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公开(公告)号：CN117991427B
公开(公告)日：2024-08-09
申请号：CN202410284689.9
申请日：2024-03-13
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明公开了一种低损耗、高反射率的193nm薄膜及其制备方法，包括基底、薄膜，所述薄膜设置在所述基底上；膜系结构为Sub/(HL)^n/Air，其中，Sub为薄膜元件基板，Air为出射介质空气，H和L分别为1/4中心波长光学厚度的高折射率材料薄膜层和低折射率材料薄膜层，n为高低折射率材料的膜堆数。本发明采用上述一种低损耗、高反射率的193nm薄膜及其制备方法，能够有效抑制193nm高反射薄膜中的LaF3薄膜的结晶，进而降低反射膜的粗糙度、抑制散射损耗，并提高薄膜的反射率；而且有效提升了电子束蒸发193nm LaF3/AlF3多层高反膜的反射率和成膜质量，同时制作成本低，易于推广，在紫外光刻领域具有广泛的应用前景。
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公开(公告)号：CN116255910B
公开(公告)日：2024-07-23
申请号：CN202211612933.7
申请日：2022-12-15
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明涉及一种基于自溯源光栅的自混合计量型位移测量装置和方法，所述的装置包括：激光光源，用于发出单纵模的激光；光学元件，用于调节发出激光的会聚程度；光衰减器，用于对激光进行光强的衰减；自溯源光栅，根据衰减后的激光产生一级衍射光，并调整角度使一级衍射光沿原路返回；位移发生器，用于使自溯源光栅产生位移；光电探测器，用于探测自混合激光光源中自混合干涉光场的自混合信号；信号处理器，用于对自混合信号进行滤波和信号归一化的预处理，并通过相位解包裹方法获得相位值，根据相位值和自溯源光栅的节距值反演得到位移值。与现有技术相比，本发明具有可直接溯源、无需外部校准、测量精确等优点。
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公开(公告)号：CN115753021B
公开(公告)日：2024-05-31
申请号：CN202211443973.3
申请日：2022-11-18
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明涉及一种基于自溯源光栅零差干涉法的光栅周期标定系统，用于标定待定值光栅的光栅周期，包括相干光源、自溯源光栅干涉信号光电探测模块、待定值光栅干涉信号光电探测模块、已知周期值的自溯源光栅和信号处理模块，所述自溯源光栅和待定值光栅以光栅矢量同向的方式设置于一维位移运动平台上。与现有技术相比，本发明利用同时测量两块光栅沿光栅矢量方向平移时非零级衍射光的相位差计算待定值光栅的周期，其定值结果以自溯源光栅周期为基准，不再依赖严格溯源于碘原子跃迁频率的高性能稳频激光器，具有测量面积大、测量精度高、可溯源的特点，同时具备操作条件极易复现、光路对准容易的优势。
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公开(公告)号：CN114690298B
公开(公告)日：2024-03-26
申请号：CN202210284007.5
申请日：2022-03-21
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明涉及一种基于拼接原子光刻技术的大面积自溯源光栅制备方法，包括以下步骤：基于原子光刻技术在基板上进行一次原子光刻，获得原子光刻光栅样板；至少循环执行一次以下操作：利用光阑的限位作用，保持会聚光指向不变，将主透镜及当前的原子光刻光栅样板作为整体沿激光驻波场方向平移一段距离并固定，调整主透镜使返回的会聚光形成驻波场并与金属原子束待沉积区域存在重叠部分，在当前的原子光刻光栅样板上进行一次原子光刻；通过相邻次原子光刻光栅的无缝拼接，获得大面积自溯源光栅。与现有技术相比，本发明有效地解决了自溯源光栅驻波场方向扩展的技术问题，并具备光栅无缝衔接，扩展空间大的优点。
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公开(公告)号：CN116500711A
公开(公告)日：2023-07-28
申请号：CN202310400575.1
申请日：2023-04-14
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明涉及一种具备自溯源角度的二维光栅标准物质及其制备方法，该方法具体为：掩膜版基板的设计和加工，掩膜版基板上开有四个窗口(3)，四个相同大小的窗口(3)在掩膜版基板中间区域呈十字形对称分布；掩膜版的制造，采用激光汇聚原子沉积技术，在掩膜版基板上沉积原子光刻光栅；光刻胶光栅的制备，采用软X射线干涉光刻技术，曝光和显影光刻胶得到光刻胶图形；二维光栅标准物质的获取，经过刻蚀将光刻胶图形转移到第二衬底上。与现有技术相比，本发明制备的在亚200nm尺度内的二维自溯源光栅标准物质，不仅同时具备自溯源的长度标准与角度标准，而且可以向硅材料转移，具有准确性高、一致性好和兼容性强等优点。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN116299812A
