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公开(公告)号：CN119162565A
公开(公告)日：2024-12-20
申请号：CN202411587405.X
申请日：2024-11-08
Applicant: 华中科技大学
IPC: C23C16/455 , C23C16/04 , C23C16/40
Abstract: 本申请涉及一种选择性原子层沉积方法，包括如下步骤：提供衬底，衬底的表面上设置有图案化的金属层；对衬底进行多次第一循环处理；第一循环处理包括如下步骤：使用自组装分子层材料于金属层的表面上形成阻隔层；于衬底未被金属层覆盖的表面上沉积金属氧化物层；去除阻隔层。该选择性原子层沉积方法能够减少阻隔层中出现表面损伤或者引入杂质和污染的问题，能够实现在每一个第一循环处理的周期内的阻隔层的生长质量的一致性和稳定性，进而使阻隔层具有较好的阻挡效果，提高选择性原子层沉积的选择性。
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公开(公告)号：CN119121188A
公开(公告)日：2024-12-13
申请号：CN202411327088.8
申请日：2024-09-23
Applicant: 华中科技大学
IPC: C23C16/455 , C23C16/34 , C23C16/52
Abstract: 本申请涉及一种氮化钽选择性沉积方法，包括如下步骤：对衬底进行至少一次沉积循环，衬底的表面上具有金属区域和介电氧化物区域，单次沉积循环包括如下步骤：将衬底置于包括有机钽前驱体的气体氛围中，在250℃~300℃下进行第一处理；将第一处理后的衬底置于包括含氮前驱体的气体氛围中，在250℃~300℃下进行第二处理。上述氮化钽选择性沉积方法中，控制第一处理和第二处理的温度均在250℃~300℃范围内，并通过有机钽前驱体和含氮前驱体进行氮化钽的制备。在该温度范围内，能够实现氮化钽在金属区域和介电氧化物区域内的生长速率具有较大的差异，从而实现氮化钽的选择性沉积。本申请的氮化钽选择性沉积方法不需要额外制备阻隔层，操作工艺简单。
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公开(公告)号：CN118858810A
公开(公告)日：2024-10-29
申请号：CN202410951710.6
申请日：2024-07-16
Applicant: 华中科技大学
IPC: G01R31/00 , C23C16/455 , G01R13/00 , G01R19/00 , G01L11/00
Abstract: 本申请涉及一种前驱体脉冲时间测量系统及其测量方法、测量装置和原子层沉积系统。该测量系统应用于原子层沉积系统，原子层沉积系统包括依次连通的储气罐、电磁阀和自动泄漏减压阀，测量系统包括：压力传感器和示波器；其中，压力传感器用于检测电磁阀的压力；示波器的输入端与压力传感器的输出端连接，用于输出表征电磁阀的压力的电压波形；其中，前驱体脉冲时间为两个相邻的第一时间节点和第二时间节点之间的差值，第一时间节点为电压波形的幅值上升至第一预设阈值时对应的时间数据；第二时间节点为电压波形的幅值下降至第二预设阈值时对应的时间数据，第一预设阈值大于第二预设阈值。采用该测量系统能够准确测量前驱体脉冲时间。
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公开(公告)号：CN118390024A
公开(公告)日：2024-07-26
申请号：CN202410452605.8
申请日：2024-04-16
Applicant: 华中科技大学
IPC: C23C16/455
Abstract: 本申请涉及一种两级喷淋的原子层沉积装备及沉积方法。两级喷淋的原子层沉积装备包括腔室；喷淋装置，至少部分设于腔室，喷淋装置包括自上而下依次连通的喷淋头、等离子体发生器、前驱体进气件以及喷淋板组件，喷淋头用于通入反应气体，前驱体进气件用于通入前驱体；载具，设于腔室内，并间隔设于喷淋装置的下方，载具用于承载待沉积件。反应气体经过喷淋头进行第一级扩散后，能够被等离子体发生器接收，进行电离而形成高活性自由基，再经喷淋板组件进行第二级扩散，经第二级扩散的反应气体能够获得更均匀的状态；前驱体经过前驱体进气件后，可经喷淋板组件进行扩散获得更均匀的状态，如此，在较大尺寸的待沉积件上获得较为致密均匀的沉积。
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公开(公告)号：CN113588481B
公开(公告)日：2023-04-11
申请号：CN202110706802.4
申请日：2021-06-24
Applicant: 华中科技大学
Abstract: 本发明涉及一种渗透过程检测设备与检测方法。渗透过程检测设备包括：检测腔，检测腔包括相互连通的第一腔体与第二腔体，第一腔体与第二腔体之间形成第二样品放置区；进气腔，进气腔与第一腔体连通；出气腔，出气腔与第二腔体连通；称重组件，称重组件伸入第一腔体内，称重组件上设有第一样品放置区；红外组件，红外组件包括光源、入射通道、出射通道与光谱仪，入射通道、出射通道均与第二腔体连通，光源发出的入射光线经入射通道进入第二腔体并到达第二样品放置区，经第二样品反射后的出射光线经出射通道进入光谱仪。该检测设备能实现对薄膜样品的渗透的中间过程的检测，以便于进一步加深对于薄膜渗透过程的研究。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN114075659B
