高性能钽靶材的热轧工艺
    31.
    发明授权

    公开(公告)号:CN102989767B

    公开(公告)日:2015-12-16

    申请号:CN201210291462.4

    申请日:2012-08-16

    CPC classification number: C23C14/3414

    Abstract: 本发明涉及一种高性能钽靶材的热轧工艺,该方法首先将锻造坯料预热至900-1200℃,然后轧制,酸洗至钽金属光泽无杂斑即可。本发明通过对加热轧制生产高性能钽靶材轧制坯料,利用该高性能轧制坯料可获得靶材厚度方向(100)织构占优的织构组分(所占比例在50%以上),并且均匀一致,满足高端溅射基台使用要求的高性能钽靶材,与普通钽靶材相比较,高性能钽靶材不但实现了靶材厚度方向(100)织构达到50%以上的织构组分,而且对织构均匀性也提出更高的要求,从而确保了在使用中溅射速率一致。

    一种平面铌靶材的制备方法

    公开(公告)号:CN104593708A

    公开(公告)日:2015-05-06

    申请号:CN201510020338.8

    申请日:2015-01-16

    CPC classification number: C23C14/3407 C22F1/18

    Abstract: 本发明提供了一种平面铌靶材的制备方法,包括以下步骤:A),将铌锭进行锻造,所述锻造的方式为径向打方轴向拔长;将锻造后的铌锭进行酸洗,将酸洗后的铌锭进行热处理;B),将步骤A)得到的铌锭进行锻造,所述锻造的方式为压扁锻造;将锻造后的铌锭进行酸洗,将酸洗后的铌锭进行热处理;C),将步骤B)得到的铌锭进行轧制,将轧制后的铌板进行热处理,得到平面铌靶材。本申请通过锻造与轧制的加工方式,使铸锭中的柱状晶区、中心等轴晶区和铌锭边缘附近的细晶区实施了有效破碎,同时通过中间热处理与成品热处理,使铌靶材组织更加均匀,得到了均匀细致的等轴晶组织。

    一种制备铌靶材的方法
    35.
    发明公开

    公开(公告)号:CN103757592A

    公开(公告)日:2014-04-30

    申请号:CN201410054777.6

    申请日:2014-02-19

    Abstract: 本发明提供了一种制备铌靶材的方法,包括以下步骤:a)将铌锭进行热处理,将热处理后的铌锭钻孔;b)将步骤a)得到的铌锭的内表面与外表面包覆第一金属材料,将得到的铌锭抽真空;c)将步骤b)得到的铌锭的内表面和外表面包覆第二金属材料;d)将步骤c)得到的铌锭进行热挤压。本申请在制备铌靶材的过程中,通过在铌锭的内表面与外表面依次包覆第一金属材料于第二金属材料,有效地避免了铌靶材在制备过程中的吸氢吸氧,并且易于铌靶材的加工。

    一种溅射钽环件凸台和环体的焊接方法

    公开(公告)号:CN102990234A

    公开(公告)日:2013-03-27

    申请号:CN201210291461.X

    申请日:2012-08-16

    Abstract: 本发明涉及一种溅射钽环件凸台和环件的焊接方法,其特征是:首先将凸台和环件分别酸洗,然后采用激光点焊的方法将所有凸台固定在环件上,用酸液进行表面处理,最后将固定好凸台的环件装夹在三爪卡盘上,通过W轴的旋转依次完成多个凸台的焊接。本发明首先采用点焊的方法将所有凸台固定在环件上,然后再进行电子束焊接,这样只需要抽一次真空即可完成所有凸台的焊接,最大限度的简化了加工工艺,从而大大提高了加工效率,降低了加工成本,同时由于先将凸台全部固定,避免电子束焊接时凸台变形,减少了废品的产生,提高了加工质量。

    一种大规格钽靶材的锻造方法

    公开(公告)号:CN102658346A

    公开(公告)日:2012-09-12

    申请号:CN201210098935.9

    申请日:2012-04-06

    Abstract: 一种大规格钽靶材的锻造方法,是采用打方拔长、打圆、镦粗锻造手段、中间配合热处理的方法,实现大规格钽靶材的均质化;具体步骤之一为:第一步,打方拔长;第二步,定尺锯料,根据最终成品的2~2.5倍重量计算,锯料;第三步,酸洗;第四步,热处理,热处理温度为钽材料熔点的25%-50%,保温时间为60~150min;第五步,二次锻造,镦粗,在镦粗时,上下平面涂润滑油;第六步,酸洗,同第三步;第七步,热处理,同第四步,第八步,三次锻造,打圆,用精锻机对坯料进行找圆。

    钽靶材的织构形成方法

    公开(公告)号:CN101704187B

    公开(公告)日:2011-08-17

    申请号:CN200910117586.9

    申请日:2009-11-13

    Abstract: 本发明是一种钽靶材的织构形成方法,以钽锭为原料,其工艺过程依次为:锻造、酸洗、热处理、轧制、二次酸洗、二次热处理、校平、下料、车削。本发明在应用时,在溅射中会使被溅射的晶粒溅射速率趋近相同、溅射原子角度分布轨迹趋近相同,这样就会获得薄膜厚度均匀一致的镀层,同时,钽靶的材料使用率亦得到大幅提高,本发明不仅填补了我国此方面的研究空白,同时也站在了世界上的技术前沿。

Patent Agency Ranking