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公开(公告)号：CN111868299A
公开(公告)日：2020-10-30
申请号：CN201980019149.5
申请日：2019-03-18
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 尤里·梅尔尼克 , 苏克蒂·查特吉 , 考沙尔·冈加什卡尔 , 乔纳森·弗兰克尔 , 兰斯·A·斯卡德尔 , 普拉文·K·纳万克尔 , 大卫·亚历山大·布里兹 , 戴维·马萨尤基·石川
IPC: C23C16/455 , C23C16/44 , C23C16/04 , C23C16/458
Abstract: 一种用于在多个部件的内部上施加涂层的气体分配组件包括支撑件，在所述支撑件内形成有多个部件空腔。每个部件空腔对应于相应部件以与所述相应部件的内部流体耦接。第一气源流动管线与所述部件空腔中的每个部件空腔流体耦接以将来自第一气源的第一气体提供到所述部件空腔中的每个部件空腔，并且第二气源流动管线与所述部件空腔中的每个部件空腔流体耦接以将来自第二气源的第二气体提供到所述部件空腔中的每个部件空腔。
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公开(公告)号：CN112543820A
公开(公告)日：2021-03-23
申请号：CN201980044749.7
申请日：2019-06-12
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 科林·C·内科克 , 普拉文·K·纳万克尔 , 考沙尔·冈加什卡尔 , 维斯韦斯瓦伦·西瓦拉玛克里施南 , 乔纳森·弗兰克尔 , 戴维·马萨尤基·石川 , 夸克·特伦 , 约瑟夫·尤多夫斯基
IPC: C23C16/455 , C23C16/44 , C23C16/448 , C23C16/40 , A61K9/50
Abstract: 一种用于涂布颗粒的反应器包括一个或更多个马达；旋转真空腔室，所述旋转真空腔室经配置以保持待涂布的颗粒，其中所述旋转真空腔室耦接至所述马达以使所述旋转真空腔室围绕所述旋转真空腔室的圆柱形部分的轴向轴线在第一方向上旋转；真空端口，所述真空端口用于从所述旋转真空腔室排放气体；桨叶组件，所述桨叶组件包括延伸经过所述旋转真空腔室并耦接至所述一个或更多个马达的可旋转驱动轴、和从所述驱动轴径向延伸的至少一个桨叶，使得所述驱动轴藉由所述马达导致的旋转使所述桨叶围绕所述驱动轴在第二方向上旋转；和化学品输送系统，所述化学品输送系统包括在所述桨叶上的气体出口，所述气体出口经配置以将处理气体注入所述颗粒中。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN111936664A
公开(公告)日：2020-11-13
申请号：CN201980020460.1
申请日：2019-03-18
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 尤里·梅尔尼克 , 苏克蒂·查特吉 , 考沙尔·冈加什卡尔 , 乔纳森·弗兰克尔 , 兰斯·A·斯卡德尔 , 普拉文·K·纳万克尔 , 大卫·布里兹 , 托马斯·奈斯利 , 马克·沙丽 , 戴维·汤普森
IPC: C23C16/455 , C23C16/40 , C23C16/34 , C23C16/42
Abstract: 本公开内容的实施方式一般地涉及航空航天部件上的保护涂层和沉积保护涂层的方法。在一或多个实施方式中，一种在航空航天部件上沉积涂层的方法，包含：将航空航天部件暴露于第一前驱物和第一反应物以通过化学气相沉积(CVD)工艺或第一原子层沉积(ALD)工艺在航空航天部件的表面上形成第一沉积层；并且将航空航天部件暴露于第二前驱物和第二反应物以通过第二ALD工艺在第一沉积层上形成第二沉积层，其中第一沉积层和第二沉积层具有彼此不同的成分。
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公开(公告)号：CN116892011A
公开(公告)日：2023-10-17
申请号：CN202310717002.1
申请日：2019-03-18