公开(公告)日：2022-12-20
申请号：CN202111163408.7
申请日：2021-09-30
Applicant: 华中科技大学
IPC: C23C16/442 , C23C16/455 , H01M4/36
Abstract: 本发明提供了一种粉体包覆反应器、超声流化原子层沉积包覆装置及其应用。该粉体包覆反应器包括反应筒和多个传振片；反应筒的两端具有开口，反应筒的侧壁上开设有多个第一通孔；多个传振片依次间隔设置于反应筒内，每个传振片的边缘密封连接于反应筒的内壁，多个传振片将反应筒的内腔分隔为沿一端开口至另一端开口方向上依次分布的多个子腔体，传振片上设置有用于供粉体在该传振片相邻的两个子腔体之间通过的第二通孔。上述粉体包覆反应器能够有效保持纳米颗粒的分散状态，实现大批量粉末的均匀包覆。
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公开(公告)号：CN114743928A
公开(公告)日：2022-07-12
申请号：CN202210319015.9
申请日：2022-03-29
Applicant: 华中科技大学
IPC: H01L21/768 , H01L23/522
Abstract: 本发明涉及一种通孔填充方法及通孔填充装置，该通孔填充方法包括以下步骤：在基体上刻蚀通孔，通孔的底壁为第一表面，通孔的侧壁为第二表面；使用ALD工艺将第一前驱体导向所述第一表面和所述第二表面以形成第一填充层；使用CVD工艺将第二前驱体导向所述通孔内以形成第二填充层。上述通孔填充方法中，采用ALD工艺和CVD工艺结合的方法来填充通孔，能同时兼顾填充质量和填充效率，能更好地满足通孔尤其是高深宽比的通孔的填充需要。
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公开(公告)号：CN112909275A
公开(公告)日：2021-06-04
申请号：CN202110335742.X
申请日：2021-03-29
Applicant: 华中科技大学
IPC: H01M4/96
Abstract: 本发明属于催化剂材料领域，并具体公开了一种富含sp3杂化碳的无金属碳基催化剂及其制备方法，其以碳基材料或2‑甲基咪唑锌盐作为前驱体，利用气化的卤化盐对前驱体表面进行修饰，从而促使前驱体表面的sp2杂化碳转变为sp3杂化碳，完成无金属碳基催化剂的制备。本发明采用廉价的卤化盐，利用一步法即可得到表面含有大量本征碳缺陷的碳基催化剂，提高了催化活性位点的利用率，使催化剂具有较高的ORR活性和耐久性，同时本发明方法操作简便可控，且可以保证材料原有形貌不改变。
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公开(公告)号：CN107415225B8
公开(公告)日：2021-05-11
申请号：CN201710469383.0
申请日：2017-06-20
Applicant: 华中科技大学
IPC: B29C64/118 , B29C64/20 , B29C64/209 , B29C64/245 , B29C64/25 , B29C64/295 , B33Y30/00
Abstract: 本发明属于3D打印技术领域，特别设计一种基于极坐标运动的高温3D打印机，其包括内部腔体和套设在内部腔体外部的外壳，内部腔体位于外壳中部，其包括金属支撑外壳、隔热层和多级加热片装置实现逐级升温恒温，内部腔体顶部与外壳顶部之间设置有喷头运动电机和支架，内部腔体顶部设置有孔，线性运动喷头通过支架与喷头电机相连，从孔内伸入所述内部腔体内，所述喷头运动电机带动所述线性运动喷头线性运动，所述内部腔体内部设置有旋转复合成型平台，由喷头喷出的材料在该旋转复合成型平台上成型。本发明的打印机能够维持成型空间温度恒定，改善其打印运动路径，能有效解决现有FDM打印机高温打印的成型翘曲、分层等成型问题。
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公开(公告)号：CN110112313B
公开(公告)日：2021-02-05
申请号：CN201910413501.5
申请日：2019-05-17
Applicant: 华中科技大学
Abstract: 本发明属于薄膜封装技术领域，并公开了一种柔性器件的超薄复合封装薄膜结构及制备方法。所述封装薄膜结构包括基底、设于基底上的器件、封装于所述器件表面的第一无机隔离层以及设于该无机隔离层表面的第一复合阻隔层；第一复合阻隔层包括设于第一无机隔离层上的至少两层第一无机阻隔层以及设于相邻两层第一无机阻隔层之间的至少一层第一有机阻隔层。本发明还公开了相应结构的制备方法。本发明封装薄膜结构中存在不同无机结构之间和有机结构与无机结构之间相互掺杂、相互交联的界面特征，极大地改善了薄膜应力集中的缺点，隔离了无机层之间的缺陷，大幅度延长了水氧透过薄膜的时间和路径、提高薄膜阻隔水氧的能力，能够有效地保护柔性器件。
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