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公开(公告)号：CN112782935B
公开(公告)日：2025-05-20
申请号：CN202011225387.2
申请日：2020-11-05
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明涉及抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明的课题为提供在以KrF准分子激光、电子束、极紫外线等高能射线作为光源的光学光刻中，展现特别良好的掩膜尺寸依存性(掩膜误差系数：MEF)、尺寸均匀性(CDU)的抗蚀剂组成物以及提供使用该抗蚀剂组成物的图案形成方法。该课题的解决手段为一种抗蚀剂组成物，其特征为含有：(A)含有具有酸不稳定基团的重复单元，且更含有至少1种具有芳香族取代基的重复单元的树脂、(B)通式(B‑1)表示的光酸产生剂、及(C)溶剂。#imgabs0#式中，W1表示碳数4～12的含有杂原子的环状2价烃基。W2表示碳数4～14的不含杂原子的环状1价烃基。Rf为上述通式表示的2价有机基团。M+表示鎓阳离子。
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公开(公告)号：CN118480025A
公开(公告)日：2024-08-13
申请号：CN202410167953.0
申请日：2024-02-06
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: C07D333/76 , C07D327/08 , C07D335/16 , C07D279/20 , C07D339/08 , G03F7/004 , G03F7/038 , G03F7/039
Abstract: 本发明涉及锍盐、抗蚀剂材料及图案形成方法。本发明的课题提供无论正型或负型皆为高感度，且LWR、CDU经改善的抗蚀剂材料，以及提供使用其的图案形成方法。该课题的解决手段是一种锍盐，以下式(1)表示，以及提供含有该锍盐的抗蚀剂材料。#imgabs0#
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公开(公告)号：CN112979458B
公开(公告)日：2023-08-25
申请号：CN202011462505.1
申请日：2020-12-11
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: C07C59/68 , C07C65/21 , C07C59/66 , C07C59/90 , C07C51/41 , C07C381/12 , C07D333/74 , C07C69/92 , C07C69/76 , C07C309/75 , C07C69/757 , C07D335/02 , C07D307/00 , G03F7/004 , H01L21/027
Abstract: 本发明涉及鎓盐化合物、化学增幅抗蚀剂组成物、以及图案形成方法。本发明的课题是提供在以KrF准分子激光、ArF准分子激光、电子束、极紫外线等高能量射线作为光源的光学光刻中，为高感度，且CDU、LWR等光刻性能优异的化学增幅抗蚀剂组成物；并提供其所使用的酸扩散抑制剂、及使用该化学增幅抗蚀剂组成物的图案形成方法。该课题的解决手段为下式(1)表示的鎓盐化合物、由该鎓盐化合物构成的酸扩散抑制剂、及含有该酸扩散抑制剂的化学增幅抗蚀剂组成物。
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公开(公告)号：CN112782935A
公开(公告)日：2021-05-11
申请号：CN202011225387.2
申请日：2020-11-05
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明涉及抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明的课题为提供在以KrF准分子激光、电子束、极紫外线等高能射线作为光源的光学光刻中，展现特别良好的掩膜尺寸依存性(掩膜误差系数：MEF)、尺寸均匀性(CDU)的抗蚀剂组成物以及提供使用该抗蚀剂组成物的图案形成方法。该课题的解决手段为一种抗蚀剂组成物，其特征为含有：(A)含有具有酸不稳定基团的重复单元，且更含有至少1种具有芳香族取代基的重复单元的树脂、(B)通式(B‑1)表示的光酸产生剂、及(C)溶剂。 式中，W1表示碳数4～12的含有杂原子的环状2价烃基。W2表示碳数4～14的不含杂原子的环状1价烃基。Rf为上述通式表示的2价有机基团。M+表示鎓阳离子。
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公开(公告)号：CN105315467B
公开(公告)日：2019-12-20
申请号：CN201510454091.0
申请日：2015-07-29
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 提供了带有有机硅结构的聚合物，其包含衍生自双(4‑羟基‑3‑烯丙基苯基)衍生物的重复单元并具有3,000‑500,000的Mw。包含所述聚合物的化学增幅型负型抗蚀剂组合物克服了将涂层从Cu或Al的金属配线、电极和SiN基材剥离的剥离问题。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN107544206A
公开(公告)日：2018-01-05
申请号：CN201710504684.2
申请日：2017-06-28
