公开(公告)号：CN114388326A

公开(公告)日：2022-04-22

申请号：CN202111143115.2

申请日：2021-09-28

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 山泽阳平 ,  齐藤武尚 ,  藤原直树 ,  藤原香 ,  仓科大辅 ,  保坂勇贵

IPC: H01J37/32

Abstract: 本发明涉及等离子体处理装置和天线组件。使进行等离子体处理时的电场强度降低，并且使对基板而言的等离子体分布的均匀性提高。等离子体处理装置具有：主线圈，其设于等离子体处理腔室的上部或上方；和副线圈组件，其设于主线圈的径向内侧或径向外侧。副线圈组件包含第1螺旋状线圈和第2螺旋状线圈。第1螺旋状线圈的各匝部和第2螺旋状线圈的各匝部在铅垂方向上交替地配置。第1螺旋状线圈的第1上侧端子借助一个以上的电容器连接于接地电位，第1螺旋状线圈的第1下侧端子连接于接地电位。第2螺旋状线圈的第2上侧端子借助一个以上的电容器或一个以上的其他的电容器连接于接地电位，第2螺旋状线圈的第2下侧端子连接于接地电位。

公开(公告)号：CN109075064A

公开(公告)日：2018-12-21

申请号：CN201780024736.4

申请日：2017-04-10

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 松本和也 ,  保坂勇贵 ,  大秦充敬 ,  山本高志

IPC: H01L21/3065 ,  H01L21/683 ,  H05H1/46

Abstract: 等离子体处理装置具备：支承构造体，其支承被加工物；以及第1驱动装置，其构成为，使支承构造体绕沿着与铅垂方向正交的方向延伸的第1轴线旋转。支承构造体具有：保持部，其包括静电卡盘；以及容器，其设置到保持部的下侧。容器具有：筒状的容器主体；底盖，其封堵容器主体的下侧开口，构成为能够相对于容器主体拆卸。保养方法包括如下工序：使支承构造体绕第1轴线旋转、以使底盖相对于静电卡盘位于上方的工序；将底盖从容器主体拆卸的工序；以及对设置到容器主体内的零部件进行保养的工序。

公开(公告)号：CN109075063A

公开(公告)日：2018-12-21

申请号：CN201780024567.4

申请日：2017-04-10

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 松本和也 ,  保坂勇贵 ,  大秦充敬 ,  山本高志

IPC: H01L21/3065 ,  H01L21/683 ,  H05H1/46

Abstract: 等离子体处理装置具备：腔室主体，其提供腔室；支承构造体，其在腔室主体内支承被加工物；以及第1驱动装置，其构成为，使支承构造体在腔室主体内绕沿着与铅垂方向正交的方向延伸的第1轴线旋转。支承构造体具有：保持部，其包括保持被加工物的静电卡盘，设置成能够绕与第1轴线正交的第2轴线旋转；容器，其设置到保持部的下侧；以及第2驱动装置，其构成为，使保持部绕第2轴线旋转。容器具有筒状的容器主体和使容器主体的下侧开口封闭的底盖。底盖能够从容器主体拆卸。

公开(公告)号：CN108369909A

公开(公告)日：2018-08-03

申请号：CN201680073889.3

申请日：2016-12-02

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 保坂勇贵 ,  梅泽义弘 ,  中岛俊希 ,  宇田真代

IPC: H01L21/3065 ,  H05H1/46

CPC classification number: H01L21/3065 ,  H05H1/46

Abstract: 等离子体处理装置(10)包括：隔挡件(61)、遮闭件(62)和驱动装置(70)。隔挡件(61)为圆筒形，在侧壁形成有多个贯通孔(61h)。遮闭件(62)为圆筒形，在隔挡件(61)的轴向上沿隔挡件(61)的侧壁可移动地设置于隔挡件(61)的周围。驱动装置(70)使遮闭件(62)沿隔挡件(61)的侧壁移动。多个贯通孔(61h)以遮闭件(62)越向下方移动，与遮闭件(62)的移动量对应的、没有被遮闭件(62)覆盖的合成传导率的变化量越增加的方式配置于隔挡件(61)的侧壁。

公开(公告)号：CN102683148B

公开(公告)日：2015-04-01

申请号：CN201210039725.2

申请日：2012-02-21

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 保坂勇贵 ,  古谷直一 ,  大秦充敬

IPC: H01J37/32

CPC classification number: H01J37/32577 ,  H01J37/32422 ,  H01J37/32568 ,  H01J37/32623

Abstract: 本发明提供一种等离子体处理装置。该等离子体处理装置与以往相比能够更细致地控制等离子体。该等离子体处理装置包括：第一接地构件，其由导电性材料形成，整体形状形成为环状，以至少一部分暴露于处理空间的方式配置在处理腔室内，用于形成接地电位；第二接地构件，其与第一接地构件相对地设置在形成于处理腔室下部的排气空间内，由导电性材料形成，整体形状形成为环状，至少一部分暴露于排气空间，用于形成接地电位；接地棒，其在第一接地构件与第二接地构件之间上下运动，与第一接地构件及第二接地构件中的任一个接触，能够调整第一接地构件及第二接地构件的接地状态。

