/687 ,  H05B3/00

Abstract: 一种用于处理腔室中的处理套组，该处理套组包括：外衬套；内衬套，被配置为与处理腔室的气体注入组件及气体排放组件流体连通；第一环形反射器，设置在该外衬套与该内衬套之间；顶板及底板，附接于该内衬套的内表面，该顶板及底板与内衬套一起形成外壳；盒匣，设置在外壳之内，该盒匣包含被配置为在其上保持多个基板的多个搁架；及边缘温度校正元件，设置在该内衬套与第一环形反射器之间。