剥离方法及半导体器件的制造方法

    公开(公告)号:CN101246814A

    公开(公告)日:2008-08-20

    申请号:CN200810009858.9

    申请日:2002-08-09

    CPC classification number: H01L27/1266 H01L21/76251 H01L27/1214

    Abstract: 本发明的目的在于提供一种剥离方法,不会损伤剥离层,不仅能够剥离具有较小面积的剥离层,而且能够剥离掉具有较大面积的剥离层整个表面。此外本发明的目的在于通过将剥离层粘贴到多种基片上提供一种轻型半导体器件,及其制备方法。具体地,本发明的目的在于通过粘贴多种元件例如TFT到柔性膜提供一种轻型半导体器件及其制备方法。即使第一材料层形成在基片上,第二材料层与上述第一材料层相邻形成,进一步进行层叠膜形成,在500℃或更高的温度进行热处理或激光束照射处理,如果第一材料层在剥离之前具有拉伸应力,第二材料层具有压缩应力,通过物理方式,可以容易地在第二材料层的层内或界面中很好地分离层。

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