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公开(公告)号：CN103155089A
公开(公告)日：2013-06-12
申请号：CN201180048085.5
申请日：2011-10-05
Applicant: 株式会社日立高新技术
IPC: H01J37/20 , H01J37/16 , H01J37/18 , H01J37/28 , H01J37/317
CPC classification number: H01J37/20 , H01J37/185 , H01J2237/2006 , H01J2237/204 , H01J2237/208
Abstract: 本发明提供在FIB与SEM之间以遮蔽环境的状态转移试样容易的带电粒子线用试样装置。在通过闸门与FIB（1）或SEM的试样室（4）连通的试样更换器（5）中设置用于装卸与外部空气遮蔽的环境遮蔽试样支架（7）的盖（9）的环境遮蔽单元（10），只通过推试样更换棒（11）卸下盖（9），只将试样支架（7）固定在试样室（4）内。环境遮蔽试样支架（7）在与空气遮蔽的环境中、例如在真空中搭载了试样后，通过盖上盖（9）而遮蔽试样与外部空气，在该状态下只通过推试样更换棒（11）能够在FIB（1）或SEM内进行试样的加工及观察，并且通过在拉出试样更换棒（11）时利用环境遮蔽单元（10）盖上盖（9），保持试样与外部空气的遮蔽状态。
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公开(公告)号：CN101131910A
公开(公告)日：2008-02-27
申请号：CN200710110708.2
申请日：2003-03-21
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01J37/317 , H01L21/00 , H01L21/67
CPC classification number: H01J37/20 , H01J37/18 , H01J37/3171 , H01J2237/20 , H01J2237/2006 , H01J2237/2007 , H01J2237/20221 , H01J2237/20228 , H01J2237/20278 , H01L21/682 , H01L21/6835
Abstract: 本发明公开一种半导体处理装置，该装置提供衬底或晶片夹持器(180)的扫描臂(60)在至少两个通常正交方向(所谓X－Y扫描)上运动。在第一方向上的扫描是纵向贯穿在真空室壁上孔(55)。臂(60)通过一个或多个直线式电动机(90A、90B)往复运动。臂(60)使用万向空气轴承相对于导引板(100)支撑，以便于为臂相对于导引板(100)提供悬臂支撑。为臂(60)进入真空室的适应性穿通装置(130)然后担当真空密封和引导件，但其自身不要提供轴承支撑。法拉第(450)被连接到邻近衬底夹持器(180)的臂(60)，以允许在注入之前和过程中实现束分布的确定。法拉第(450)可以替代地或另外地被安装邻近所述衬底夹持器的后部或与其成90°，并且所述衬底支撑被颠倒或水平并脱离束线，以允许在注入之前实现束分布的确定。
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公开(公告)号：CN103946749B
公开(公告)日：2016-11-16
申请号：CN201280051562.8
申请日：2012-09-12
Applicant: 迈普尔平版印刷IP有限公司
Inventor： J·J·M·佩斯特
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03B27/58 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/70716 , G03F7/70725 , G03F7/70758 , G03F7/70841 , H01J37/20 , H01J37/3177 , H01J2237/0266 , H01J2237/16 , H01J2237/2006 , H01J2237/20221 , H01J2237/20285 , H02K41/02
Abstract: 一种目标定位装置，尤其用于光刻系统，其包括用于承载目标的载体(300)，以及用于承载载体并沿着第一方向(X)移动该载体的支撑台。该支撑台包括两个X‑支撑台基座(401、402)，二者皆布置在公共基板(403)的顶部上，每一个X‑支撑台基座承载一X‑支撑台托架(404、405)，以及一Y‑梁(406)，所述Y‑梁包括用以承载所述载体并在第二方向(Y)上移动该载体的Y‑支撑台(407)。所述Y‑梁跨接该X‑支撑台托架之间的空间并经由一柔性连接器(408、409)而被连接到该X‑支撑台托架上。该装置还包括两个电机(M1、M2)，每一个用以沿着相应的X‑支撑台基座驱动相应的X‑支撑台托架。该两个电机至少大致被设置在该支撑台下方。所述两个电机中的每一个被连接至一偏心凸轮或曲柄(410、411)，后者经由一曲柄轴(412、413)而被连接至该相对应的X‑支撑台托架。
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公开(公告)号：CN105493224A
公开(公告)日：2016-04-13
申请号：CN201480044976.7
申请日：2014-03-10
Applicant: 株式会社日立高新技术
CPC classification number: H01J37/20 , G01M3/02 , H01J37/16 , H01J37/18 , H01J37/26 , H01J37/28 , H01J2237/188 , H01J2237/2002 , H01J2237/2006 , H01J2237/2605 , H01J2237/2608 , H01J2237/2802
Abstract: 以往在更换隔膜时未充分考虑所需的成本、作业的便利性等，因此装置难以使用。在本发明中，通过隔离真空空间与大气压空间的隔膜(10)而将一次带电粒子线照射在放置于大气压空间的试样上的带电粒子线装置上所设置的隔膜安装部件(155)具有：安装TEM用膜片的隔膜设置部位；以及安装在带电粒子线装置的壳体上的壳体固定部位。并且，该隔膜设置部位具有对保持有隔膜(10)的基座(9)进行定位的定位结构(155a)。
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公开(公告)号：CN103155089B
公开(公告)日：2016-03-02
申请号：CN201180048085.5
申请日：2011-10-05
Applicant: 株式会社日立高新技术
IPC: H01J37/20 , H01J37/16 , H01J37/18 , H01J37/28 , H01J37/317
