公开(公告)号：CN114496884A

公开(公告)日：2022-05-13

申请号：CN202111211452.0

申请日：2021-10-18

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 立花康三 ,  森川胜洋 ,  水永耕市 ,  饱本正巳 ,  根岸康介

IPC: H01L21/683 ,  H01L21/67 ,  H01L21/306

Abstract: 本发明提供基板处理方法和基板处理装置。在使基板吸附于利用加热器加热的基板台并进行基板处理时，降低基板的吸附时产生于基板的背面的损伤。基板处理方法为在基板处理装置中对基板进行液处理的方法，该基板处理装置包括：基板台，其吸附所述基板；加热器，其加热所述基板台；以及处理液喷嘴，其向吸附于所述基板台的所述基板供给处理液，其中，该基板处理方法包括：吸附工序，在该吸附工序中，在所述基板与所述基板台之间没有温度差或温度差在预先确定的范围内时，利用所述基板台吸附所述基板；以及所述吸附工序之后的处理液供给工序，在该处理液供给工序中，自所述处理液喷嘴向吸附于利用所述加热器加热的所述基板台的所述基板供给处理液。

公开(公告)号：CN114664691A

公开(公告)日：2022-06-24

申请号：CN202111524719.1

申请日：2021-12-14

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 根岸康介

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/306

Abstract: 本发明提供一种基片处理装置和基片处理方法，能降低从用于将磷酸水溶液与析出抑制剂混合的混合装置排出而在排气通道中流动的气体中的可燃气体浓度，基片处理装置包括处理槽、混合装置、加热部、送液路径、排气风扇、排气通道和控制部。处理槽用于将基片浸渍在处理液中进行处理。混合装置将磷酸水溶液与包含有机溶剂的添加剂混合，生成作为所述处理液的原料的混合液。加热部设置于混合装置，对混合液进行加热。送液路径将混合液从混合装置输送到处理槽。排气风扇对混合装置内的气体进行排气。排气通道用于引导从混合装置内排出的气体。控制部对各部分进行控制。并且，控制部利用排气风扇调节从混合装置向排气通道排出的气体的排气量。