公开(公告)号：CN109075064B

公开(公告)日：2023-01-06

申请号：CN201780024736.4

申请日：2017-04-10

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 松本和也 ,  保坂勇贵 ,  大秦充敬 ,  山本高志

IPC: H01L21/3065 ,  H01L21/683 ,  H05H1/46

Abstract: 等离子体处理装置具备：支承构造体，其支承被加工物；以及第1驱动装置，其构成为，使支承构造体绕沿着与铅垂方向正交的方向延伸的第1轴线旋转。支承构造体具有：保持部，其包括静电卡盘；以及容器，其设置到保持部的下侧。容器具有：筒状的容器主体；底盖，其封堵容器主体的下侧开口，构成为能够相对于容器主体拆卸。保养方法包括如下工序：使支承构造体绕第1轴线旋转、以使底盖相对于静电卡盘位于上方的工序；将底盖从容器主体拆卸的工序；以及对设置到容器主体内的零部件进行保养的工序。

公开(公告)号：CN106463391B

公开(公告)日：2019-08-02

申请号：CN201580025777.6

申请日：2015-06-05

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 保坂勇贵 ,  梅泽義弘 ,  中岛俊希

IPC: H01L21/3065 ,  H01L21/205

CPC classification number: H01L21/67069 ,  H01J37/32449 ,  H01J37/32633 ,  H01J37/32715 ,  H01J37/32834 ,  H01J2237/334 ,  H01L21/02274 ,  H01L21/31116 ,  H01L21/6719

Abstract: 在一个实施方式的等离子体处理装置中，在载置台与处理容器之间设置有挡板构造。挡板构造具有第一构件和第二构件。第一构件具有在载置台与处理容器之间延伸的第一圆筒部，在铅垂方向上长的多个贯通孔以沿周向排列的方式形成于该第一圆筒部。第二构件具有第二圆筒部，该第二圆筒部具有比第一构件的圆筒部的外径大的内径。第二构件通过驱动装置而在包括第一构件与处理容器之间的间隙的区域中上下移动。

公开(公告)号：CN106463391A

公开(公告)日：2017-02-22

申请号：CN201580025777.6

申请日：2015-06-05

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 保坂勇贵 ,  梅泽義弘 ,  中岛俊希

IPC: H01L21/3065 ,  H01L21/205

CPC classification number: H01L21/67069 ,  H01J37/32449 ,  H01J37/32633 ,  H01J37/32715 ,  H01J37/32834 ,  H01J2237/334 ,  H01L21/02274 ,  H01L21/31116 ,  H01L21/6719

Abstract: 在一个实施方式的等离子体处理装置中，在载置台与处理容器之间设置有挡板构造。挡板构造具有第一构件和第二构件。第一构件具有在载置台与处理容器之间延伸的第一圆筒部，在铅垂方向上长的多个贯通孔以沿周向排列的方式形成于该第一圆筒部。第二构件具有第二圆筒部，该第二圆筒部具有比第一构件的圆筒部的外径大的内径。第二构件通过驱动装置而在包括第一构件与处理容器之间的间隙的区域中上下移动。

公开(公告)号：CN115116814A

公开(公告)日：2022-09-27

申请号：CN202210222843.0

申请日：2022-03-07

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 郑和俊 ,  大秦充敬 ,  保坂勇贵 ,  郑完崧

IPC: H01J37/32

Abstract: 本发明提供一种等离子体处理装置和等离子体处理方法。本发明的等离子体处理装置包括：等离子体处理腔室；配置在等离子体处理腔室内的基片支承部；环状挡板，其以包围基片支承部的方式配置，且具有多个开口；第一环状板，其配置在环状挡板的下方；第二环状板，其配置在第一环状板的下方，具有环状重叠部分，环状重叠部分与第一环状板的一部分在纵向上重叠；压力检测器，其构成为能够检测等离子体处理腔室内的压力；和至少1个致动器，其构成为能够基于检测出的压力来使第一环状板和第二环状板中的至少一者在纵向上移动，以变更第一环状板与第二环状板之间的距离。根据本发明，能够在短时间内控制处理腔室的内部压力。

公开(公告)号：CN108369909B

公开(公告)日：2022-07-01

申请号：CN201680073889.3

申请日：2016-12-02

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 保坂勇贵 ,  梅泽义弘 ,  中岛俊希 ,  宇田真代

IPC: H01L21/3065 ,  H05H1/46

Abstract: 等离子体处理装置(10)包括：隔挡件(61)、遮闭件(62)和驱动装置(70)。隔挡件(61)为圆筒形，在侧壁形成有多个贯通孔(61h)。遮闭件(62)为圆筒形，在隔挡件(61)的轴向上沿隔挡件(61)的侧壁可移动地设置于隔挡件(61)的周围。驱动装置(70)使遮闭件(62)沿隔挡件(61)的侧壁移动。多个贯通孔(61h)以遮闭件(62)越向下方移动，与遮闭件(62)的移动量对应的、没有被遮闭件(62)覆盖的的合成传导率的变化量越增加的方式配置于隔挡件(61)的侧壁。