公开(公告)号：CN101053065A

公开(公告)日：2007-10-10

申请号：CN200580028813.0

申请日：2005-07-21

申请人： 于尔根·H·维尔纳 ,  于尔根·克勒

发明人： 于尔根·H·维尔纳 ,  于尔根·克勒 ,  艾恩华·埃斯图罗-布雷顿

IPC分类号： H01L21/225 ,  H01L21/223 ,  H01L21/268 ,  H01L31/18

CPC分类号： H01L31/1804 ,  B23K26/0738 ,  H01L21/2254 ,  H01L21/2255 ,  H01L21/2256 ,  H01L21/268 ,  Y02E10/547 ,  Y02P70/521

摘要： 在一种根据本发明的激光掺杂方法中，首先使包含掺杂物的介质与固体的表面形成接触。然后，通过激光脉冲的照射短时融化固体的在与介质接触的表面下的区域，使得掺杂物扩散进熔化的区域中并且在熔化区域冷却期间使熔融区域结晶。激光束以线性焦点聚焦在固体上，其中线性焦点的宽度优选小于10μm。

公开(公告)号：CN101013666A

公开(公告)日：2007-08-08

申请号：CN200710006329.9

申请日：2007-02-02

申请人： 株式会社半导体能源研究所

发明人： 田中幸一郎

IPC分类号： H01L21/20 ,  H01L21/268 ,  B23K26/00 ,  B23K26/067 ,  B23K26/08

CPC分类号： H01L27/1266 ,  B23K26/0613 ,  B23K26/0676 ,  B23K26/0738 ,  H01L21/0237 ,  H01L21/02532 ,  H01L21/02672 ,  H01L21/02678 ,  H01L21/02691 ,  H01L27/1255 ,  H01L27/1285

摘要： 由第一激光束和第二激光束照射衬底上形成的半导体膜，其中第一激光束以一角度入射到该衬底底表面上，而第二激光束以与第一激光束的角度相反的角度入射到该衬底底表面上，并且第二激光束是由与振荡第一激光束的振荡器不同的振荡器振荡的；从而，半导体膜的一部分融化，并且半导体上融化的部分在第一激光束和第二激光束照射的位置移动的同时移动，并且基本上沿着相对于第一激光束或第二激光束倾斜的方向扫描。

公开(公告)号：CN101000863A

公开(公告)日：2007-07-18

申请号：CN200710002204.9

申请日：2007-01-12

申请人： 株式会社半导体能源研究所

发明人： 田中幸一郎

IPC分类号： H01L21/00 ,  H01L21/20 ,  H01L21/268 ,  H01L21/336 ,  B23K26/06 ,  G02F1/35 ,  G02B27/09 ,  G02B27/00 ,  G02B3/00

CPC分类号： B23K26/0626 ,  B23K26/0732 ,  B23K26/0738 ,  B23K26/0853 ,  B23K2101/40 ,  C30B13/24 ,  C30B29/06 ,  C30B35/00 ,  H01L21/02672 ,  H01L21/02675 ,  H01L27/1285 ,  H01L2224/16225 ,  H01L2224/32225 ,  H01L2224/73204 ,  H01S3/005 ,  H01L2924/00

摘要： 从激光振荡器发射激光束且将所述激光束经过校正透镜入射于具有凹透镜的光束扩展器光学系统。当如将所述激光振荡器的发射点设定为第一共轭点，将所述第一共轭点的像经过所述校正透镜而成像的点设定为第二共轭点，将从所述校正透镜到所述第二共轭点的距离设定为b，将所述凹透镜的焦距设定为f，以及将从所述校正透镜到所述凹透镜的距离设定为X时，使所述X满足b－3|f|≤X≤b+|f|地配置所述激光振荡器、所述校正透镜以及所述凹透镜。

公开(公告)号：CN1267765C

公开(公告)日：2006-08-02

申请号：CN02123292.X

申请日：2002-06-14

申请人： 株式会社半导体能源研究所

发明人： 田中幸一郎

IPC分类号： G02B27/09 ,  H01L21/324 ,  H01S3/00

CPC分类号： G02B27/0927 ,  B23K26/0604 ,  B23K26/0738 ,  B23K2101/40 ,  G02B19/0014 ,  G02B19/0052 ,  G02B27/09 ,  G02B27/0961 ,  G02B27/0966 ,  G02B27/0977 ,  H01L27/12 ,  H01L27/1285 ,  H01L29/78681 ,  H01S5/005 ,  H01S5/4012 ,  H01S5/4025

