粉体包覆设备
    2.
    发明公开
    粉体包覆设备 审中-实审

    公开(公告)号:CN116850893A

    公开(公告)日:2023-10-10

    申请号:CN202311027972.5

    申请日:2023-08-15

    Abstract: 本申请涉及一种粉体包覆设备。粉体包覆设备包括流化机构、气体分布机构、进气管道与出料装置,流化机构设有流化腔。气体分布机构设有气体分布腔,气体分布机构设于流化机构内。气体分布机构与流化机构之间形成气室。气体分布机构上设有通风孔,通风孔连通气室与气体分布腔。进气管道与气室连通。出料装置与流化机构连接,出料装置上设有与气体分布腔连通的出料口。本申请中气体分布机构设于流化机构内部,出料装置设于流化机构的一端,使得流化后的粉末可以从出料装置流出。与出料装置与气体分布机构共用同一区域的方案相比,将出料装置与气体分布机构分离,可使气体分布机构上的通风孔不会限制出料的面积,从而以提高出料装置的出料效率。

    前驱体脉冲时间测量系统及其测量方法、测量装置和原子层沉积系统

    公开(公告)号:CN118858810A

    公开(公告)日:2024-10-29

    申请号:CN202410951710.6

    申请日:2024-07-16

    Abstract: 本申请涉及一种前驱体脉冲时间测量系统及其测量方法、测量装置和原子层沉积系统。该测量系统应用于原子层沉积系统,原子层沉积系统包括依次连通的储气罐、电磁阀和自动泄漏减压阀,测量系统包括:压力传感器和示波器;其中,压力传感器用于检测电磁阀的压力;示波器的输入端与压力传感器的输出端连接,用于输出表征电磁阀的压力的电压波形;其中,前驱体脉冲时间为两个相邻的第一时间节点和第二时间节点之间的差值,第一时间节点为电压波形的幅值上升至第一预设阈值时对应的时间数据;第二时间节点为电压波形的幅值下降至第二预设阈值时对应的时间数据,第一预设阈值大于第二预设阈值。采用该测量系统能够准确测量前驱体脉冲时间。

    粉体包覆反应器、超声流化原子层沉积包覆装置及其应用

    公开(公告)号:CN114075659B

    公开(公告)日:2022-12-20

    申请号:CN202111163408.7

    申请日:2021-09-30

    Abstract: 本发明提供了一种粉体包覆反应器、超声流化原子层沉积包覆装置及其应用。该粉体包覆反应器包括反应筒和多个传振片;反应筒的两端具有开口,反应筒的侧壁上开设有多个第一通孔;多个传振片依次间隔设置于反应筒内,每个传振片的边缘密封连接于反应筒的内壁,多个传振片将反应筒的内腔分隔为沿一端开口至另一端开口方向上依次分布的多个子腔体,传振片上设置有用于供粉体在该传振片相邻的两个子腔体之间通过的第二通孔。上述粉体包覆反应器能够有效保持纳米颗粒的分散状态,实现大批量粉末的均匀包覆。

    一种微纳米颗粒的快速原子层沉积设备

    公开(公告)号:CN108359960B

    公开(公告)日:2020-02-14

    申请号:CN201810274604.3

    申请日:2018-03-30

    Abstract: 本发明属于原子层沉积反应领域,并公开了一种微纳米颗粒的快速原子层沉积设备。设备包括进料装置、料槽、起振装置和反应装置,料槽一端的上方设置有进料装置,另外一端的上方设置有反应装置,起振装置与料槽相连,使得从进料装置进入料槽中的微纳米颗粒做向前的抛掷运动直至到达反应装置的下方;反应装置包括有多个并行排列的反应喷头和设置在喷头侧面的加热片,在多个反应喷头中通入反应气体,采用惰性气体隔开,用于通入反应气体使得料槽中的微纳米颗粒发生沉积反应,微纳米颗粒到达反应装置下方后与从反应喷头中喷入的气体发生反应,以此完成沉积过程。通过本发明,缩短反应时间,提高反应效率,本设备结构简单,便于使用和维护。

