-
公开(公告)号：CN105575849B
公开(公告)日：2020-08-04
申请号：CN201510718230.6
申请日：2015-10-29
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67 , H01L21/677
Abstract: 本发明提供一种基板处理装置。本发明要解决的问题在于进一步抑制微粒附着于基板。实施方式的基板处理装置包括输入输出室、输送室和交接室。输入输出室用于从承载件输入基板或者将基板输出至承载件。输送室形成有用于向基板处理室输送基板的输送路径，该基板处理室用于对基板实施规定的处理。交接室配置在输入输出室与输送室之间，用于基板的在输入输出室与输送室之间的交接。并且，交接室的内压高于输入输出室的内压和输送室的内压。
-
公开(公告)号：CN111415884A
公开(公告)日：2020-07-14
申请号：CN202010019383.2
申请日：2020-01-08
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明提供一种基板处理装置。该基板处理装置可靠地进行基板处理装置内的空间的气氛调整并且削减气氛调整用的气体的使用量。基板处理装置包括：控制基板处理区的处理区域内的气氛的第1气氛控制系统和控制基板处理区的基板输送区域内的气氛的第2气氛控制系统。第1气氛控制系统在利用各液体处理单元进行液体处理时，利用第1气体供给部向该液体处理单元供给气氛控制气体，并且利用第1气体排出部排出该液体处理单元内的气氛。第2气氛控制系统使气氛调整气体在属于该第2气氛控制系统的循环系统内循环，并且在液体处理单元中的至少一个液体处理单元于基板输送区域开放时，利用第2气体排出部排出第2气氛控制系统的循环系统内的气氛。
-
公开(公告)号：CN111415884B
公开(公告)日：2024-04-09
申请号：CN202010019383.2
申请日：2020-01-08
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明提供一种基板处理装置。该基板处理装置可靠地进行基板处理装置内的空间的气氛调整并且削减气氛调整用的气体的使用量。基板处理装置包括：控制基板处理区的处理区域内的气氛的第1气氛控制系统和控制基板处理区的基板输送区域内的气氛的第2气氛控制系统。第1气氛控制系统在利用各液体处理单元进行液体处理时，利用第1气体供给部向该液体处理单元供给气氛控制气体，并且利用第1气体排出部排出该液体处理单元内的气氛。第2气氛控制系统使气氛调整气体在属于该第2气氛控制系统的循环系统内循环，并且在液体处理单元中的至少一个液体处理单元于基板输送区域开放时，利用第2气体排出部排出第2气氛控制系统的循环系统内的气氛。
-
公开(公告)号：CN116682763A
公开(公告)日：2023-09-01
申请号：CN202310746612.4
申请日：2017-08-24
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供一种基板处理装置。实施方式的基板处理装置具备多个处理单元和气体供给部。多个处理单元层叠地配置，并在腔室内保持基板而利用处理液对基板进行液处理。气体供给部针对每个处理单元设置，并向处理单元的内部供给气体。另外，气体供给部包括引进部和供气部。引进部引进外部空气而使该外部空气清洁化。供气部将被引进部清洁化后的清洁空气向处理单元的内部供气。另外，引进部配置于腔室的侧方，并且，在层叠地配置的处理单元之间配置于腔室的同一侧面。
-
公开(公告)号：CN114551307A
公开(公告)日：2022-05-27
申请号：CN202111289481.9
申请日：2021-11-02
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/677 , H01L21/67
Abstract: 本发明提供基板处理装置和基板处理方法。对于具备间距变换机构的基板处理装置削减基板的交接次数。基板处理装置包括：基板保持部，其将多个基板互相平行地以第1等间距保持；基板输送装置，其自基板收纳容器将以第2等间距收纳的多个基板一起取出；以及移载机构，其自基板输送装置接收以第2等间距排列的基板，并将间距转换成第1等间距，将间距转换完成的基板向基板保持部传递。移载机构具有：间距转换单元，其具有多个卡盘和将卡盘彼此之间的间隔在第1等间距与第2等间距之间变更的间距变换机构；以及移动机构，其使间距转换单元在基板输送装置与间距转换单元之间的基板交接位置和间距转换单元与基板保持部之间的基板交接位置之间移动。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN110137121B
公开(公告)日：2024-03-26
申请号：CN201910105615.3
