公开(公告)号：CN116646300A

公开(公告)日：2023-08-25

申请号：CN202310536013.X

申请日：2017-06-13

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 森川胜洋 ,  松岛祐大

IPC: H01L21/687 ,  H01L21/677 ,  H01L21/67

Abstract: 本发明提供一种基板输送装置和基板输送方法。抑制从基板的周缘部产生灰尘，并且防止对处理后的基板带来处理前的基板的不良影响。实施方式所涉及的基板输送装置具备第一支承部和第二支承部以及升降机构。第一支承部和第二支承部从基板的下方支承基板。升降机构使第二支承部在第一位置与第二位置之间升降，其中，该第一位置是比固定式的第一支承部的高度高的位置，该第二位置是比第一支承部的高度低的位置。

公开(公告)号：CN114496884A

公开(公告)日：2022-05-13

申请号：CN202111211452.0

申请日：2021-10-18

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 立花康三 ,  森川胜洋 ,  水永耕市 ,  饱本正巳 ,  根岸康介

IPC: H01L21/683 ,  H01L21/67 ,  H01L21/306

Abstract: 本发明提供基板处理方法和基板处理装置。在使基板吸附于利用加热器加热的基板台并进行基板处理时，降低基板的吸附时产生于基板的背面的损伤。基板处理方法为在基板处理装置中对基板进行液处理的方法，该基板处理装置包括：基板台，其吸附所述基板；加热器，其加热所述基板台；以及处理液喷嘴，其向吸附于所述基板台的所述基板供给处理液，其中，该基板处理方法包括：吸附工序，在该吸附工序中，在所述基板与所述基板台之间没有温度差或温度差在预先确定的范围内时，利用所述基板台吸附所述基板；以及所述吸附工序之后的处理液供给工序，在该处理液供给工序中，自所述处理液喷嘴向吸附于利用所述加热器加热的所述基板台的所述基板供给处理液。

公开(公告)号：CN107492516A

公开(公告)日：2017-12-19

申请号：CN201710443410.7

申请日：2017-06-13

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 森川胜洋 ,  松岛祐大

IPC: H01L21/677

CPC classification number: H01L21/68707 ,  H01L21/67265 ,  H01L21/67766 ,  H01L21/67778 ,  H01L21/67781 ,  H01L21/68742 ,  H01L21/67742

Abstract: 本发明提供一种基板输送装置和基板输送方法。抑制从基板的周缘部产生灰尘，并且防止对处理后的基板带来处理前的基板的不良影响。实施方式所涉及的基板输送装置具备第一支承部和第二支承部以及升降机构。第一支承部和第二支承部从基板的下方支承基板。升降机构使第二支承部在第一位置与第二位置之间升降，其中，该第一位置是比固定式的第一支承部的高度高的位置，该第二位置是比第一支承部的高度低的位置。

公开(公告)号：CN104854689B

公开(公告)日：2017-03-15

申请号：CN201380064421.4

申请日：2013-12-10

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 森川胜洋 ,  须中郁雄 ,  榎木田卓

IPC: H01L21/677 ,  H01L21/02

CPC classification number: H01L21/67772 ,  H01L21/67253 ,  H01L21/67766 ,  H01L21/67769 ,  H01L21/67775 ,  H01L21/67778

Abstract: 基板处理装置包括：装载部，向该装载部输入基板的输送容器；以及装置控制器，其用于对所述装载部中的操作进行控制。装置控制器具有存储部，该存储部用于根据输送容器的识别符号来存储自外部发送过来的参数值的推移数据。参数值的推移数据是通过将该输送容器的使用次数与将以下操作中的至少一个操作的结果数值化而得到的参数值相关联而得到的，即，为了向装载部输入所述输送容器并将盖体拆卸而进行的操作和为了将该输送容器自装载部输出而进行的操作。装置控制器还具有判断部，该判断部根据与输送容器的输入和输出中的至少一者相对应的所述参数值以及与该输送容器有关的所述参数值的过去的推移数据来判断该输送容器有无异常。

公开(公告)号：CN101901777A

公开(公告)日：2010-12-01

申请号：CN201010141873.6

申请日：2010-03-31

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 中野征二 ,  松下道明 ,  饭田成昭 ,  榎木田卓 ,  森川胜洋

IPC: H01L21/683 ,  H01L21/677 ,  H01L21/00

CPC classification number: H01L21/67742 ,  H01L21/68707

Abstract: 本发明提供基板支承装置及基板支承方法。该基板支承装置能够防止由于由与基板的接触引起的磨损及由基板带来的药品的化学性侵蚀而无法正常地支承基板。该基板支承装置包括：支承构件，其具有支承基板背面的背面支承部；位置限制部，其设置于该支承构件上，包围被上述背面支承部支承的基板的侧面，用于限制基板的位置；上述背面支承部及上述位置限制部中的至少一个由基材和保护膜构成，该保护膜包覆该基材，用于防止该基材的磨损及化学性侵蚀中的至少一种。该基板支承装置例如还包括支承上述支承构件的基体和用于使支承构件相对于上述基体移动的驱动机构，构成为基板输送装置。上述支承构件例如构成为用于对基板进行加热或冷却的温度调整板。

公开(公告)号：CN1925125A

公开(公告)日：2007-03-07

申请号：CN200610128533.3

申请日：2006-09-01

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 中原田雅弘 ,  石田省贵 ,  山本太郎 ,  森川胜洋