CPC classification number: H01J37/20 , H01J37/185 , H01J2237/2006 , H01J2237/204 , H01J2237/208
Abstract: 本发明提供在FIB与SEM之间以遮蔽环境的状态转移试样容易的带电粒子线用试样装置。在通过闸门与FIB（1）或SEM的试样室（4）连通的试样更换器（5）中设置用于装卸与外部空气遮蔽的环境遮蔽试样支架（7）的盖（9）的环境遮蔽单元（10），只通过推试样更换棒（11）卸下盖（9），只将试样支架（7）固定在试样室（4）内。环境遮蔽试样支架（7）在与空气遮蔽的环境中、例如在真空中搭载了试样后，通过盖上盖（9）而遮蔽试样与外部空气，在该状态下只通过推试样更换棒（11）能够在FIB（1）或SEM内进行试样的加工及观察，并且通过在拉出试样更换棒（11）时利用环境遮蔽单元（10）盖上盖（9），保持试样与外部空气的遮蔽状态。
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公开(公告)号：CN105103262A
公开(公告)日：2015-11-25
申请号：CN201480019441.4
申请日：2014-03-05
Applicant: 株式会社日立高新技术
CPC classification number: H01J37/16 , H01J37/026 , H01J37/18 , H01J37/20 , H01J37/26 , H01J2237/0213 , H01J2237/022 , H01J2237/2003 , H01J2237/2006
Abstract: 本发明的特征是在配置于非真空下的试料(6)与一次电子光学系统之间设有隔膜(10)的扫描电子显微镜中，具备过滤部件(200)，该过滤部件(200)至少在一次带电粒子束照射于试料的状态下配置在一次带电粒子束的路径上，使一次带电粒子束以及从试料得到的二次带电粒子透射或者通过，并且在隔膜破损了的情况下对飞散的飞散物的至少一部分进行遮蔽。由此，当在试料观察过程中隔膜损伤了的情况下，能够利用简单的结构没有时滞地防止因试料被吸入带电粒子光学镜筒内而产生的带电粒子光学系统、检测器的污染。
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公开(公告)号：CN102804328A
公开(公告)日：2012-11-28
申请号：CN201080028969.X
申请日：2010-06-18
Applicant: 特温克里克技术公司
CPC classification number: H01J37/3171 , H01J37/05 , H01J37/08 , H01J37/20 , H01J2237/057 , H01J2237/061 , H01J2237/082 , H01J2237/166 , H01J2237/2001 , H01J2237/2006 , H01J2237/201 , H01J2237/202
Abstract: 一种用于使硅从硅晶片剥落的氢离子植入器使用大的扫描轮(14)，所述扫描轮在其周缘周围承载50+个晶片并且绕着轴线旋转。在一个实施方式中，轮的旋转轴线固定，并且氢离子的带状束(101)在轮的周缘上指向下方。带状束在轮上的晶片的整个径向宽度上方延伸。束是由离子源(16)生成的，离子源提供具有至少100mm主截面直径的提取带状束。离子源可以使用无芯鞍形类型的线圈(112、112a-c)，以便提供约束离子源中的等离子体的均匀场。带状束可以穿过90度弯曲的磁体(17)，所述磁体在带状平面中弯曲所述束。
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公开(公告)号：CN101197241A
公开(公告)日：2008-06-11
申请号：CN200710152074.7
申请日：2003-03-21
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01J37/317 , H01L21/265
CPC classification number: H01J37/20 , H01J37/18 , H01J37/3171 , H01J2237/20 , H01J2237/2006 , H01J2237/2007 , H01J2237/20221 , H01J2237/20228 , H01J2237/20278 , H01L21/682 , H01L21/6835
Abstract: 注入器提供对衬底的相对于注入射束的二维扫描，使得射束在衬底上画出扫描线的栅格。在离开衬底的转折点对射束电流进行测量，并且电流值被用来控制随后的快速扫描速度，以补偿射束电流的任何变化对慢速扫描方向上的剂量均匀性的影响。该扫描可以产生不相交的、均匀间隔的平行扫描线的栅格，并且线之间的间距被选择以确保适当的剂量均匀性。
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公开(公告)号：CN100343942C
公开(公告)日：2007-10-17
申请号：CN03808120.2
申请日：2003-03-21
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01J37/20 , H01J37/317 , H01L21/00
CPC classification number: H01J37/20 , H01J37/18 , H01J37/3171 , H01J2237/20 , H01J2237/2006 , H01J2237/2007 , H01J2237/20221 , H01J2237/20228 , H01J2237/20278 , H01L21/682 , H01L21/6835
Abstract: 本发明公开一种半导体处理装置，该装置提供衬底或晶片夹持器(180)的扫描臂(60)在至少两个通常正交方向(所谓X-Y扫描)上的移动。在第一方向上的扫描是纵向穿过在真空室壁上开口(55)。臂(60)通过一个或多个直线式电动机(90A、90B)往复运动。臂(60)使用万向空气轴承相对于滑片(100)支撑，以便于为臂相对于滑片(100)提供悬臂支撑。用于臂(60)的进入真空室的适应性穿通装置(130)然后作为真空密封和导引，但其自身不需要提供轴承支撑。法拉第(450)被连接到邻近衬底夹持器(180)的臂(60)，以允许在注入之前和过程中实现射束分布的确定。法拉第(450)可以替代地或另外地被安装邻近所述衬底夹持器的后部或与其成90°，并且所述衬底支撑被颠倒或水平并脱离射束线，以允许在注入之前实现射束分布的确定。
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