公开(公告)号：CN117986229A

公开(公告)日：2024-05-07

申请号：CN202311428632.3

申请日：2023-10-31

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 大桥正树 ,  畠山润 ,  山平达也 ,  须田祐贵

IPC: C07D333/76 ,  C07D335/16 ,  C07D279/20 ,  C07D279/22 ,  C07D339/08 ,  C07D409/12 ,  C07C69/96 ,  C07C69/753 ,  C07C69/76 ,  C07C69/63 ,  C07C271/28 ,  G03F7/20 ,  G03F7/30 ,  G03F7/004

Abstract: 本发明涉及锍盐、抗蚀剂材料及图案形成方法。本发明提供为正型、负型皆是高感度且LWR、CDU有所改善的抗蚀剂材料、及使用此抗蚀剂材料的图案形成方法。下式(1)表示的锍盐、及包含该锍盐的抗蚀剂材料。#imgabs0#

公开(公告)号：CN118112887A

公开(公告)日：2024-05-31

申请号：CN202311617357.X

申请日：2023-11-29

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 大桥正树 ,  片山和弘 ,  山平达也 ,  大友雄太郎 ,  大山皓介

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  G03F7/20

Abstract: 本发明涉及抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明的课题为提供在使用高能射线的光刻中，抗图案崩塌且极限分辨性优异，又感度、LWR亦经改善的抗蚀剂组成物；以及使用该抗蚀剂组成物的图案形成方法。本发明的解决手段为一种抗蚀剂组成物，包含：(A)含有包含具有酸不稳定基团的重复单元的聚合物的基础聚合物、(B)有机溶剂、及(C)下式(1)表示的鎓盐。zq+xq‑(1)式中，Zq+为锍阳离子、錪阳离子或铵阳离子。Xq‑为阴离子。但，将Xq‑作为共轭碱的酸(XqH)，其沸点未满165℃且分子量是150以下。

公开(公告)号：CN119916645A

公开(公告)日：2025-05-02

申请号：CN202411526803.0

申请日：2024-10-30

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 畠山润 ,  福岛将大 ,  山平达也 ,  大桥正树

IPC: G03F7/039 ,  G03F7/004

Abstract: 本发明涉及正型抗蚀剂材料及图案形成方法。本发明的课题为提供超过已知的正型抗蚀剂材料的高感度、高分辨率，且边缘粗糙度、尺寸偏差小，曝光后的图案形状良好的正型抗蚀剂材料、及图案形成方法。本发明的解决手段为一种正型抗蚀剂材料，包含基础聚合物，该基础聚合物含有：具有经取代或非经取代的羧基及经取代或非经取代的酚性羟基的重复单元a，但，该重复单元a具有选自于非经取代的羧基及非经取代的酚性羟基中的至少1者，具有酸不稳定基团的重复单元b，及具有键结于聚合物主链的磺酸的锍盐或錪盐结构的重复单元c。

公开(公告)号：CN118480025A

公开(公告)日：2024-08-13

申请号：CN202410167953.0

申请日：2024-02-06

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 山平达也 ,  畠山润 ,  藤原敬之 ,  须田祐贵

IPC: C07D333/76 ,  C07D327/08 ,  C07D335/16 ,  C07D279/20 ,  C07D339/08 ,  G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039

Abstract: 本发明涉及锍盐、抗蚀剂材料及图案形成方法。本发明的课题提供无论正型或负型皆为高感度，且LWR、CDU经改善的抗蚀剂材料，以及提供使用其的图案形成方法。该课题的解决手段是一种锍盐，以下式(1)表示，以及提供含有该锍盐的抗蚀剂材料。#imgabs0#