公开(公告)日：2023-06-23
申请号：CN202310029560.9
申请日：2023-01-09
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明涉及一种金属‑介质偏振光栅及其制备方法，金属‑介质偏振光栅从下自上依次包括Si衬底层、SiO2介质层、SiO2光栅层、以及Al金属光栅层，所述SiO2光栅层上设有若干凹槽，所述凹槽表面上为Al/SiO2金属光栅层。该金属‑介质偏振光栅的制备方法为：(1)在Si衬底层表面镀上一层SiO2薄膜；(2)在步骤(1)的SiO2介质层表面旋涂一层HSQ光刻胶并依次进行低温固化、电子光刻曝光、热显影；(3)在步骤(2)的SiO2光栅层表面设置金属挡板，沉积金属，制备得到金属‑介质偏振光栅。与现有技术相比，本发明降低了制备难度，提升了其TM的透过率和消光比。
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公开(公告)号：CN116298397A
公开(公告)日：2023-06-23
申请号：CN202310294579.6
申请日：2023-03-23
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明涉及一种用于加速度振动传感器的校准方法，方法采用一种用于加速度振动传感器的校准装置，方法包括以下步骤：S1、将待校准振动传感器以待校准轴与激振方向平行的姿态固定于水平滑台上；S2、采用信号采集与传输设备，对自溯源光栅干涉仪输出的干涉信号和待校准振动传感器的输出电压信号进行采样，并基于干涉信号提取干涉相位；S3、确定干涉相位信号和振动位移信号之间的函数关系；S4、基于函数关系和采样的待校准振动传感器的输出电压信号，对待校准振动传感器进行校准。与现有技术相比，本发明具有校准精度高、测量基准不依赖波长、抗环境干扰等优点，解决了振动校准现场溯源难题。
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公开(公告)号：CN114966964B
公开(公告)日：2023-05-02
申请号：CN202210476460.6
申请日：2022-04-29
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明涉及一种高制备容差导模共振带通滤波器及制备方法，所述高制备容差导模共振带通滤波器包括衬底、氢化硅Si:H波导层、氧化硅SiO2间隔层和顶部光栅层；所述衬底为熔融石英，所述顶部光栅层为周期性的Si:H网格微结构；所述制备方法包括：首先通过粒子群优化算法优化获得高制备容差导模共振带通滤波器的结构设计，再利用磁控溅射镀膜、电子束曝光、反应离子刻蚀技术进行实际制作。与现有技术相比，本发明有效减弱了光栅层与波导层中模式的耦合，增加了滤波器对于光栅线宽的制备容差。
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公开(公告)号：CN115096177A
公开(公告)日：2022-09-23
申请号：CN202210010441.4
申请日：2022-01-06
Applicant: 同济大学
IPC: G01B11/00
Abstract: 本发明涉及一种用子光束位置监测激光合束系统光束的装置及方法，所述装置包括光栅、透镜、以及用于检测子束光斑相对位置的相机和计算机；所述相机与计算机连接；激光合束系统发出的激光合束光束依次经过光栅和透镜，并聚焦到相机的相面上。与现有技术相比，本发明通过光学设计的方法保证了子束光斑位置在同一相机上且能够分开，通过实时监测子束的相对位置，确保了激光合束光束中的各个子束光斑位置一直处于给定的范围位置内，从而保证激光合束光束质量。
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公开(公告)号：CN114879356A
公开(公告)日：2022-08-09
申请号：CN202210388294.4
申请日：2022-04-13
Applicant: 同济大学
IPC: G02B26/02
Abstract: 本发明涉及一种基于光学薄膜性能的激光连续可调衰减方法和装置，方法包括：将原始激光对准镜片进行照射，通过镜片的透射光即为功率衰减后的激光；通过调节所述镜片的角度，调节原始激光的功率衰减程度；装置包括衰减模块和能量吸收桶，所述衰减模块包括镜片、镜片固定组件和精密旋转台，所述精密旋转台的旋转端连接所述镜片固定组件，所述镜片固定在镜片固定组件上，所述原始激光照射所述镜片，形成反射光路和透射光路，所述能量吸收桶位于反射光路上，所述透射光路为功率衰减后的激光。与现有技术相比，本发明具有装置结构简单，易于集成与控制，成本也很低等优点。
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