分离方法
    74.
    发明授权

    公开(公告)号:CN100388411C

    公开(公告)日:2008-05-14

    申请号:CN200310124240.4

    申请日:2003-12-29

    Abstract: 一种分离方法,包括步骤:依此次序形成金属膜、第一氧化物和含有氢的半导体膜;将支撑物粘接到含有该第一氧化物和该半导体膜的释放层,并从提供有该金属层的衬底通过物理方法分离粘接到该支撑物的该释放层。在分离方法中,进行热处理以便使半导体膜中含有的氢扩散,通过还原在金属膜和第一氧化物膜之间的表面边界处形成的第二氧化物来形成第三氧化物,并分离含有该第二氧化物和该第三氧化物的薄膜、含有该第二氧化物和该第三氧化物的薄膜与该金属膜之间的表面边界,或含有该第二氧化物和该第三氧化物的薄膜与该第一氧化物之间的表面边界。

    发光装置
    80.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1492723A

    公开(公告)日:2004-04-28

    申请号:CN03158666.X

    申请日:2003-09-19

    CPC classification number: H01L51/529 H01L27/3244 H01L51/5246 H01L51/5253

    Abstract: 本发明的目的是解决上述使用含有氟树脂的膜(聚四氟乙烯(R))作为元件的保护膜时产生的释放热的问题,以及解决因氟元素引起的金属材料腐蚀的问题。因此,本发明采用在形成元件后形成无机绝缘膜,最后形成含有氟树脂的膜的叠层结构,这样就使含有氟树脂的膜不与元件的金属材料接触而形成,从而达到防止因含有氟树脂的膜中的氟元素引起金属材料腐蚀的目的。无机绝缘膜具有防止含有氟树脂的膜中的氟元素和金属材料起反应的功能(即阻挡性)。而且,该无机绝缘膜采用高导热性的材料形成以便释放元件产生的热。

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