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公开(公告)号：CN116255910B
公开(公告)日：2024-07-23
申请号：CN202211612933.7
申请日：2022-12-15
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明涉及一种基于自溯源光栅的自混合计量型位移测量装置和方法，所述的装置包括：激光光源，用于发出单纵模的激光；光学元件，用于调节发出激光的会聚程度；光衰减器，用于对激光进行光强的衰减；自溯源光栅，根据衰减后的激光产生一级衍射光，并调整角度使一级衍射光沿原路返回；位移发生器，用于使自溯源光栅产生位移；光电探测器，用于探测自混合激光光源中自混合干涉光场的自混合信号；信号处理器，用于对自混合信号进行滤波和信号归一化的预处理，并通过相位解包裹方法获得相位值，根据相位值和自溯源光栅的节距值反演得到位移值。与现有技术相比，本发明具有可直接溯源、无需外部校准、测量精确等优点。
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公开(公告)号：CN116255910A
公开(公告)日：2023-06-13
申请号：CN202211612933.7
申请日：2022-12-15
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明涉及一种基于自溯源光栅的自混合计量型位移测量装置和方法，所述的装置包括：激光光源，用于发出单纵模的激光；光学元件，用于调节发出激光的会聚程度；光衰减器，用于对激光进行光强的衰减；自溯源光栅，根据衰减后的激光产生一级衍射光，并调整角度使一级衍射光沿原路返回；位移发生器，用于使自溯源光栅产生位移；光电探测器，用于探测自混合激光光源中自混合干涉光场的自混合信号；信号处理器，用于对自混合信号进行滤波和信号归一化的预处理，并通过相位解包裹方法获得相位值，根据相位值和自溯源光栅的节距值反演得到位移值。与现有技术相比，本发明具有可直接溯源、无需外部校准、测量精确等优点。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN111650680A
公开(公告)日：2020-09-11
申请号：CN202010575620.3
申请日：2020-06-22
Applicant: 同济大学 , 中国科学院上海应用物理研究所
IPC: G02B5/18
Abstract: 本发明涉及一种精确缩短节距值的自溯源光栅标准物质制备方法，该方法基于激光汇聚原子沉积技术和软X射线干涉光刻技术，制备百纳米尺度及以下的小节距溯源标准物质，包括以下步骤：1)获取掩膜版基板；2)采用激光汇聚原子沉积技术，在掩膜版基板上，沉积制备掩膜版；3)获取光刻胶样品，该光刻胶样品包括光刻胶和第二衬底；采用掩膜版，通过软X射线干涉光刻技术，对光刻胶进行曝光和显影，得到光刻胶光栅结构；4)将光刻胶光栅结构转移到第二衬底上，获取自溯源光栅标准物质。与现有技术相比，本发明制备的自溯源光栅标准物质具有高精度、溯源性和精确缩短节距值等优点。
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公开(公告)号：CN111650819A
公开(公告)日：2020-09-11
申请号：CN202010575583.6
申请日：2020-06-22
Applicant: 中国科学院上海应用物理研究所 , 同济大学
Abstract: 本发明涉及基于自溯源光栅的极紫外光刻胶质量检测装置和方法，方法包括以下步骤：1)利用原子光刻技术制备掩膜光栅；2)获取涂有待测极紫外光刻胶膜层的衬底；3)基于获取的掩膜光栅，对所述衬底进行双光栅干涉，获取待测光刻胶图形；4)根据自溯源特性，基于所述掩膜光栅的周期节距值，计算待测光刻胶图形的理论周期节距值，并以待测光刻胶图形的理论周期节距值为标尺，判断待测极紫外光刻胶的质量。与现有技术相比，本发明通过原子光刻技术制备掩膜光栅，具有测量学上周期节距的自溯源性，可以为EUV光刻胶测量数据提供直接的精准标尺，解决了测量设备所带来的实验误差，提高了极紫外光刻胶质量检测的精度。
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公开(公告)号：CN113566714A
公开(公告)日：2021-10-29
申请号：CN202110862699.2
申请日：2021-07-29
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明涉及一种自溯源型光栅干涉精密位移测量系统，包括相干光源、光电探测模块、自溯源光栅和信号处理模块，所述自溯源光栅设置于待测的位移运动平台上，所述相干光源、光电探测模块和信号处理模块依次连接，所述相干光源产生的激光经光电探测模块传播后，入射至自溯源光栅，与自溯源光栅发生衍射作用，返回至光电探测模块中继续传播，进入信号处理模块，信号处理模块采集干涉信号获取运动位移量和运动方向。与现有技术相比，本发明克服了位移测量溯源难度大和光栅刻线密度低的缺点，其直接溯源的测量途径具有位移测量准确性高、鲁棒性强的优势。
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公开(公告)号：CN113566714B
公开(公告)日：2022-09-20
申请号：CN202110862699.2
申请日：2021-07-29
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明涉及一种自溯源型光栅干涉精密位移测量系统，包括相干光源、光电探测模块、自溯源光栅和信号处理模块，所述自溯源光栅设置于待测的位移运动平台上，所述相干光源、光电探测模块和信号处理模块依次连接，所述相干光源产生的激光经光电探测模块传播后，入射至自溯源光栅，与自溯源光栅发生衍射作用，返回至光电探测模块中继续传播，进入信号处理模块，信号处理模块采集干涉信号获取运动位移量和运动方向。与现有技术相比，本发明克服了位移测量溯源难度大和光栅刻线密度低的缺点，其直接溯源的测量途径具有位移测量准确性高、鲁棒性强的优势。
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公开(公告)号：CN111650680B
公开(公告)日：2021-09-03
申请号：CN202010575620.3
申请日：2020-06-22
Applicant: 同济大学 , 中国科学院上海应用物理研究所
IPC: G02B5/18
Abstract: 本发明涉及一种精确缩短节距值的自溯源光栅标准物质制备方法，该方法基于激光汇聚原子沉积技术和软X射线干涉光刻技术，制备百纳米尺度及以下的小节距溯源标准物质，包括以下步骤：1)获取掩膜版基板；2)采用激光汇聚原子沉积技术，在掩膜版基板上，沉积制备掩膜版；3)获取光刻胶样品，该光刻胶样品包括光刻胶和第二衬底；采用掩膜版，通过软X射线干涉光刻技术，对光刻胶进行曝光和显影，得到光刻胶光栅结构；4)将光刻胶光栅结构转移到第二衬底上，获取自溯源光栅标准物质。与现有技术相比，本发明制备的自溯源光栅标准物质具有高精度、溯源性和精确缩短节距值等优点。
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