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公开(公告)号:CN106169531A
公开(公告)日:2016-11-30
申请号:CN201610557381.2
申请日:2016-07-15
Applicant: 厦门乾照光电股份有限公司
CPC classification number: H01L33/48 , H01L33/005 , H01L33/02
Abstract: 本发明公开了一种ODR结构的倒装发光二极管及制备方法、倒装高压LED,包括衬底上依次设置N型层、有源层和P型层,经刻蚀形成台阶裸露出部分N型层,P型层和裸露出的N型层上形成电流扩展层,电流扩展层上形成DBR层,DBR层刻蚀裸露出部分电流扩展层,DBR层和裸露出的部分电流扩展层上形成Ag反射层,Ag反射层经剥离分别形成和P型层与N型层上的电流扩展层欧姆接触的P接触金属层和N接触金属层。本发明提高了芯片的亮度,不需要额外蒸镀金属与N‑GaN形成欧姆接触,节省了工艺步骤和材料,成本低。另外,对于倒装高压LED,该Ag反射层既可以作为形成ODR结构的高反射金属,又可以作为原胞之间的互联金属,节省了工艺步骤,提高了芯片的亮度。
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公开(公告)号:CN106129219A
公开(公告)日:2016-11-16
申请号:CN201610557364.9
申请日:2016-07-15
Applicant: 厦门乾照光电股份有限公司
Abstract: 本发明公开了一种增强光取出效率的LED芯片结构,包括衬底、N‑GaN层、有源层、P‑GaN层、低折射率填充料、P电极和N电极,衬底上依次形成N‑GaN层、有源层和P‑GaN层,有源层和P‑GaN层经蚀刻形成台阶沟道裸露出部分N‑GaN层,台阶沟道内填充低折射率填充料,裸露出的部分N‑GaN层和N电极连接,P型层和P电极连接。本发明大大增加了LED芯片侧向光的正向取出效率,增加了LED芯片的正向光强度。
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公开(公告)号:CN106129214A
公开(公告)日:2016-11-16
申请号:CN201610557040.5
申请日:2016-07-15
Applicant: 厦门乾照光电股份有限公司
CPC classification number: H01L33/38 , H01L33/005 , H01L33/405 , H01L33/42 , H01L33/48 , H01L2933/0016
Abstract: 本发明公开了一种LED芯片的P电极结构、LED芯片结构及其制造方法,P电极由多层金属构成,其中最底层为Al,LED芯片结构包括衬底、N型层、有源层、P型层、ITO透明导电层、P电极和N电极,衬底上依次形成N型层、有源层和P型层,N型层和N电极连接,P型层上形成ITO透明导电层,ITO透明导电层上形成P电极,其中P电极的最底层为金属Al,Al经加热渗透进ITO透明导电层,使ITO透明导电层和P型层形成肖特基接触。本发明提升了电极的光反射率,提高了LED芯片的亮度,并且使得LED芯片的制作工艺更简单。
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公开(公告)号:CN106129192A
公开(公告)日:2016-11-16
申请号:CN201610567049.4
申请日:2016-07-19
Applicant: 厦门乾照光电股份有限公司
IPC: H01L33/00
CPC classification number: H01L33/0075
Abstract: 本发明公开的一种发光二极管制备工艺,本发明的通过角度互补的方式制作具有等腰梯形截面的发光二极管,先通过光阻层和DBR阻挡层配合塑性,确定等腰梯形截面的倾斜角度,去掉光阻层后在DBR阻挡层之间的间隙中生长第二N‑GaN层、有源层以及P‑GaN,因此形成的发光二极管的角度由光阻层的角度决定,所以只需对光阻层角度进行控制就能够控制发光二极管的角度,而这个角度需要结合预先设定的LED灯高度、宽度等参数来控制。本发明根据发光二极管的宽度、高度来准确地控制反射光的出射角度,实现不同角度的出光结构,以避免光损失,提高出光量。
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公开(公告)号:CN105932034A
公开(公告)日:2016-09-07
申请号:CN201610458487.7
申请日:2016-06-23
Applicant: 厦门乾照光电股份有限公司
CPC classification number: H01L27/15 , H01L33/005
Abstract: 增加ESD保护的LED芯片及其制造方法,涉及LED的生产技术领域。本发明在P极焊盘和第一绝缘层之间的透明导电层上设置图形化的a‑Si层;在部分第一绝缘层和部分图形化的a‑Si层上设置图形化的Drain极层;在透明导电层和另一部分图形化的a‑Si层设置图形化的Source极层;在透明导电层和图形化的Source极层、裸露的a‑Si层、部分图形化的Drain极层上设置第二绝缘层。本发明为可极大提升芯片ESD防护效果,为目前正装结构芯片提供一种具有ESD防护功能结构,该结构相对传统的齐纳二极管组方式更为简单,易于生产,也利于降低生产成本。
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公开(公告)号:CN105789397A