摘要： 当激光振荡器的输出变得更高，发展用于半导体膜激光退火工艺的更长的线形光束变成必要的。然而，如果线形光束的长度是300-1000mm或更长，那么用于形成线形光束的光学系统的光路长度变得非常长，从而增加了其占地面积尺寸。本发明缩短了光路长度。为了使光学系统的光路长度尽可能地短，并只增加线形光束的长度，可以在线形光束纵向上给半导体膜曲率。

公开(公告)号：CN1591086A

公开(公告)日：2005-03-09

申请号：CN200410054974.4

申请日：2002-06-14

申请人： 株式会社半导体能源研究所

发明人： 田中幸一郎

IPC分类号： G02B27/10 ,  H01L21/324 ,  H01S3/00

CPC分类号： G02B27/0927 ,  B23K26/0604 ,  B23K26/0738 ,  B23K2101/40 ,  G02B19/0014 ,  G02B19/0052 ,  G02B27/09 ,  G02B27/0961 ,  G02B27/0966 ,  G02B27/0977 ,  H01L27/12 ,  H01L27/1285 ,  H01L29/78681 ,  H01S5/005 ,  H01S5/4012 ,  H01S5/4025

摘要： 当激光振荡器的输出变得更高，发展用于半导体膜激光退火工艺的更长的线形光束变成必要的。然而，如果线形光束的长度是300－1000mm或更长，那么用于形成线形光束的光学系统的光路长度变得非常长，从而增加了其占地面积尺寸。本发明缩短了光路长度。为了使光学系统的光路长度尽可能地短，并只增加线形光束的长度，可以在线形光束纵向上给半导体膜曲率。

公开(公告)号：CN1170653C

公开(公告)日：2004-10-13

申请号：CN00813983.0

申请日：2000-10-03

申请人： 住友重机械工业株式会社

发明人： 浜田史郎

IPC分类号： B23K26/06 ,  H05K3/00

CPC分类号： B23K26/0738 ,  B23K26/066 ,  B23K26/073 ,  B23K26/082 ,  B23K26/0821 ,  B23K26/382 ,  B23K26/40 ,  B23K2101/40 ,  B23K2103/42 ,  B23K2103/50 ,  B23K2103/52 ,  H05K3/0026 ,  H05K2203/0557

摘要： 一种激光穿孔加工方法及加工装置。在激光振荡器10与作为被加工部件的印刷电路板20之间，按顺序设置了多棱反射镜11、具有规定加工图形的一列状的多个孔的网罩12、电驱动反射镜16、以及加工透镜17，使激光振荡器10所产生的激光光束按顺序经过所述的各个主要部件照射在印刷电路板20上。多棱反射镜11通过使激光光束摆动，使其每一面反射镜对网罩12的多个孔进行扫描，从而在印刷电路板20上形成所述多个孔。通过电驱动反射镜16，使对印刷电路板20的激光光束的照射区域沿一个轴方向移动。

公开(公告)号：CN1516756A

公开(公告)日：2004-07-28

申请号：CN03800437.2

申请日：2003-03-21

申请人： 西门子公司

发明人： 托马斯·贝克 ,  乔格·博斯坦乔格洛 ,  奈杰尔-菲利普·考克斯 ,  罗尔夫·威尔肯霍纳

IPC分类号： C30B13/00 ,  C30B11/00 ,  C30B13/24 ,  C30B29/52

CPC分类号： B23K15/0093 ,  B23K26/0732 ,  B23K26/0736 ,  B23K26/0738 ,  B23K26/32 ,  B23K26/342 ,  B23K2101/001 ,  B23K2103/02 ,  B23K2103/26 ,  B23K2103/50 ,  C30B11/00 ,  C30B13/00 ,  C30B13/24 ,  C30B29/52 ,  Y10S117/904 ,  Y10S117/905

摘要： 本发明公开了一种在基板上制造单晶结构的方法。按照现有技术的结晶外延生长，常常需要在一个平面内产生多条行进轨迹，以修复一个待修复区域。这会导致晶体结构的搭接和错误定向。在本发明的方法中，该轨迹是如此之宽，从而不会出现搭接，因为其宽度与待修复区域的外形相适配。