    一种用于微纳米颗粒表面修饰的装置和方法

    公开(公告)号:CN104046958B

    公开(公告)日:2016-08-17

    申请号:CN201410247956.1

    申请日:2014-06-06

    Abstract: 本发明公开了一种用于微纳米颗粒表面修饰的装置,包括:反应腔,其内部形成的空腔用于作为前驱体与微纳米颗粒的反应空间;多个前驱体供应装置,其分别通过管道与所述反应腔相通以提供不同的前驱体;载气输送系统,前驱体通过该载气输送系统输出的载气输送到反应腔中;以及粉体颗粒装载装置,用于承载待修饰的微纳米颗粒;通过多个前驱体供应装置分别向反应腔交替地输送前驱体,并进入旋转的粉体颗粒装载装置中以与微纳米颗粒表面接触进行原子层沉积反应,从而在微纳米颗粒的表面形成包覆薄膜,实现表面修饰。本发明还公开了利用上述装置进行微纳米颗粒的表面修饰的方法。本发明可以获得颗粒表面高均匀性的包覆层,并提高粉体颗粒的整体包覆率和前驱体的利用率。

    一种三氢化铝表面包覆改性方法

    公开(公告)号:CN104046957B

    公开(公告)日:2016-08-03

    申请号:CN201410247806.0

    申请日:2014-06-06

    Abstract: 本发明公开了一种三氢化铝表面包覆改性方法,采用原子层沉积技术在三氢化铝粉末表面沉积纳米厚度的金属氧化物或金属物质将其包覆,以提高三氢化铝粉末热稳定性,包括,S1:将三氢化铝粉体放入腔体内并抽真空;S2:加热腔体到设定温度且温度均匀稳定后,通入流化气,使三氢化铝预分散;S3:原子层沉积反应,当腔体内的温度达到50~130℃时,开始原子层沉积反应;S4:重复多次原子层沉积反应,使粉体表面沉积厚度不断增长,通过控制沉积反应循环的次数从而控制在三氢化铝粉体表面沉积的金属氧化物或金属的厚度,实现三氢化铝粉体包面包覆厚度为1~1000nm包覆层,以实现粉体的稳定化。

    原子层沉积装置
    8.
    发明公开

    公开(公告)号:CN113774358A

    公开(公告)日:2021-12-10

    申请号:CN202111067752.6

    申请日:2021-09-13

    Abstract: 本发明涉及一种原子层沉积装置,包括:反应容器,反应容器的内部形成反应腔体;进气组件,进气组件包括进气件,进气件与反应容器连接,进气件上设置有能够与反应腔体连通的进气口;出料组件,出料组件包括出料塞与出料管,出料管与反应容器连接,出料塞设置于出料管的内部,出料塞位于与反应腔体连通的出料口的下方,出料塞与出料管之间形成供粉料流出的出料通道;驱动件,驱动件与出料塞连接,驱动件用于驱动出料塞沿竖直方向移动,以使出料塞与出料口接触或分离。该原子层沉积装置中通过出料组件实现出料口的打开与封堵,出料口处不易出现堵塞,出料较为顺畅。

    原子层沉积装置与方法
    9.
    发明公开

    公开(公告)号:CN113737156A

    公开(公告)日:2021-12-03

    申请号:CN202110814242.4

    申请日:2021-07-19

    Abstract: 本发明涉及一种原子层沉积装置与方法。原子层沉积装置包括:承载组件,承载组件包括用于容纳待包覆粉末的反应腔体;第一喷头,第一喷头位于反应腔体的下方,第一喷头包括多个沿第一方向排布的下喷入通道,以及设置于相邻的下喷入通道之间的下排出通道,下喷入通道用于朝反应腔体喷射气体,下排出通道用于排出反应腔体内的多余气体;气源组件,气源组件与第一喷头连接,气源组件用于向各个下喷入通道供应气体,沿第一方向,相邻的下喷入通道中,其中一个通入的气体为载气;驱动组件,驱动组件用于驱动待包覆粉末沿第一方向运动。该原子层沉积装置可以提高沉积效率,缩短沉积所需的时间。

    原子层沉积装置
    10.
    发明公开

    公开(公告)号:CN113564564A

    公开(公告)日:2021-10-29

    申请号:CN202110753358.1

    申请日:2021-07-02

    Abstract: 本发明涉及一种原子层沉积装置,反应室包括反应室主体与腔门,反应室主体的内部形成反应腔体,反应室主体上设有进气口与抽气口,腔门与反应室主体可拆卸连接;安装架与腔门固定连接,腔门与反应室主体连接时,安装架位于反应腔体的内部;第一承载件用于承载块状待包覆物,第一承载件与安装架可拆卸连接;第二承载件用于承载粉状待包覆物,第二承载件与安装架可拆卸连接;第一使用状态下,第一承载件与安装架固定连接;第二使用状态下,第二承载件与安装架连接,且驱动件与第二承载件连接,驱动件用于驱动第二承载件相对于安装架转动。该原子层沉积装置可以对不同类型的待包覆物进行沉积,适用范围更广。

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