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公开(公告)号：CN1647236A
公开(公告)日：2005-07-27
申请号：CN03808121.0
申请日：2003-03-21
申请人： 应用材料公司
IPC分类号： H01J37/317
CPC分类号： H01J37/3171 , H01J37/304 , H01J2237/20228 , H01J2237/31703
摘要： 注入器提供对衬底的相对于注入射束的二维扫描，使得射束在衬底上画出扫描线的栅格。在离开衬底的转折点对射束电流进行测量，并且电流值被用来控制随后的快速扫描速度，以补偿射束电流的任何变化对慢速扫描方向上的剂量均匀性的影响。该扫描可以产生不相交的、均匀间隔的平行扫描线的栅格，并且线之间的间距被选择以确保适当的剂量均匀性。
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公开(公告)号：CN101197241A
公开(公告)日：2008-06-11
申请号：CN200710152074.7
申请日：2003-03-21
申请人： 应用材料公司
IPC分类号： H01J37/317 , H01L21/265
CPC分类号： H01J37/20 , H01J37/18 , H01J37/3171 , H01J2237/20 , H01J2237/2006 , H01J2237/2007 , H01J2237/20221 , H01J2237/20228 , H01J2237/20278 , H01L21/682 , H01L21/6835
摘要： 注入器提供对衬底的相对于注入射束的二维扫描，使得射束在衬底上画出扫描线的栅格。在离开衬底的转折点对射束电流进行测量，并且电流值被用来控制随后的快速扫描速度，以补偿射束电流的任何变化对慢速扫描方向上的剂量均匀性的影响。该扫描可以产生不相交的、均匀间隔的平行扫描线的栅格，并且线之间的间距被选择以确保适当的剂量均匀性。
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公开(公告)号：CN100343942C
公开(公告)日：2007-10-17
申请号：CN03808120.2
申请日：2003-03-21
申请人： 应用材料公司
IPC分类号： H01J37/20 , H01J37/317 , H01L21/00
CPC分类号： H01J37/20 , H01J37/18 , H01J37/3171 , H01J2237/20 , H01J2237/2006 , H01J2237/2007 , H01J2237/20221 , H01J2237/20228 , H01J2237/20278 , H01L21/682 , H01L21/6835
摘要： 本发明公开一种半导体处理装置，该装置提供衬底或晶片夹持器(180)的扫描臂(60)在至少两个通常正交方向(所谓X-Y扫描)上的移动。在第一方向上的扫描是纵向穿过在真空室壁上开口(55)。臂(60)通过一个或多个直线式电动机(90A、90B)往复运动。臂(60)使用万向空气轴承相对于滑片(100)支撑，以便于为臂相对于滑片(100)提供悬臂支撑。用于臂(60)的进入真空室的适应性穿通装置(130)然后作为真空密封和导引，但其自身不需要提供轴承支撑。法拉第(450)被连接到邻近衬底夹持器(180)的臂(60)，以允许在注入之前和过程中实现射束分布的确定。法拉第(450)可以替代地或另外地被安装邻近所述衬底夹持器的后部或与其成90°，并且所述衬底支撑被颠倒或水平并脱离射束线，以允许在注入之前实现射束分布的确定。
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公开(公告)号：CN100401449C
公开(公告)日：2008-07-09
申请号：CN03808121.0
申请日：2003-03-21
申请人： 应用材料公司
IPC分类号： H01J37/317
CPC分类号： H01J37/3171 , H01J37/304 , H01J2237/20228 , H01J2237/31703
摘要： 注入器提供对衬底的相对于注入射束的二维扫描，使得射束在衬底上画出扫描线的栅格。在离开衬底的转折点对射束电流进行测量，并且电流值被用来控制随后的快速扫描速度，以补偿射束电流的任何变化对慢速扫描方向上的剂量均匀性的影响。该扫描可以产生不相交的、均匀间隔的平行扫描线的栅格，并且线之间的间距被选择以确保适当的剂量均匀性。
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公开(公告)号：CN101131910A
公开(公告)日：2008-02-27
