感放射线性组合物、硬化膜的制造方法、半导体元件及显示元件

    公开(公告)号:CN113589647A

    公开(公告)日:2021-11-02

    申请号:CN202110477368.7

    申请日:2021-04-29

    Abstract: 本发明的课题在于提供一种保存稳定性优异且可形成耐化学品性优异的硬化膜的感放射线性组合物、硬化膜的制造方法、半导体元件及显示元件。一种感放射线性组合物,含有:包含具有氧杂环丙基的第一结构单元与具有羧基的第二结构单元的聚合物成分;感光剂;选自由胺系化合物、咪唑系化合物及异氰酸酯系化合物所组成的群组中的至少一种化合物;以及溶剂;并且相对于构成聚合物成分的全部结构单元,第一结构单元的含有比例为超过20质量%且65质量%以下,第二结构单元的含有比例为超过5质量%且25质量%以下,溶剂包含相对于感放射线性组合物中所含的溶剂的总量而为20质量%以上的汉森溶解度参数的氢键项dH为10.0以上的高dH溶媒。

Patent Agency Ranking