公开(公告)号：CN105209218B

公开(公告)日：2018-07-06

申请号：CN201480009759.4

申请日：2014-01-14

申请人： 康宁激光技术有限公司

发明人： R·格伦德穆勒 ,  H·席林格

IPC分类号： B23K26/53 ,  B23K26/0622 ,  B23K26/073 ,  B23K26/067 ,  C03B33/09 ,  B23K101/40

CPC分类号： C03B33/091 ,  B23K26/0006 ,  B23K26/0613 ,  B23K26/0624 ,  B23K26/0648 ,  B23K26/0676 ,  B23K26/0738 ,  B23K26/40 ,  B23K26/53 ,  B23K26/55 ,  B23K2103/50 ,  C03B33/0222 ,  Y02P40/57 ,  Y10T428/24355 ,  Y10T428/24471

摘要： 本申请涉及一种对平坦衬底(1)(尤其对晶片或玻璃元件)进行基于激光的加工以将该衬底分成多个部分的方法，其中用于加工衬底(1)的激光器(3)的激光束(2a，2b)被引导在衬底(1)处，该方法的特征在于：借助于被定位在激光器(3)的光束路径中的光学装置(6)，如沿着光束方向所观察的延伸的激光束焦线(2b)从照射到光学装置(6)上的激光束(2a)中被形成在光学装置(6)的光束输出端上，其中以这样的方式相对于激光束焦线(2b)定位衬底(1)以使沿着如在光束方向中所观察的延伸的激光束焦线(2b)的部分(2c)在衬底(1)的内部中的衬底的材料中产生诱发吸收，借助于此吸收，诱发的裂缝形成沿着所述延伸部分(2c)在衬底的材料中发生。

公开(公告)号：CN104882371B

公开(公告)日：2018-01-26

申请号：CN201510199238.6

申请日：2008-05-30

申请人： 株式会社 ,  IHI

发明人： 河口纪仁 ,  川上隆介 ,  西田健一郎 ,  M.正木 ,  森田胜

IPC分类号： H01L21/268 ,  B23K26/073 ,  B23K26/04

CPC分类号： B23K26/0608 ,  B23K26/0676 ,  B23K26/0738 ,  B23K26/082 ,  H01L21/02532 ,  H01L21/02678 ,  H01L21/02686 ,  H01L21/02691 ,  H01L21/268

摘要： 本发明涉及激光退火方法以及装置。在透镜阵列方式的均化器光学系统的情况下，一边使长轴用透镜阵列（20a、20b）在与线状光束的长轴方向对应的方向（X方向）往复移动，一边进行激光照射，由此，入射到在后级设置的构成长轴用聚光光学系统的大型透镜（长轴用聚光透镜22）的激光（1）的入射角以及强度按照每次发射而变化，所以，纵向条纹被大幅度降低。另外，一边使短轴用透镜阵列（26a、26b）在与线状光束的长轴方向对应的方向（Y方向）往复移动，一边进行激光照射，由此，入射到在后级设置的构成长轴用聚光光学系统的大型透镜（投影透镜30）的激光（1）的入射角以及强度按照每次发射而变化，所以，横向条纹被大幅度降低。

公开(公告)号：CN104395033B

公开(公告)日：2017-06-23

申请号：CN201380035611.3

申请日：2013-05-17

申请人： 法国圣戈班玻璃厂

发明人： L-Y.叶

IPC分类号： B23K26/08 ,  B23K26/064 ,  B23K26/70

CPC分类号： B23K26/352 ,  B23K26/0673 ,  B23K26/0738 ,  B23K26/082 ,  B23K26/0838 ,  B23K26/0846 ,  B23K37/0235 ,  B23K2101/40 ,  C23C14/5813

摘要： 本申请涉及用于对大面积玻璃衬底（7）上的含金属或含金属氧化物的涂层进行退火的激光设备（1），至少包括：a)至少一个激光源（2）；b)跨越具有玻璃衬底（7）的输送带（5）的至少两个桥（4）；其中‑每个桥（4）包含多个光学装置（3），所述光学装置交替地布置在桥（4）上；每个光学装置（3）均产生激光线（12）并且所有光学装置（3）的激光线(12)共同地覆盖玻璃衬底（7）的整个宽度。