钽靶材的织构形成方法

    公开(公告)号:CN101704187B

    公开(公告)日:2011-08-17

    申请号:CN200910117586.9

    申请日:2009-11-13

    Abstract: 本发明是一种钽靶材的织构形成方法,以钽锭为原料,其工艺过程依次为:锻造、酸洗、热处理、轧制、二次酸洗、二次热处理、校平、下料、车削。本发明在应用时,在溅射中会使被溅射的晶粒溅射速率趋近相同、溅射原子角度分布轨迹趋近相同,这样就会获得薄膜厚度均匀一致的镀层,同时,钽靶的材料使用率亦得到大幅提高,本发明不仅填补了我国此方面的研究空白,同时也站在了世界上的技术前沿。

Patent Agency Ranking