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公开(公告)号：CN1708728A
公开(公告)日：2005-12-14
申请号：CN200380102382.9
申请日：2003-10-23
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/039
Abstract: 本发明提供一种感放射线性树脂组合物，该树脂组合物在使用如KrF准分子激光、ArF准分子激光等远紫外线之类的各种放射线的微细加工中可以用作为化学增幅型抗蚀剂。本发明的感放射线性树脂组合物含有〔A〕含有由下述通式(I－1)表示的重复单元(1－1)的树脂、〔B〕感放射线性酸发生剂(1－(4－正丁氧基萘基)四氢噻吩鎓九氟－正丁磺酸酯等)。进而，还可以含有〔C〕酸扩散控制剂(苯基苯并咪唑等)。
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公开(公告)号：CN103923426B
公开(公告)日：2019-06-07
申请号：CN201410015553.4
申请日：2014-01-14
Applicant: JSR株式会社
Abstract: 本发明涉及树脂组合物、固化膜、其形成方法、半导体元件及显示元件。所述树脂组合物含有[A1]具有结构单元(I)和结构单元(II‑1)的聚合物，该结构单元(I)包含由下述式(1)表示的基团以及下述式(2)表示的基团组成的组中选出的至少一种，该结构单元(II‑1)包含交联性基团(a1)。所述树脂组合物可形成具有优异的表面硬度并且可充分满足灵敏度、显影密接性、耐化学品性、耐热性、透射率以及相对介电常数等一般特性的固化膜，且保存稳定性优异。
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公开(公告)号：CN102333797A
公开(公告)日：2012-01-25
申请号：CN201080008657.2
申请日：2010-02-23
Applicant: JSR株式会社
CPC classification number: C07C69/96 , C07C68/06 , C07C2601/14 , C08F220/30 , G03F7/0046 , G03F7/0392
Abstract: 本发明涉及通式(1)(其中，R0为碳原子数1～10的(n+1)价的直链状或支链状脂肪族烃基等，R1为氢原子、甲基或三氟甲基，R2为单键等，R3为碳原子数1～4的直链状或支链状烷基等，X为碳原子数1～10的直链状或支链状氟代亚烷基，n为1～5的整数)表示的化合物。
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公开(公告)号：CN102037030A
公开(公告)日：2011-04-27
申请号：CN200980117928.5
申请日：2009-05-18
Applicant: JSR株式会社
IPC: C08F20/28 , C07C69/96 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC classification number: C07C69/96 , C08F220/18 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/2041 , C08F220/28 , C08F220/22
Abstract: 本发明的目的在于，提供一种液浸曝光用放射线敏感性树脂组合物、聚合物及抗蚀剂图案形成方法，其中，所述液浸曝光用放射线敏感性树脂组合物对放射线的透明性高、灵敏度等作为抗蚀剂的基本物性优异、同时最小倒塌尺寸(倒塌)优异、且液浸曝光工艺中的图案形状的参差不齐得到改善。本发明的液浸曝光用放射线敏感性树脂组合物含有(A)树脂成分、(B)放射线敏感性产酸剂和(C)溶剂，其中，(A)树脂成分在将该(A)树脂成分设定为100质量％时含有超过50质量％的含酸离解性基团树脂(A1)，所述含酸离解性基团树脂(A1)包含在侧链具有氟原子和酸离解性基团的重复单元(a1)。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1916760B
公开(公告)日：2010-10-13
申请号：CN200610126701.5
申请日：2002-06-28
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/004 , C07D207/40 , C07D209/70 , C07D211/88 , C07D221/14 , C07D491/18
CPC classification number: C07C309/23 , C07C309/17 , C07C309/19 , C07C381/12 , C07C2602/42 , C07C2603/86 , C07D333/46 , C07D333/78 , C07D335/02 , C07D347/00 , G03F7/0045 , G03F7/0392 , G03F7/0757 , Y10S430/114 , Y10S430/115
Abstract: 提供了一种含有下式(2)、(2-A)或(2-B)的结构的新的光致酸发生剂，其中各基团如说明书所定义当用于化学放大辐射敏感树脂组合物时，光致酸发生剂表现出高透明度、较高的可燃性，和没有生物累积，产生的酸表现出高酸性、高沸点、在树脂涂层中适度的扩散长度以及对掩模图形密度的低依赖性。
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公开(公告)号：CN101772735A
公开(公告)日：2010-07-07
申请号：CN200880101869.8
申请日：2008-07-30
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/039 , C08F220/12 , H01L21/027
CPC classification number: C08F220/12 , G03F7/0397 , G03F7/2041
Abstract: 本发明的目的在于提供作为抗蚀剂的基本物性优异、并且形成接触孔图案时的圆形性和CD均匀性优异的放射线敏感性树脂组合物。本放射线敏感性树脂组合物是含有在酸的作用下成为碱可溶性的含有酸解离性基团的树脂(A)、酸发生剂(B)和溶剂(C)的放射线敏感性树脂组合物，上述树脂(A)含有下述通式(1)和(2)表示的各重复单元。[R1和R2各自表示氢原子或碳原子数1～4的可具有取代基的烷基，R3表示碳原子数1～4的可具有取代基的烷基，X表示氢原子、羟基或酰基，m为1～18的整数，n为4～8的整数。]。
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公开(公告)号：CN101395189A
公开(公告)日：2009-03-25
申请号：CN200780007265.2
申请日：2007-03-23
Applicant: JSR株式会社
IPC: C08F20/22 , G03F7/039 , G03F7/004 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/0046 , C08F220/18 , C08F220/24 , C08F220/28 , G03F7/0045 , G03F7/039 , G03F7/0397 , G03F7/162 , G03F7/168 , G03F7/2006 , G03F7/2041 , G03F7/322 , G03F7/38 , G03F7/40
Abstract: 本发明的目的在于提供：新型的含氟聚合物、以及液浸曝光用的感放射线性树脂组合物、以及含氟聚合物的精制方法，其中所说的液浸曝光用的感放射线性树脂组合物含有该聚合物，得到的图案形状良好，焦深优良，且在液浸曝光时在所接触的水中的溶出物的量少，抗蚀剂被膜与水的后退接触角大。本发明的树脂组合物中含有：由上述通式(1)和(2)表示的重复单元、且Mw为1000～50000的新型含氟聚合物(A)；含有酸不稳定基团的树脂(B)；感放射线性酸发生剂(C)；含氮化合物(D)以及溶剂(E)。
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