一种具有嵌入式扩展电极的红外发光二极管制作方法

    公开(公告)号:CN104201268A

    公开(公告)日:2014-12-10

    申请号:CN201410433711.8

    申请日:2014-08-29

    CPC classification number: H01L33/38 H01L33/005 H01L33/405

    Abstract: 本发明公开一种具有嵌入式扩展电极的红外发光二极管制作方法,在外延衬底上依次形成腐蚀截止层、粗化层、欧姆接触层、第一型电流扩展层、第一型限制层、有源层、第二型限制层、第二型电流扩展层;在第二型电流扩展层上蒸镀形成金属反射镜层;将金属反射层键合在基板上;去除外延衬底、腐蚀截止层,露出粗化层;在粗化层表面形成扩展电极图形的沟槽,沟槽深度至露出欧姆接触层;在沟槽内蒸镀金属材料形成扩展电极;在粗化层表面制作焊盘电极,且焊盘电极与扩展电极连接相通;在基板背面蒸镀背电极,去除焊盘电极、扩展电极的保护层,裂片后得到。本发明可以提高扩展电极的可靠性,且获得更好电流扩展效果,提高红外发光二极管的发光效率。

    一种具有多粗化层的红外发光二极管的粗化方法

    公开(公告)号:CN104167478A

    公开(公告)日:2014-11-26

    申请号:CN201410391491.7

    申请日:2014-08-11

    CPC classification number: H01L33/22 H01L33/007 H01L33/10

    Abstract: 本发明公开一种具有多粗化层的红外发光二极管的粗化方法,在基板上形成发光结构,在发光结构上形成N层粗化层,在粗化层上形成第一电极,在基板另一面形成第二电极;采用干法蚀刻在最外层粗化层表面形成粗化界面,蚀刻深度至第二粗化层接触表面;用粗化液蚀刻最外层粗化层及第二粗化层露出部分表面及侧面,形成粗化界面;用ICP在露出第二粗化层表面形成面积较最外层粗化层小的粗化界面,蚀刻深度至第三粗化层接触表面;用粗化液蚀刻第二粗化层及第三粗化层露出的部分表面及侧面,形成粗化界面;重复操作步骤四及步骤五,至露出N层粗化层表面及侧面,形成粗化界面。本发明增加二极管表面出光面积,提高红外发光二极管的外量子效率。

    高聚光倍数太阳能电池的散热器及制造方法

    公开(公告)号:CN102208472B

    公开(公告)日:2014-04-16

    申请号:CN201110132005.6

    申请日:2011-05-20

    CPC classification number: Y02E10/50 Y02P70/521

    Abstract: 本发明公开一种高聚光倍数太阳能电池的散热器,由铜薄层、银铜钛合金层、金刚石膜、银铜钛合金层和铜底座组成,在聚光太阳能电池底下形成铜薄层,铜薄层下面形成银铜钛合金层,此铜薄层和银铜钛合金层上形成绝缘通道,银铜钛合金层下面形成金刚石膜,金刚石膜下面再形成银铜钛合金层,银铜钛合金层下面形成铜底座,铜底座中形成冷却水通道。本发明还公开了该散热器的制造方法。本发明的散热器能应用在聚光倍数1600倍以上的聚光太阳能电池上,整体热导率高达400W/(m·K)以上,散热效果优于热导率为280W/(m·K)的Al2O3陶瓷散热器,具有更高效的散热作用,使得聚光太阳能电池能在较高的聚光倍数下稳定工作且减少光电转换效率的下降。

    具有调制掺杂分布布拉格反射层的发光二极管

    公开(公告)号:CN102427105A

    公开(公告)日:2012-04-25

    申请号:CN201110352193.3

    申请日:2011-11-09

    Abstract: 本发明公开一种具有调制掺杂分布布拉格反射层的发光二极管,提供一衬底,在衬底的下表面具有第一电极,在衬底的上表面依次有分布布拉格反射层、第一型外延层、有源层、第二型外延层、电流扩展层,第二电极形成于电流扩展层之上,分布布拉格反射层由两种不同材料组成,在分布布拉格反射层的两种不同材料中掺入掺杂源,并在两种材料的界面处采用Delta掺杂。本发明因为分布布拉格反射层具有调制掺杂结构,可以有效降低发光二极管的正向工作电压,减少光吸收,提高发光二极管的效率。

    一种发光二极管的外延结构及其制造方法

    公开(公告)号:CN102299223A

    公开(公告)日:2011-12-28

    申请号:CN201110277489.3

    申请日:2011-09-19

    Abstract: 本发明公开一种发光二极管的外延结构及其制造方法,在GaAs衬底层的上面自下而上依次为布拉格反射层、第一型限制层、有源层、第二型限制层、电流扩展层,所述的有源层是由n组量子阱和量子垒交替组成,其中100≥n≥2,且同一个量子垒中的势垒高度为渐变式分布或不同量子垒之间的势垒高度为渐变式分布;其制造方法包括以下步骤:选择GaAs为衬底层,在GaAs衬底层上依次生长布拉格反射层、第一型限制层、有源层、第二型限制层、电流扩展层,其中有源层是由n组量子阱和量子垒交替生长而成,量子垒用(AlxGa1-x)yIn1-yP三五族化合物构成,其中1≥x≥0.5,本发明增强了量子垒对电子的限制作用,提高量子阱里电子和空穴的复合率,从而提高发光二极管的亮度。

    发光二极管结构及其制造方法

    公开(公告)号:CN102280548A

    公开(公告)日:2011-12-14

    申请号:CN201110260363.5

    申请日:2011-09-05

    Abstract: 本发明涉及发光二极管领域。发光二极管结构是:衬底下表面具有第一电极,外延结构形成于衬底的上表面,外延结构分别为反射层、N型限制层、有源层、P型限制层、电流扩展层,第二电极形成于电流扩展层之上。其中,所述的反射层是由3组以上布拉格反射系统组成,每组布拉格反射系统中由3对以上的低折射率材料层、高折射率材料层交替的布拉格反射层组成,每组布拉格反射系统中布拉格反射层中的高折射率材料层的折射率自衬底以上每组依次是阶梯式递减。制造如上述发光二极管结构的方法,包括步骤:A,构建一衬底;B,在衬底上表面形成反射层;C,在反射层上分别外延出N型限制层、有源层、P型限制层、电流扩展层;D,在衬底底面和外延层的上表面分别形成第一电极和第二电极;E,进行切割。

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