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: G03F7/004 , G03F7/00 , C07C381/12 , C07C309/12 , C07C25/18 , C07D279/20 , C07D333/76 , C07D327/08
Abstract: 本发明涉及抗蚀剂组合物和图案化方法。本发明的抗蚀剂组合物，其包括基础聚合物和含有碘代苯甲酰氧基的氟代磺酸的锍盐或碘鎓盐，无论其为正型或负型，都提供高感光度和最小的LWR或改善的CDU。
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公开(公告)号：CN119805860A
公开(公告)日：2025-04-11
申请号：CN202411399343.X
申请日：2024-10-09
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: G03F7/004 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/20 , C07D333/76 , C07C381/12 , C07C25/18 , C07C311/51 , C07C311/04 , C07C311/48 , C07C311/24 , C07C311/29
Abstract: 本发明涉及抗蚀剂材料及图案形成方法。本发明的课题是提供正型或负型皆高感度，且LWR及CDU经改善的抗蚀剂材料、以及使用其的图案形成方法。本发明的解决手段是一种抗蚀剂材料，包含：双鎓盐，其含有具有与具有碘原子或溴原子的芳香族基团连接的α位或β位具有氟原子或三氟甲基的磺酸阴离子结构及与该具有碘原子或溴原子的芳香族基团经由碳数1以上的连接基团进行键结的磺酰亚胺阴离子结构或磺酰胺阴离子结构的2价阴离子、以及鎓阳离子。
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公开(公告)号：CN111522198B
公开(公告)日：2024-01-26
申请号：CN202010078997.8
申请日：2020-02-03
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明涉及抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明提供在以KrF准分子激光、ArF准分子激光、电子束、极端紫外线等高能射线作为光源的光刻中，光透射性、酸扩散抑制能力优异，DOF、LWR、MEF等光刻性能优异的抗蚀剂组成物、及使用该抗蚀剂组成物的图案形成方法。一种抗蚀剂组成物，包含(A)由下列式(1)表示的锍盐构成的光酸产生剂、(B)对显影液的溶解性会因酸的作用而变化的基础聚合物、及(C)有机溶剂。
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公开(公告)号：CN112824382B
公开(公告)日：2023-09-29
申请号：CN202011302393.3
申请日：2020-11-19
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: C07C381/12 , C07C69/80 , C07C25/18 , C07C69/92 , C07C69/96 , C07D309/12 , C07D333/76 , G03F7/004 , G03F7/039 , G03F7/32
Abstract: 本发明涉及鎓盐化合物、化学增幅抗蚀剂组成物、以及图案形成方法。本发明的课题是提供在以KrF准分子激光、ArF准分子激光、电子束、极紫外线等高能量射线作为光源的光学光刻中，溶解对比度、酸扩散抑制能力优异，CDU、LWR、感度等光刻性能优异的化学增幅抗蚀剂组成物；并提供其所使用的酸扩散抑制剂、及使用该化学增幅抗蚀剂组成物的图案形成方法。该课题的解决手段为下式(1)表示的鎓盐化合物、由该鎓盐化合物构成的酸扩散抑制剂、及含有该酸扩散抑制剂的化学增幅抗蚀剂组成物。#imgabs0#
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公开(公告)号：CN116425626A
公开(公告)日：2023-07-14
申请号：CN202211683249.8
申请日：2022-12-27
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: C07C65/21 , G03F7/00 , G03F7/004 , C07C65/24 , C07D305/06 , C07C59/70 , C07C311/51 , C07C311/09 , C07C69/63 , C07C69/75 , C07C69/753 , C07C69/16 , C07C381/12 , C07D333/08 , C07D335/02 , C07D327/06 , C07D327/08 , C07D335/16 , C07D279/20 , C07D333/76 , C07D339/08 , C07C25/18 , C07C69/76 , C07C69/712 , C07C43/225 , C07C39/367
Abstract: 本发明涉及盐化合物、抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明的课题为提供在使用高能射线的光学光刻中不损及感度且CDU、LWR等光刻性能优异的抗蚀剂组成物、使用于其中的酸扩散抑制剂、以及使用该抗蚀剂组成物的图案形成方法。本发明的解决手段为提供下式(1)或(2)表示的盐化合物、由该盐化合物构成的酸扩散抑制剂、以及包含该酸扩散抑制剂的抗蚀剂组成物。
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