微同轴结构的微延时线芯片的制作方法

    公开(公告)号:CN111883898B

    公开(公告)日:2021-10-15

    申请号:CN202010519992.4

    申请日:2020-06-09

    IPC分类号: H01P11/00

    摘要: 本发明适用于射频微波技术领域,提供了一种微同轴结构的微延时线芯片的制作方法,该方法包括:在第一基片、第二基片和第三基片制备多个第一通孔,第二基片和第三基片制备多个第二通孔;第一基片和第三基片制备位置对应的第一凹槽和第二凹槽;在第二凹槽的两端槽内各制备一个转接支撑结构,每个转接支撑结构内设置第三通孔,在槽底制备第四通孔,第三通孔与第四通孔连通,在第三基片的下表面制备焊盘;在第二基片上制备同轴芯体;将第一基片、第二基片以及第三基片依次键合,获得微同轴结构的微延时线芯片,通过将微延时线芯片中的同轴芯体(传输线)进行转折、绕线或者堆叠等结构形式变换,可以控制传输线的长度同时调节芯片的延时量。

    硅基MEMS滤波器
    6.
    发明公开
    硅基MEMS滤波器 审中-实审

    公开(公告)号:CN115621688A

    公开(公告)日:2023-01-17

    申请号:CN202211248575.6

    申请日:2022-10-12

    IPC分类号: H01P1/20 H01P1/212

    摘要: 本发明提供一种硅基MEMS滤波器,包括:在第一硅基板上表面的第一区域内设有一N阶滤波器、第一U型耦合线、第二U型耦合线、输入馈线和输出馈线;N阶滤波器的一端与第一U型耦合线的一侧连接,第一U型耦合线的另一侧与输入馈线连接;N阶滤波器的另一端与第二U型耦合线的一侧连接,第二U型耦合线的另一侧与输出馈线连接;在第二硅基板的上表面的第二区域内设有第一抑制谐振杆和第二抑制谐振杆,且第一抑制谐振杆垂直位于第一U型耦合线的正上方,第二抑制谐振杆垂直位于第二U型耦合线的正上方,第一U型耦合线和第二U型耦合线的开口方向分别为第一抑制谐振杆和第二抑制谐振杆的长度方向。本发明提供的硅基MEMS滤波器具有较高的矩形系数。

    硅基微同轴结构
    7.
    发明授权

    公开(公告)号:CN111900521B

    公开(公告)日:2021-06-15

    申请号:CN202010519141.X

    申请日:2020-06-09

    IPC分类号: H01P3/00 H01L27/02

    摘要: 本发明适用于射频微波技术领域,提供了一种硅基微同轴结构,包括:上层硅片、中层硅片和下层硅片;所述上层硅片上设置有第一凹槽,在距离所述上层硅片的外边缘第一预设距离的位置截止;所述第一凹槽封闭一端的周围设置有贯穿上下表面的多个第一通孔;所述中层硅片包括U型硅片、芯子硅片、多个左支撑梁硅片和多个右支撑梁硅片,并设置有贯穿上下表面的多个第二通孔;所述下层硅片设置有转接凹槽、第三凹槽、焊盘、转接支撑结构、第三通孔、第四通孔和多个第五通孔;上层硅片、中层硅片和下层硅片通过预设区域的金属层键合,使第一凹槽、U型硅片和第三凹槽形成包围芯子硅片且填充空气的空腔,与芯子硅片构成同轴结构,传输性能好且易于集成。

    硅基微同轴结构
    8.
    发明公开

    公开(公告)号:CN111900521A

    公开(公告)日:2020-11-06

    申请号:CN202010519141.X

    申请日:2020-06-09

    IPC分类号: H01P3/00 H01L27/02

    摘要: 本发明适用于射频微波技术领域,提供了一种硅基微同轴结构,包括:上层硅片、中层硅片和下层硅片;所述上层硅片上设置有第一凹槽,在距离所述上层硅片的外边缘第一预设距离的位置截止;所述第一凹槽封闭一端的周围设置有贯穿上下表面的多个第一通孔;所述中层硅片包括U型硅片、芯子硅片、多个左支撑梁硅片和多个右支撑梁硅片,并设置有贯穿上下表面的多个第二通孔;所述下层硅片设置有转接凹槽、第三凹槽、焊盘、转接支撑结构、第三通孔、第四通孔和多个第五通孔;上层硅片、中层硅片和下层硅片通过预设区域的金属层键合,使第一凹槽、U型硅片和第三凹槽形成包围芯子硅片且填充空气的空腔,与芯子硅片构成同轴结构,传输性能好且易于集成。

    微同轴结构的微延时线芯片的制作方法

    公开(公告)号:CN111883898A

    公开(公告)日:2020-11-03

    申请号:CN202010519992.4

    申请日:2020-06-09

    IPC分类号: H01P11/00

    摘要: 本发明适用于射频微波技术领域,提供了一种微同轴结构的微延时线芯片的制作方法,该方法包括:在第一基片、第二基片和第三基片制备多个第一通孔,第二基片和第三基片制备多个第二通孔;第一基片和第三基片制备位置对应的第一凹槽和第二凹槽;在第二凹槽的两端槽内各制备一个转接支撑结构,每个转接支撑结构内设置第三通孔,在槽底制备第四通孔,第三通孔与第四通孔连通,在第三基片的下表面制备焊盘;在第二基片上制备同轴芯体;将第一基片、第二基片以及第三基片依次键合,获得微同轴结构的微延时线芯片,通过将微延时线芯片中的同轴芯体(传输线)进行转折、绕线或者堆叠等结构形式变换,可以控制传输线的长度同时调节芯片的延时量。