公开(公告)号：CN110957243B

公开(公告)日：2024-08-13

申请号：CN201910915948.2

申请日：2019-09-26

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 守田聪 ,  饱本正巳 ,  森川胜洋 ,  水永耕市 ,  川原幸三

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/687

Abstract: 本发明提供基板处理装置。不给旋转台的旋转带来不良影响就能进行相对于与旋转台一起旋转的电气部件的供电、信号的收发等。具备：旋转台，保持基板并使它旋转；电气部件，设于旋转台并与它一起旋转；第1电极部，设于旋转台并与它一起旋转，第1电极部包括多个第1电极，多个第1电极经由多个第1导电线与电气部件电连接，并以分布于旋转轴线的周围的方式配置；电气设备，进行相对于电气部件的供电、信号的收发等；第2电极部，包括多个第2电极，多个第2电极经由多个第2导电线与电气设备电连接，并设置于分别能够与多个第1电极接触的位置；和电极移动机构，使第1电极部和第2电极部沿着旋转轴线的方向相对移动，而使上述电极部接触、分离。

公开(公告)号：CN112740367B

公开(公告)日：2024-07-26

申请号：CN201980060789.0

申请日：2019-09-26

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 守田聪 ,  饱本正巳 ,  森川胜洋 ,  水永耕市 ,  岩下光秋 ,  金子聪

IPC: H01L21/304 ,  C23C18/31 ,  H01L21/027

Abstract: 本发明提供一种基片处理装置，其包括：将保持基片的旋转台旋转驱动的机构；电加热器，其以与旋转台一起旋转的方式设置于旋转台，对载置于旋转台上的基片进行加热；受电电极，其以与旋转台一起旋转的方式设置于旋转台，且与电加热器电连接；供电电极，其通过与受电电极接触，来经由受电电极对电加热器供给驱动电功率；电极移动机构，其能够使供电电极与受电电极相对地接触和分离；对供电电极供给驱动电功率的供电部；包围旋转台的周围的处理杯状体；对基片供给处理液的至少1个处理液喷嘴；作为处理液至少将非电解镀覆液供给至处理液喷嘴的处理液供给机构；和控制电极移动机构、供电部、旋转驱动机构和处理液供给机构的控制部。

公开(公告)号：CN114188243A

公开(公告)日：2022-03-15

申请号：CN202111334272.1

申请日：2017-03-10

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 天野嘉文 ,  守田聪 ,  池边亮二 ,  宫本勲武

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/687 ,  H01L21/66

Abstract: 提供一种基板处理系统和基板处理装置的管理方法。通过对与基板的周缘部的膜去除有关的信息进行管理，能够长期地稳定地运用基板处理装置。具备：测定处理工序，基于通过由所述拍摄部对基于基板处理制程被处理后的基板的周缘部进行拍摄所得到的拍摄图像，测定所述膜的去除宽度；制作工序，制作将所述膜的去除宽度的设定值、通过所述测定处理工序测定出的膜的去除宽度的测定值以及得到所述测定结果的时刻信息相关联的管理列表；分析工序，基于制作出的所述管理列表来分析基板处理的状态；以及通知工序，根据所述分析工序的分析结果，对使用者进行规定的通知。

公开(公告)号：CN107275201B

公开(公告)日：2022-03-04

申请号：CN201710142173.0

申请日：2017-03-10

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 天野嘉文 ,  守田聪 ,  池边亮二 ,  宫本勲武

IPC: H01L21/304 ,  H01L21/67

Abstract: 提供基板处理装置和基板处理装置的处理方法。使得即使在与基板的周缘部相向的位置配置拍摄装置也能够进行良好的拍摄。进行去除基板(W)的周缘部的膜的处理的基板处理装置(16)具备：旋转保持部(210)，其保持所述基板并使所述基板旋转；第一处理液供给部(250A)，其在通过所述旋转保持部而基板正在向第一旋转方向(R1)旋转时，向所述基板的周缘部供给用于去除所述膜的第一处理液；拍摄部(270)，其设置于比所述基板中的第一处理液的到达区域(902)靠所述第一旋转方向上的上游侧的位置来拍摄所述基板的周缘部。

公开(公告)号：CN110957242A

公开(公告)日：2020-04-03

申请号：CN201910915822.5

申请日：2019-09-26

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 森川胜洋 ,  饱本正巳 ,  守田聪 ,  水永耕市

IPC: H01L21/67

Abstract: 本发明提供一种基板处理装置。相对于基板周围的腐蚀性的环境来保护用于向加热器的供电和加热器的控制的电气部件。基板处理装置具备：旋转驱动机构，其使保持着基板的旋转台绕旋转轴线旋转；处理液喷嘴，其向保持于旋转台的基板的上表面供给处理液；电加热器，其设置于顶板，隔着顶板对基板进行加热；电气部件，其设置于顶板的下表面侧，接收或发送用于向电加热器的供电和电加热器的控制的信号；以及周缘罩体，其与顶板的周缘部连接，与顶板一起旋转。在顶板的下方形成有收纳电气部件的收纳空间，收纳空间被包括顶板和周缘罩体的包围构造物包围，顶板的周缘部与周缘罩体之间被密封。

公开(公告)号：CN102034730B

公开(公告)日：2014-12-03

申请号：CN201010503730.5

申请日：2010-09-30

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 南田纯也 ,  上田一成 ,  长野泰博 ,  黑田修 ,  江岛和善 ,  吉田正宽 ,  守田聪

