粉体包覆反应器、超声流化原子层沉积包覆装置及其应用

    公开(公告)号:CN114075659B

    公开(公告)日:2022-12-20

    申请号:CN202111163408.7

    申请日:2021-09-30

    Abstract: 本发明提供了一种粉体包覆反应器、超声流化原子层沉积包覆装置及其应用。该粉体包覆反应器包括反应筒和多个传振片;反应筒的两端具有开口,反应筒的侧壁上开设有多个第一通孔;多个传振片依次间隔设置于反应筒内,每个传振片的边缘密封连接于反应筒的内壁,多个传振片将反应筒的内腔分隔为沿一端开口至另一端开口方向上依次分布的多个子腔体,传振片上设置有用于供粉体在该传振片相邻的两个子腔体之间通过的第二通孔。上述粉体包覆反应器能够有效保持纳米颗粒的分散状态,实现大批量粉末的均匀包覆。

    原子层沉积装置
    2.
    发明授权

    公开(公告)号:CN113564564B

    公开(公告)日:2022-10-21

    申请号:CN202110753358.1

    申请日:2021-07-02

    Abstract: 本发明涉及一种原子层沉积装置,反应室包括反应室主体与腔门,反应室主体的内部形成反应腔体,反应室主体上设有进气口与抽气口,腔门与反应室主体可拆卸连接;安装架与腔门固定连接,腔门与反应室主体连接时,安装架位于反应腔体的内部;第一承载件用于承载块状待包覆物,第一承载件与安装架可拆卸连接;第二承载件用于承载粉状待包覆物,第二承载件与安装架可拆卸连接;第一使用状态下,第一承载件与安装架固定连接;第二使用状态下,第二承载件与安装架连接,且驱动件与第二承载件连接,驱动件用于驱动第二承载件相对于安装架转动。该原子层沉积装置可以对不同类型的待包覆物进行沉积,适用范围更广。

    原子层沉积装置
    3.
    发明授权

    公开(公告)号:CN113774358B

    公开(公告)日:2022-09-06

    申请号:CN202111067752.6

    申请日:2021-09-13

    Abstract: 本发明涉及一种原子层沉积装置,包括:反应容器,反应容器的内部形成反应腔体;进气组件,进气组件包括进气件,进气件与反应容器连接,进气件上设置有能够与反应腔体连通的进气口;出料组件,出料组件包括出料塞与出料管,出料管与反应容器连接,出料塞设置于出料管的内部,出料塞位于与反应腔体连通的出料口的下方,出料塞与出料管之间形成供粉料流出的出料通道;驱动件,驱动件与出料塞连接,驱动件用于驱动出料塞沿竖直方向移动,以使出料塞与出料口接触或分离。该原子层沉积装置中通过出料组件实现出料口的打开与封堵,出料口处不易出现堵塞,出料较为顺畅。

    粉体包覆反应器、超声流化原子层沉积包覆装置及其应用

    公开(公告)号:CN114075659A

    公开(公告)日:2022-02-22

    申请号:CN202111163408.7

    申请日:2021-09-30

    Abstract: 本发明提供了一种粉体包覆反应器、超声流化原子层沉积包覆装置及其应用。该粉体包覆反应器包括反应筒和多个传振片;反应筒的两端具有开口,反应筒的侧壁上开设有多个第一通孔;多个传振片依次间隔设置于反应筒内,每个传振片的边缘密封连接于反应筒的内壁,多个传振片将反应筒的内腔分隔为沿一端开口至另一端开口方向上依次分布的多个子腔体,传振片上设置有用于供粉体在该传振片相邻的两个子腔体之间通过的第二通孔。上述粉体包覆反应器能够有效保持纳米颗粒的分散状态,实现大批量粉末的均匀包覆。

    原子层沉积装置
    5.
    发明公开

    公开(公告)号:CN113774358A

    公开(公告)日:2021-12-10

    申请号:CN202111067752.6

    申请日:2021-09-13

    Abstract: 本发明涉及一种原子层沉积装置,包括:反应容器,反应容器的内部形成反应腔体;进气组件,进气组件包括进气件,进气件与反应容器连接,进气件上设置有能够与反应腔体连通的进气口;出料组件,出料组件包括出料塞与出料管,出料管与反应容器连接,出料塞设置于出料管的内部,出料塞位于与反应腔体连通的出料口的下方,出料塞与出料管之间形成供粉料流出的出料通道;驱动件,驱动件与出料塞连接,驱动件用于驱动出料塞沿竖直方向移动,以使出料塞与出料口接触或分离。该原子层沉积装置中通过出料组件实现出料口的打开与封堵,出料口处不易出现堵塞,出料较为顺畅。

    原子层沉积装置与方法
    6.
    发明公开

    公开(公告)号:CN113737156A

    公开(公告)日:2021-12-03

    申请号:CN202110814242.4

    申请日:2021-07-19

    Abstract: 本发明涉及一种原子层沉积装置与方法。原子层沉积装置包括:承载组件,承载组件包括用于容纳待包覆粉末的反应腔体;第一喷头,第一喷头位于反应腔体的下方,第一喷头包括多个沿第一方向排布的下喷入通道,以及设置于相邻的下喷入通道之间的下排出通道,下喷入通道用于朝反应腔体喷射气体,下排出通道用于排出反应腔体内的多余气体;气源组件,气源组件与第一喷头连接,气源组件用于向各个下喷入通道供应气体,沿第一方向,相邻的下喷入通道中,其中一个通入的气体为载气;驱动组件,驱动组件用于驱动待包覆粉末沿第一方向运动。该原子层沉积装置可以提高沉积效率,缩短沉积所需的时间。

    原子层沉积装置
    7.
    发明公开

    公开(公告)号:CN113564564A

    公开(公告)日:2021-10-29

    申请号:CN202110753358.1

    申请日:2021-07-02

    Abstract: 本发明涉及一种原子层沉积装置,反应室包括反应室主体与腔门,反应室主体的内部形成反应腔体,反应室主体上设有进气口与抽气口,腔门与反应室主体可拆卸连接;安装架与腔门固定连接,腔门与反应室主体连接时,安装架位于反应腔体的内部;第一承载件用于承载块状待包覆物,第一承载件与安装架可拆卸连接;第二承载件用于承载粉状待包覆物,第二承载件与安装架可拆卸连接;第一使用状态下,第一承载件与安装架固定连接;第二使用状态下,第二承载件与安装架连接,且驱动件与第二承载件连接,驱动件用于驱动第二承载件相对于安装架转动。该原子层沉积装置可以对不同类型的待包覆物进行沉积,适用范围更广。

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