磁测量装置
    31.
    发明授权

    公开(公告)号:CN104081217B

    公开(公告)日:2017-09-01

    申请号:CN201280068264.X

    申请日:2012-12-13

    CPC classification number: G01R33/12 G01R33/10 G01R33/1215

    Abstract: 本发明在于提供可以测量薄板状的磁性体试样的微小区域的磁特性的磁场测量装置。其中,在对磁性体试样(5)施加磁场并使之磁化之后,通过由测量部(2)扫描从而检测磁性体试样(5)的泄漏磁通。通过对磁性体试样(5)的第1区域和第2区域在彼此相反的方向上使其磁化并减小退磁场(Hd),从而使磁通泄漏到外部。具体而言,由具有一对以上磁极的磁场产生部(6)来进行多极着磁,或者由磁场产生部(6)施加阻尼振荡磁场来进行着磁,或者由一边施加交流磁场一边扫描试样表面的局部磁场产生部(3)来进行着磁。

    R-T-B系永久磁铁
    32.
    发明授权

    公开(公告)号:CN104124018B

    公开(公告)日:2016-05-25

    申请号:CN201410166833.5

    申请日:2014-04-24

    CPC classification number: H01F1/057 H01F10/126

    Abstract: 本发明提供与现有的R-T-B系永久磁铁相比较,不会显著降低磁特性,并且在温度特性方面表现优异的永久磁铁。在R-T-B系的构造中,通过交替地层叠R1-T-B和(Y、La)-T-B,从而形成R1-T-B系结晶层和(Y、La)-T-B系结晶层的层叠构造,一边可以维持R1-T-B系结晶层的高的各向异性磁场一边可以得到(Y、La)-T-B系结晶层的温度系数的改善效果。通过将(Y、La)-T-B系结晶层的稀土类元素设为Y和La这2个元素,从而缓和层叠构造整体的晶格畸变,并得到高的剩余磁通密度。

    R-T-B系永久磁铁
    33.
    发明授权

    公开(公告)号:CN104124020B

    公开(公告)日:2016-02-10

    申请号:CN201410171646.6

    申请日:2014-04-25

    CPC classification number: H01F1/057 H01F10/126

    Abstract: 本发明提供与现有的R-T-B系永久磁铁相比不会显著降低磁特性并且在温度特性方面表现优异的永久磁铁。在R-T-B系的构造中,通过交替地层叠R1-T-B和Y-T-B,从而形成R1-T-B系结晶层和Y-T-B系结晶层的层叠构造,维持R1-T-B系结晶层的高的各向异性磁场,同时得到Y-T-B系结晶层的温度系数的改善效果。

    R-T-B系永久磁铁
    34.
    发明授权

    公开(公告)号:CN104124019B

    公开(公告)日:2015-10-28

    申请号:CN201410168557.6

    申请日:2014-04-24

    CPC classification number: H01F1/057 H01F10/126

    Abstract: 本发明提供与现有的R-T-B系永久磁铁相比较,不会显著降低磁特性,并且能够在低温下制造的永久磁铁。在R-T-B系的构造中,通过交替地层叠R1-T-B系结晶层和Ce-T-B结晶层,从而形成R1-T-B系结晶层和Ce-T-B系结晶层的层叠构造,可以在维持R1-T-B系结晶层的高的各向异性磁场的同时由Ce-T-B系结晶层降低结晶化温度。

    R-T-B系永久磁铁
    35.
    发明公开

    公开(公告)号:CN104124017A

    公开(公告)日:2014-10-29

    申请号:CN201410160457.9

    申请日:2014-04-21

    CPC classification number: H01F1/057 H01F10/126

    Abstract: 本发明提供与现有的R-T-B系永久磁铁相比较,不会显著降低磁特性,并且在温度特性方面表现优异的永久磁铁。在R-T-B系的构造中,通过交替地层叠R1-T-B和(Y、Ce)-T-B,从而形成R1-T-B系结晶层和(Y、Ce)-T-B系结晶层的层叠构造,一边可以维持R1-T-B系结晶层的高的各向异性磁场一边可以得到(Y、Ce)-T-B系结晶层的温度系数的改善效果。通过将晶格畸变小的Ce-T-B系结晶层加到Y-T-B系结晶层从而可以得到高的矫顽力。

    薄膜电容器及其制造方法
    38.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1732540A

    公开(公告)日:2006-02-08

    申请号:CN200380107746.2

    申请日:2003-12-25

    Abstract: 本发明的目的是提供一种尺寸小、电容大、且介电特性优异的薄膜电容器及其制造方法。根据本发明的薄膜电容器包括其表面沿[001]方向定向的支持衬底、形成在支持衬底上且其表面沿[001]方向定向的缓冲层、形成在缓冲层上且其表面沿[001]方向定向的下电极薄膜、形成在下电极薄膜上且其表面沿[001]方向亦即其c轴定向的包含铋层结构化合物的介质薄膜、以及形成在介质薄膜上的上电极薄膜。

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