一种等腰梯形式发光二极管的制备工艺

    公开(公告)号:CN106129192A

    公开(公告)日:2016-11-16

    申请号:CN201610567049.4

    申请日:2016-07-19

    CPC classification number: H01L33/0075

    Abstract: 本发明公开的一种发光二极管制备工艺,本发明的通过角度互补的方式制作具有等腰梯形截面的发光二极管,先通过光阻层和DBR阻挡层配合塑性,确定等腰梯形截面的倾斜角度,去掉光阻层后在DBR阻挡层之间的间隙中生长第二N‑GaN层、有源层以及P‑GaN,因此形成的发光二极管的角度由光阻层的角度决定,所以只需对光阻层角度进行控制就能够控制发光二极管的角度,而这个角度需要结合预先设定的LED灯高度、宽度等参数来控制。本发明根据发光二极管的宽度、高度来准确地控制反射光的出射角度,实现不同角度的出光结构,以避免光损失,提高出光量。

    增加ESD保护的LED芯片及其制造方法

    公开(公告)号:CN105932034A

    公开(公告)日:2016-09-07

    申请号:CN201610458487.7

    申请日:2016-06-23

    CPC classification number: H01L27/15 H01L33/005

    Abstract: 增加ESD保护的LED芯片及其制造方法,涉及LED的生产技术领域。本发明在P极焊盘和第一绝缘层之间的透明导电层上设置图形化的a‑Si层;在部分第一绝缘层和部分图形化的a‑Si层上设置图形化的Drain极层;在透明导电层和另一部分图形化的a‑Si层设置图形化的Source极层;在透明导电层和图形化的Source极层、裸露的a‑Si层、部分图形化的Drain极层上设置第二绝缘层。本发明为可极大提升芯片ESD防护效果,为目前正装结构芯片提供一种具有ESD防护功能结构,该结构相对传统的齐纳二极管组方式更为简单,易于生产,也利于降低生产成本。

    一种蓝绿发光二极管芯片制作工艺

    公开(公告)号:CN105374908A

    公开(公告)日:2016-03-02

    申请号:CN201510649507.4

    申请日:2015-10-10

    CPC classification number: H01L33/0075 H01L33/145

    Abstract: 本发明公开一种蓝绿发光二极管芯片制作工艺,在衬底上依次生成非故意掺杂层、第一n型导电层、第一电流阻挡层、第一n型接触层、第二电流阻挡层、第二n型接触层、第三电流阻挡层、第二n型导电层、有源区、限制层、p型导电层和p型接触层;在p型接触层上掩模、光刻、ICP蚀刻至n型导电层;在裸露的第二n型导电层上掩模、光刻,采用ICP蚀刻穿第三电流阻挡层,裸露第二n型接触层的表面;在裸露的第二n型接触层表面再掩模、光刻,采用ICP蚀刻穿第二电流阻挡层,裸露第一n型接触层的表面;掩模、光刻p型接触层,在裸露的p型接触层上蒸镀ITO导电层;制作p电极和n电极。本发明可以提高电流扩展效果,提高发光二极管的发光效率。

    一种倒装蓝绿发光二极管芯片

    公开(公告)号:CN105355744A

    公开(公告)日:2016-02-24

    申请号:CN201510912098.2

    申请日:2015-12-11

    CPC classification number: H01L33/22 H01L33/36 H01L33/38

    Abstract: 一种倒装蓝绿发光二极管芯片,涉及发光二极管的生产技术领域,本发明包括依次设置在衬底一侧的外延层,第一电极连接在第一型欧姆接触层上,金属反射层设置在透明导电层之上,第二电极设置在金属反射层上,在第一电极和外延层之间设置电极隔离层,在芯片表面及侧面设置芯片保护层,第一型欧姆接触层至少包括两层第一型欧姆接触结构层,第一电极与各第一型欧姆接触结构层均连接。本发明通过在外延生长结构中设置不同第一型欧姆接触层,通过芯片结构设置台阶式第一型欧姆接触面,形成有效地电流扩展趋势,增强了第一型电流扩展效果,降低了工作电压,有效提高发光二极管的发光效率。

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