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 尤里·梅尔尼克 , 苏克蒂·查特吉 , 考沙尔·冈加什卡尔 , 乔纳森·弗兰克尔 , 兰斯·A·斯卡德尔 , 普拉文·K·纳万克尔 , 大卫·布里兹 , 托马斯·奈斯利 , 马克·沙丽 , 戴维·汤普森
Abstract: 本公开内容的实施方式一般地涉及航空航天部件上的保护涂层和用于沉积保护涂层的方法。在一或多个实施方式中，一种在航空航天部件上沉积保护涂层的方法包括：顺序地将航空航天部件暴露于铬前驱物和反应物以通过原子层沉积工艺在航空航天部件的表面上形成含铬层。含铬层包含金属铬、氧化铬、氮化铬、碳化铬、硅化铬或上述各项的任何组合。
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公开(公告)号：CN111902566B
公开(公告)日：2023-06-27
申请号：CN201980020567.6
申请日：2019-03-18
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 尤里·梅尔尼克 , 苏克蒂·查特吉 , 考沙尔·冈加什卡尔 , 乔纳森·弗兰克尔 , 兰斯·A·斯卡德尔 , 普拉文·K·纳万克尔 , 大卫·布里兹 , 托马斯·奈斯利 , 马克·沙丽 , 戴维·汤普森
IPC: C23C16/455 , C23C16/40 , C23C16/32 , C23C16/42 , C23C16/56
Abstract: 本公开内容的实施方式一般地涉及航空航天部件上的保护涂层和用于沉积保护涂层的方法。在一或多个实施方式中，一种在航空航天部件上沉积保护涂层的方法包括：顺序地将航空航天部件暴露于铬前驱物和反应物以通过原子层沉积工艺在航空航天部件的表面上形成含铬层。含铬层包含金属铬、氧化铬、氮化铬、碳化铬、硅化铬或上述各项的任何组合。
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公开(公告)号：CN112601837A
公开(公告)日：2021-04-02
申请号：CN201980052781.X
申请日：2019-07-18
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 考沙尔·冈加什卡尔 , 乔纳森·弗兰克尔 , 科林·C·内科克 , 普拉文·K·纳万克尔
IPC: C23C16/44 , C23C16/455 , C23C16/458
Abstract: 一种用于涂覆颗粒的反应器包括：真空腔室，所述真空腔室经配置为保持待涂覆的颗粒；真空端口，所述真空端口用于经由所述真空腔室的出口从所述真空腔室排放气体；化学递送系统，所述化学递送系统经配置为使处理气体经由真空腔室上的气体入口流入所述颗粒中；一个或多个振动致动器，所述一个或多个振动致动器位于所述真空腔室的第一安装表面上；和控制器，所述控制器经配置为导致所述一个或多个振动致动器在所述真空腔室中产生振动运动，所述振动运动足以在所述真空腔室内保持的所述颗粒中引起振动运动。
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公开(公告)号：CN111902566A
公开(公告)日：2020-11-06
申请号：CN201980020567.6
申请日：2019-03-18
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 尤里·梅尔尼克 , 苏克蒂·查特吉 , 考沙尔·冈加什卡尔 , 乔纳森·弗兰克尔 , 兰斯·A·斯卡德尔 , 普拉文·K·纳万克尔 , 大卫·布里兹 , 托马斯·奈斯利 , 马克·沙丽 , 戴维·汤普森
IPC: C23C16/455 , C23C16/40 , C23C16/32 , C23C16/42 , C23C16/56
Abstract: 本公开内容的实施方式一般地涉及航空航天部件上的保护涂层和用于沉积保护涂层的方法。在一或多个实施方式中，一种在航空航天部件上沉积保护涂层的方法包括：顺序地将航空航天部件暴露于铬前驱物和反应物以通过原子层沉积工艺在航空航天部件的表面上形成含铬层。含铬层包含金属铬、氧化铬、氮化铬、碳化铬、硅化铬或上述各项的任何组合。
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