IPC: H01L21/677 ,  H01L21/687 ,  G03F7/00

CPC classification number: G03D3/08 ,  H01L21/67126 ,  H01L21/68707 ,  Y10S414/141

Abstract: 本发明提供一种能够抑制由于基板背面附着的液滴引起的液滴重新附着在基板上等污染的基板搬送装置。该基板搬送装置具有对液浸曝光后的基板进行搬送的臂主体，其特征在于，包括：设置在上述臂主体上，支撑基板背面的周边的内侧的支撑部；为了限制上述基板的周边的位置，设置在隔着上述基板的周边与上述支撑部相对的位置的限制部；和在上述支撑部和限制部之间的基板背面的下方位置设置的液体接收部。基板背面的周边部附着的液滴能够落到液体接收部上。因此，即使反复进行基板的搬送，液滴积蓄在液体接收部中，由于基板的周边不与液体接收部碰撞，所以也可抑制该液滴飞散并附着在基板的表面上。

公开(公告)号：CN118841346A

公开(公告)日：2024-10-25

申请号：CN202410827977.4

申请日：2019-09-26

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 森川胜洋 ,  饱本正巳 ,  守田聪 ,  水永耕市

IPC: H01L21/67

Abstract: 本发明提供一种基板处理装置。相对于基板周围的腐蚀性的环境来保护用于向加热器的供电和加热器的控制的电气部件。基板处理装置具备：旋转驱动机构，其使保持着基板的旋转台绕旋转轴线旋转；处理液喷嘴，其向保持于旋转台的基板的上表面供给处理液；电加热器，其设置于顶板，隔着顶板对基板进行加热；电气部件，其设置于顶板的下表面侧，接收或发送用于向电加热器的供电和电加热器的控制的信号；以及周缘罩体，其与顶板的周缘部连接，与顶板一起旋转。在顶板的下方形成有收纳电气部件的收纳空间，收纳空间被包括顶板和周缘罩体的包围构造物包围，顶板的周缘部与周缘罩体之间被密封。

公开(公告)号：CN110957241B

公开(公告)日：2024-08-06

申请号：CN201910915803.2

申请日：2019-09-26

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 守田聪 ,  饱本正巳 ,  森川胜洋 ,  水永耕市

IPC: H01L21/67

Abstract: 本发明提供基板处理装置和基板处理方法。在以将基板保持于旋转台的状态进行基板的处理的基板处理中提高基板温度的控制精度。具备：旋转驱动机构，其使保持着基板的旋转台旋转；电加热器，其与旋转台一起旋转地设于旋转台，并加热基板；受电电极，其与旋转台一起旋转地设于旋转台，与电加热器电连接；供电电极，其与受电电极接触而经由它向电加热器供给驱动电力；电极移动机构，其使供电电极和受电电极相对接触、分离；供电部，其向供电电极供给驱动电力；处理杯，其包围旋转台的周围；至少1个处理液喷嘴，其向基板供给处理液；处理液供给机构，其向处理液喷嘴供给处理液；控制部，其控制电极移动机构、供电部、旋转驱动机构以及处理液供给机构。

公开(公告)号：CN110957242B

公开(公告)日：2024-07-12

申请号：CN201910915822.5

申请日：2019-09-26

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 森川胜洋 ,  饱本正巳 ,  守田聪 ,  水永耕市

IPC: H01L21/67

Abstract: 本发明提供一种基板处理装置。相对于基板周围的腐蚀性的环境来保护用于向加热器的供电和加热器的控制的电气部件。基板处理装置具备：旋转驱动机构，其使保持着基板的旋转台绕旋转轴线旋转；处理液喷嘴，其向保持于旋转台的基板的上表面供给处理液；电加热器，其设置于顶板，隔着顶板对基板进行加热；电气部件，其设置于顶板的下表面侧，接收或发送用于向电加热器的供电和电加热器的控制的信号；以及周缘罩体，其与顶板的周缘部连接，与顶板一起旋转。在顶板的下方形成有收纳电气部件的收纳空间，收纳空间被包括顶板和周缘罩体的包围构造物包围，顶板的周缘部与周缘罩体之间被密封。

公开(公告)号：CN110957256B

公开(公告)日：2024-07-02

申请号：CN201910915946.3

申请日：2019-09-26

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 水永耕市 ,  饱本正巳 ,  守田聪 ,  森川胜洋

IPC: H01L21/687 ,  H01L21/683 ,  H01L21/677 ,  H01L21/67

Abstract: 本发明提供一种基板处理装置。能够在以将基板吸附于旋转台的状态进行基板的处理的基板处理装置中，容易地更换旋转台中的、与基板接触的部分。基板处理装置具备：旋转台，其具备：底座，其具有设置有至少1个抽吸口的表面；和吸附板，其具有：表面，其与基板的非处理面接触而吸附基板；背面，其与底座的表面接触；以及至少1个贯通孔，其将表面和背面连接；旋转驱动机构，其使旋转台绕旋转轴线旋转；以及抽吸部，其使抽吸力作用于底座的抽吸口，通过使抽吸力作用于所述底座与所述吸附板之间，从而使底座与吸附板密合，且通过使抽吸力经由至少1个贯通孔作用于吸附板与基板之间，从而使吸附板与基板密合。