压焊设备追溯方法、装置、介质及芯片产品

    公开(公告)号:CN117314457A

    公开(公告)日:2023-12-29

    申请号:CN202311047667.2

    申请日:2023-08-18

    Abstract: 本发明实施例提供一种压焊设备追溯方法、装置、介质及芯片产品,属于芯片封测领域。所述压焊设备追溯方法包括:获取芯片产品的压焊标记特征,该压焊标记特征是相应压焊设备在压焊工序中加工形成于所述芯片产品的引线框架内部、且用于示出该压焊设备的唯一设备编号的标记;以及基于所获取的压焊标记特征,确定加工相应芯片产品的压焊设备的设备编号,以实现压焊设备追溯。本发明实施例通过在压焊工序中形成于引线框架内部的独特的压焊标记特征,无论针对框架状态还是单颗状态的质量异常芯片产品,都能快速、准确地锁定对应生产加工的压焊设备。

    电源连接的检查方法与检查系统
    5.
    发明公开

    公开(公告)号:CN119511153A

    公开(公告)日:2025-02-25

    申请号:CN202411438991.1

    申请日:2024-10-15

    Abstract: 本发明涉及版图设计技术领域,公开一种电源连接的检查方法与检查系统,所述方法包括:从芯片版图中提取PG网表,其中芯片版图包括时钟网络上的多个驱动单元,多个驱动单元分别分布在多个电压域中,每个电压域被设置有独立的供电网络,以及PG网表包括电压域与供电网络之间的对应关系;根据电压域与供电网络之间的参考对应关系,对PG网表进行检查;以及在PG网表与参考对应关系不匹配的情况下,提供错误提示信息,错误提示信息包括不匹配单元所在的当前电压域和参考电压域。本发明采用单独的电压域对相应的驱动单元进行供电以隔离彼此噪声的影响,并针对多个电压域内的电源连接进行定位检查,以能快速查找连接相关的错误并准确定位错误所在之处。

    不同温度下芯片参数的测试方法

    公开(公告)号:CN109596973A

    公开(公告)日:2019-04-09

    申请号:CN201811641591.5

    申请日:2018-12-29

    Abstract: 本发明公开了一种不同温度下芯片参数的测试方法,包括:芯片自动化测试设备向热流罩发送设置温度信号,其中,所述设置温度信号包括当前预设的温度点;接收所述热流罩发送的温度设定完成信号,其中,所述温度设定完成信号为所述热流罩接收设置温度信号后,根据所述当前预设的温度点为芯片提供环境温度并对芯片温度进行检测,当芯片温度达到所述预设的温度点时,所述热流罩向芯片自动化测试设备反馈的信号;对所述芯片进行性能测试;测试完成后,重复上述步骤,根据多个预设的温度点对所述芯片进行性能测试。本发明提供的不同温度下芯片参数的测试方法,可以减少人工的工作量,定时更换芯片即可完成所有测试,提高芯片的测试效率。

    用于SIM卡芯片的无损测量方法

    公开(公告)号:CN107449379A

    公开(公告)日:2017-12-08

    申请号:CN201710692585.1

    申请日:2017-08-14

    Abstract: 本发明公开了一种用于SIM卡芯片的无损测量方法,SIM卡芯片置于SIM卡模块内部,该无损测量方法包括以下步骤:S1,将SIM卡模块放置在超声扫描显微镜的试验台上;S2,将超声扫描显微镜开启正面扫描模式,直接对SIM卡模块进行检测;S3,将超声扫描显微镜开启反射扫描模式生成超声波图像和波形曲线;S4,对波形曲线进行图形分析;S5,根据公式计算出SIM卡芯片的厚度值;S6,根据步骤S5中计算得到的SIM卡芯片的厚度值与规定的厚度值范围进行比对。本发明的SIM卡芯片测量方法为无损检测手段,不会破坏芯片,不影响后续使用,且简单易操作、准确度高、可以大大节省测量时间和成本,有利于大批量、快速的样品检测。

    版图生成方法、装置和电子设备
    9.
    发明公开

    公开(公告)号:CN119623396A

    公开(公告)日:2025-03-14

    申请号:CN202411581455.7

    申请日:2024-11-07

    Abstract: 本发明实施例提供一种版图生成方法、装置和电子设备,属于芯片技术领域。版图生成方法包括:获取芯片中待添加MIM电容的目标版图区域;根据所述目标版图区域中目标功能区域的类型,确定目标MIM电容添加方式;基于所述目标MIM电容添加方式对所述目标版图区域添加MIM电容,以生成新版图。本发明实施例通过设置不同的版图区域对应不同的MIM电容添加方式,使得MIM电容在整个芯片的面积取得最大化,提高芯片的MIM电容利用率,大大减小Finfet工艺中的芯片动态IR‑Drop,解决现有的Finfet工艺中动态IR‑Drop仍然较大,减小动态IR‑Drop的效果不理想的缺陷。

    测试键交叠结构及其制备方法
    10.
    发明公开

    公开(公告)号:CN117594571A

    公开(公告)日:2024-02-23

    申请号:CN202311312385.0

    申请日:2023-10-11

    Abstract: 本发明实施例提供一种测试键交叠结构及其制备方法,属于芯片制造技术领域。所述测试键交叠结构包括分别放置于横向划片槽和纵向划片槽内的第一测试键和第二测试键,且两者各自包括通过导线连接的测试器件和多个测试垫,多个测试垫中的至少一者被确定为共享测试垫,而第一和第二测试键各自的任意一个共享测试垫在横向和纵向划片槽的交叉区域内进行层叠以形成十字交叠测试垫,且所层叠的两个共享测试垫的尺寸和/或相对位置被调整以使得形成的十字交叠测试垫能够避开器件导线。本发明实施例利用共享测试垫组合横向和纵向的测试键,在避免测试键相互阻挡的同时,节省了划片槽空间。

Patent Agency Ranking