IPC: H01L21/677 ,  B08B3/00

CPC classification number: H01L21/67051 ,  H01L21/6708 ,  H01L21/67178 ,  H01L21/6719 ,  H01L21/67196 ,  Y10S414/135

Abstract: 本发明提供一种即使在产生故障的情况下也能不停止整个装置地继续基板处理的可能性高的基板处理装置。基板处理装置(1)包括第1、第2处理区(14a、14b)，该第1、第2处理区包括：用于输送基板(W)的第1、第2基板输送机构(141a、141b)；分别设于该基板输送机构(141a、141b)左右两侧，进行相同处理的处理单元的列(U1～U4)。处理单元的列(U1、U3)和另一方侧的处理单元的列(U2、U4)分别与共用化的处理流体的供给系统(3a、3b)连接。而且，在任一基板输送机构(141a、141b)、处理流体的供给系统(3a、3b)产生故障时，仍能用正常工作的基板输送机构(141b、141a)、处理流体的供给系统(3b、3a)所对应的处理单元的列(U1～U4)来处理基板(W)。

公开(公告)号：CN118841346A

公开(公告)日：2024-10-25

申请号：CN202410827977.4

申请日：2019-09-26

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 森川胜洋 ,  饱本正巳 ,  守田聪 ,  水永耕市

IPC: H01L21/67

Abstract: 本发明提供一种基板处理装置。相对于基板周围的腐蚀性的环境来保护用于向加热器的供电和加热器的控制的电气部件。基板处理装置具备：旋转驱动机构，其使保持着基板的旋转台绕旋转轴线旋转；处理液喷嘴，其向保持于旋转台的基板的上表面供给处理液；电加热器，其设置于顶板，隔着顶板对基板进行加热；电气部件，其设置于顶板的下表面侧，接收或发送用于向电加热器的供电和电加热器的控制的信号；以及周缘罩体，其与顶板的周缘部连接，与顶板一起旋转。在顶板的下方形成有收纳电气部件的收纳空间，收纳空间被包括顶板和周缘罩体的包围构造物包围，顶板的周缘部与周缘罩体之间被密封。

公开(公告)号：CN110957241B

公开(公告)日：2024-08-06

申请号：CN201910915803.2

申请日：2019-09-26

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 守田聪 ,  饱本正巳 ,  森川胜洋 ,  水永耕市

IPC: H01L21/67

Abstract: 本发明提供基板处理装置和基板处理方法。在以将基板保持于旋转台的状态进行基板的处理的基板处理中提高基板温度的控制精度。具备：旋转驱动机构，其使保持着基板的旋转台旋转；电加热器，其与旋转台一起旋转地设于旋转台，并加热基板；受电电极，其与旋转台一起旋转地设于旋转台，与电加热器电连接；供电电极，其与受电电极接触而经由它向电加热器供给驱动电力；电极移动机构，其使供电电极和受电电极相对接触、分离；供电部，其向供电电极供给驱动电力；处理杯，其包围旋转台的周围；至少1个处理液喷嘴，其向基板供给处理液；处理液供给机构，其向处理液喷嘴供给处理液；控制部，其控制电极移动机构、供电部、旋转驱动机构以及处理液供给机构。

公开(公告)号：CN110957242B

公开(公告)日：2024-07-12

申请号：CN201910915822.5

申请日：2019-09-26

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 森川胜洋 ,  饱本正巳 ,  守田聪 ,  水永耕市

IPC: H01L21/67

Abstract: 本发明提供一种基板处理装置。相对于基板周围的腐蚀性的环境来保护用于向加热器的供电和加热器的控制的电气部件。基板处理装置具备：旋转驱动机构，其使保持着基板的旋转台绕旋转轴线旋转；处理液喷嘴，其向保持于旋转台的基板的上表面供给处理液；电加热器，其设置于顶板，隔着顶板对基板进行加热；电气部件，其设置于顶板的下表面侧，接收或发送用于向电加热器的供电和电加热器的控制的信号；以及周缘罩体，其与顶板的周缘部连接，与顶板一起旋转。在顶板的下方形成有收纳电气部件的收纳空间，收纳空间被包括顶板和周缘罩体的包围构造物包围，顶板的周缘部与周缘罩体之间被密封。

公开(公告)号：CN110957256B

公开(公告)日：2024-07-02

申请号：CN201910915946.3

申请日：2019-09-26

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 水永耕市 ,  饱本正巳 ,  守田聪 ,  森川胜洋

IPC: H01L21/687 ,  H01L21/683 ,  H01L21/677 ,  H01L21/67

Abstract: 本发明提供一种基板处理装置。能够在以将基板吸附于旋转台的状态进行基板的处理的基板处理装置中，容易地更换旋转台中的、与基板接触的部分。基板处理装置具备：旋转台，其具备：底座，其具有设置有至少1个抽吸口的表面；和吸附板，其具有：表面，其与基板的非处理面接触而吸附基板；背面，其与底座的表面接触；以及至少1个贯通孔，其将表面和背面连接；旋转驱动机构，其使旋转台绕旋转轴线旋转；以及抽吸部，其使抽吸力作用于底座的抽吸口，通过使抽吸力作用于所述底座与所述吸附板之间，从而使底座与吸附板密合，且通过使抽吸力经由至少1个贯通孔作用于吸附板与基板之间，从而使吸附板与基板密合。