一种用于“硅通孔”TSV-Cu结构工艺残余应力的测试方法

    公开(公告)号:CN102818765B

    公开(公告)日:2014-06-11

    申请号:CN201210310455.4

    申请日:2012-08-28

    IPC分类号: G01N19/00 G01L5/00

    摘要: 一种用于“硅通孔”TSV-Cu结构工艺残余应力的测试方法,属于电子信息技术领域。用压头向下对实验试样中硅通孔中的铜柱进行挤压,同时记录压头向下作用时的位移和压力F,获得压力F和位移曲线,得到压力F下降时的门槛值,并将压力F的门槛值代入压力和界面切应力转换公式中,便得到镀铜工艺制作的硅通孔结构TSV-Cu中铜和硅界面处发生滑移时的切应力门槛值τ0;由切应力门槛值τ0计算得到本发明所需要测量的“硅通孔”TSV-Cu残余应力。本发明最大程度保持试样的完整性,不对试样进行切割等影响残余应力释放的操作,测试结果更加精确,同时残余应力的计算方法简单可靠,可以直观的判断残余应力的正负。

    一种CMOS图像传感器封装结构及其制造方法

    公开(公告)号:CN103000649A

    公开(公告)日:2013-03-27

    申请号:CN201210480106.7

    申请日:2012-11-22

    IPC分类号: H01L27/146

    摘要: 一种CMOS图像传感器封装结构及其制造方法,属传感器领域。光学交互区位于硅衬底正面第一表面的中央,在光学交互区的上方形成有金属互连层,微镜头阵列放置在金属互联层上方,金属互联层外侧有第一保护层;在第一表面制作未穿透硅衬底的硅通孔和重分布层,光学交互区周围的I/O通过重分布层连接硅通孔;硅通孔孔壁上有作钝化层并填充;在重分布层上有第二保护层;硅衬底同玻璃片键合,玻璃片和硅衬底之间设空腔;硅衬底的第二表面减薄暴露出硅通孔;硅衬底第二表面上制作线路层将硅通孔连接到焊盘垫,线路层上制作防焊层并暴露出焊盘垫;焊球在焊盘垫上。本发明改善了封装结构中玻璃和硅衬底之间的分层问题,提高了可靠性,封装结构适合更大尺寸芯片。