公开(公告)日:2016-07-20
申请号:CN201610212121.1
申请日:2016-04-07
Applicant: 厦门乾照光电股份有限公司
CPC classification number: H01L33/145 , H01L33/007 , H01L33/0075 , H01L33/06 , H01L33/32 , H01L33/382 , H01L33/62 , H01L2933/0016 , H01L2933/0066
Abstract: 一种正装GaN LED芯片及其制作方法,涉及发光二极管LED的生产技术领域。先在衬底的同一侧制作外延层和透明导电层,在N电极扩展条制作区域的透明导电层上,由透明导电层向N?GaN层分别刻蚀形成若干均匀分布的N电极流出孔道;在透明导电层上蒸镀形成电流阻挡层;在P电极扩展条制作区域的电流阻挡层上,由电流阻挡层向透明导电层分别刻蚀形成若干均匀分布的P电极注入孔道;对上述N电极流出孔道上方的电流阻挡层进行延续刻蚀;制作出P电极和P电极扩展条,N电极和N电极扩展条。本发明制作工艺简单、合理、方便,可大大降低成本。
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公开(公告)号:CN105702828A
公开(公告)日:2016-06-22
申请号:CN201610212122.6
申请日:2016-04-07
Applicant: 厦门乾照光电股份有限公司
Inventor: 陈亮 , 李俊贤 , 吕奇孟 , 吴奇隆 , 陈凯轩 , 张永 , 刘英策 , 李小平 , 魏振东 , 周弘毅 , 黄新茂 , 蔡立鹤 , 林志伟 , 姜伟 , 卓祥景 , 方天足
CPC classification number: Y02P70/521 , H01L33/405 , H01L31/1884 , H01L33/42 , H01L2933/0016
Abstract: 一种复合透明导电层的制作工艺,涉及发光二极管LED芯片、太阳能电池、光电探测器等光电半导体器件的生产技术领域。本发明先在基础材料上形成10nm~300nm的透明导电薄膜层,在所述透明导电薄膜层上蒸镀具有高反射率的金属层,然后再通过100~500℃的合金工艺,制成复合透明导电层。此纳米金属颗粒会促进电流在晶界处(晶粒与晶粒之间)的扩散,相比于常规透明导电层,该复合透明导电层将拥有更好电流扩散效果,应用于光电半导体器件中能增加半导体器件的外量子效率。
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公开(公告)号:CN105374908A
公开(公告)日:2016-03-02
申请号:CN201510649507.4
申请日:2015-10-10
Applicant: 厦门乾照光电股份有限公司
CPC classification number: H01L33/0075 , H01L33/145
Abstract: 本发明公开一种蓝绿发光二极管芯片制作工艺,在衬底上依次生成非故意掺杂层、第一n型导电层、第一电流阻挡层、第一n型接触层、第二电流阻挡层、第二n型接触层、第三电流阻挡层、第二n型导电层、有源区、限制层、p型导电层和p型接触层;在p型接触层上掩模、光刻、ICP蚀刻至n型导电层;在裸露的第二n型导电层上掩模、光刻,采用ICP蚀刻穿第三电流阻挡层,裸露第二n型接触层的表面;在裸露的第二n型接触层表面再掩模、光刻,采用ICP蚀刻穿第二电流阻挡层,裸露第一n型接触层的表面;掩模、光刻p型接触层,在裸露的p型接触层上蒸镀ITO导电层;制作p电极和n电极。本发明可以提高电流扩展效果,提高发光二极管的发光效率。
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公开(公告)号:CN105355744A
公开(公告)日:2016-02-24
申请号:CN201510912098.2
申请日:2015-12-11
Applicant: 厦门乾照光电股份有限公司
Abstract: 一种倒装蓝绿发光二极管芯片,涉及发光二极管的生产技术领域,本发明包括依次设置在衬底一侧的外延层,第一电极连接在第一型欧姆接触层上,金属反射层设置在透明导电层之上,第二电极设置在金属反射层上,在第一电极和外延层之间设置电极隔离层,在芯片表面及侧面设置芯片保护层,第一型欧姆接触层至少包括两层第一型欧姆接触结构层,第一电极与各第一型欧姆接触结构层均连接。本发明通过在外延生长结构中设置不同第一型欧姆接触层,通过芯片结构设置台阶式第一型欧姆接触面,形成有效地电流扩展趋势,增强了第一型电流扩展效果,降低了工作电压,有效提高发光二极管的发光效率。
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公开(公告)号:CN105304782A
公开(公告)日:2016-02-03
申请号:CN201510649958.8
申请日:2015-10-10
Applicant: 厦门乾照光电股份有限公司
IPC: H01L33/14
CPC classification number: H01L33/145 , H01L33/14
Abstract: 本发明公开一种蓝绿发光二极管芯片,包括p区、n区及有源区,有源区设置在p区与n区之间,在p区的导电层上设置p电极;n区外延结构采用由n型接触层与电流阻挡层交替构成的多级复合接触层,在多级复合接触层上设置多个接触面的n电极。本发明可以提高电流扩展效果,进而提高发光二极管的发光效率。
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