申请日：2019-02-01
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/677
Abstract: 提供一种基板处理装置。可靠地进行需要区域的气氛调整，同时削减气氛调整用气体使用量。基板处理装置具备：处理单元，其对基板实施处理；输送空间，其在容器输入输出部与处理单元间输送基板；基板输送机构，其在输送空间内容器输入输出部与处理单元间输送基板；第1气体供给路径，其向处理单元供给气氛调整气体；第1气体排出路径，其从处理单元排出气氛调整气体；循环路径，其与输送空间连接，使从输送空间流出的气氛调整气体返回输送空间；第2气体供给路径，其向由输送空间和循环路径构成的循环系统供给气氛调整气体；及第2气体排出路径，其从循环系统排出气氛调整气体。
-
公开(公告)号：CN107785291A
公开(公告)日：2018-03-09
申请号：CN201710733225.1
申请日：2017-08-24
Applicant: 东京毅力科创株式会社
CPC classification number: H01L21/67178 , H01L21/67017 , H01L21/67023 , H01L21/67173 , H01L21/6719 , H01L21/67742 , H01L21/67051 , B08B3/02
Abstract: 本发明提供一种谋求更加省空间化的基板处理装置。实施方式的基板处理装置具备多个处理单元和气体供给部。多个处理单元层叠地配置，并在腔室内保持基板而利用处理液对基板进行液处理。气体供给部针对每个处理单元设置，并向处理单元的内部供给气体。另外，气体供给部包括引进部和供气部。引进部引进外部空气而使该外部空气清洁化。供气部将被引进部清洁化后的清洁空气向处理单元的内部供气。另外，引进部配置于腔室的侧方，并且，在层叠地配置的处理单元之间配置于腔室的同一侧面。
-
公开(公告)号：CN102054664B
公开(公告)日：2014-10-01
申请号：CN201010535057.3
申请日：2010-11-04
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/00
CPC classification number: H01L21/67196 , H01L21/67778
Abstract: 本发明提供一种用于降低制造成本和消耗能量的基板处理装置。在本发明中，包括：用于交接被收容于搬运器(3)的基板(2)的基板搬入搬出部(基板交接室(12))；经由基板搬入搬出口(37(39))与上述基板搬入搬出部连通的基板输送室(14(25))；沿着上述基板输送室(14(25))配置的多个基板处理室(15～24(26～35))；收容在上述基板输送室(14(25))的内部并用于在上述基板搬入搬出部和上述基板处理室(15～24(26～35))之间输送上述基板(2)的基板输送装置(36(38))；用于使清洁空气沿着上述基板输送室(14(25))流动的清洁空气流动部件(41(42))。
-
公开(公告)号：CN107785291B
公开(公告)日：2023-08-01
申请号：CN201710733225.1
申请日：2017-08-24
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供一种谋求更加省空间化的基板处理装置。实施方式的基板处理装置具备多个处理单元和气体供给部。多个处理单元层叠地配置，并在腔室内保持基板而利用处理液对基板进行液处理。气体供给部针对每个处理单元设置，并向处理单元的内部供给气体。另外，气体供给部包括引进部和供气部。引进部引进外部空气而使该外部空气清洁化。供气部将被引进部清洁化后的清洁空气向处理单元的内部供气。另外，引进部配置于腔室的侧方，并且，在层叠地配置的处理单元之间配置于腔室的同一侧面。
-
公开(公告)号：CN104752279B
公开(公告)日：2019-04-09
申请号：CN201410834589.5
申请日：2014-12-26
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67 , H01L21/677
Abstract: 本发明提供一种能够谋求生产率的提高的基板处理装置。实施方式的基板处理装置包括多个处理单元以及基板输送装置。多个处理单元在铅垂方向上并排地配置，用于处理基板。基板输送装置能够在铅垂方向上移动，用于进行基板相对于处理单元的送入送出。另外，基板输送装置包括第1输送臂和第2输送臂，第1输送臂和第2输送臂在铅垂方向上并排地配置，并且，在铅垂方向上的可移动范围互相重叠且能独立地在铅垂方向上移动。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
21
records
(took 0.023 seconds)