申请号：CN200710110708.2
申请日：2003-03-21
申请人： 应用材料公司
IPC分类号： H01J37/317 , H01L21/00 , H01L21/67
CPC分类号： H01J37/20 , H01J37/18 , H01J37/3171 , H01J2237/20 , H01J2237/2006 , H01J2237/2007 , H01J2237/20221 , H01J2237/20228 , H01J2237/20278 , H01L21/682 , H01L21/6835
摘要： 本发明公开一种半导体处理装置，该装置提供衬底或晶片夹持器(180)的扫描臂(60)在至少两个通常正交方向(所谓X－Y扫描)上运动。在第一方向上的扫描是纵向贯穿在真空室壁上孔(55)。臂(60)通过一个或多个直线式电动机(90A、90B)往复运动。臂(60)使用万向空气轴承相对于导引板(100)支撑，以便于为臂相对于导引板(100)提供悬臂支撑。为臂(60)进入真空室的适应性穿通装置(130)然后担当真空密封和引导件，但其自身不要提供轴承支撑。法拉第(450)被连接到邻近衬底夹持器(180)的臂(60)，以允许在注入之前和过程中实现束分布的确定。法拉第(450)可以替代地或另外地被安装邻近所述衬底夹持器的后部或与其成90°，并且所述衬底支撑被颠倒或水平并脱离束线，以允许在注入之前实现束分布的确定。
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公开(公告)号：CN101131910B
公开(公告)日：2010-06-09
申请号：CN200710110708.2
申请日：2003-03-21
申请人： 应用材料公司
IPC分类号： H01J37/317 , H01L21/00 , H01L21/67
CPC分类号： H01J37/20 , H01J37/18 , H01J37/3171 , H01J2237/20 , H01J2237/2006 , H01J2237/2007 , H01J2237/20221 , H01J2237/20228 , H01J2237/20278 , H01L21/682 , H01L21/6835
摘要： 本发明公开一种半导体处理装置，该装置提供衬底或晶片夹持器(180)的扫描臂(60)在至少两个通常正交方向(所谓X-Y扫描)上运动。在第一方向上的扫描是纵向贯穿在真空室壁上孔(55)。臂(60)通过一个或多个直线式电动机(90A、90B)往复运动。臂(60)使用万向空气轴承相对于导引板(100)支撑，以便于为臂相对于导引板(100)提供悬臂支撑。为臂(60)进入真空室的适应性穿通装置(130)然后担当真空密封和引导件，但其自身不要提供轴承支撑。法拉第(450)被连接到邻近衬底夹持器(180)的臂(60)，以允许在注入之前和过程中实现束分布的确定。法拉第(450)可以替代地或另外地被安装邻近所述衬底夹持器的后部或与其成90°，并且所述衬底支撑被颠倒或水平并脱离束线，以允许在注入之前实现束分布的确定。
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公开(公告)号：CN1647235A
公开(公告)日：2005-07-27
申请号：CN03808120.2
申请日：2003-03-21
申请人： 应用材料公司
IPC分类号： H01J37/20 , H01J37/317 , H01L21/00
CPC分类号： H01J37/20 , H01J37/18 , H01J37/3171 , H01J2237/20 , H01J2237/2006 , H01J2237/2007 , H01J2237/20221 , H01J2237/20228 , H01J2237/20278 , H01L21/682 , H01L21/6835
摘要： 本发明公开一种半导体处理装置，该装置提供衬底或晶片夹持器(180)的扫描臂(60)在至少两个通常正交方向(所谓X－Y扫描)上的移动。在第一方向上的扫描是纵向穿过在真空室壁上开口(55)。臂(60)通过一个或多个直线式电动机(90A、90B)往复运动。臂(60)使用万向空气轴承相对于滑片(100)支撑，以便于为臂相对于滑片(100)提供悬臂支撑。用于臂(60)的进入真空室的适应性穿通装置(130)然后作为真空密封和导引，但其自身不需要提供轴承支撑。法拉第(450)被连接到邻近衬底夹持器(180)的臂(60)，以允许在注入之前和过程中实现射束分布的确定。法拉第(450)可以替代地或另外地被安装邻近所述衬底夹持器的后部或与其成90°，并且所述衬底支撑被颠倒或水平并脱离射束线，以允许在注入之前实现射束分布的确定。
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