公开(公告)号：CN102156387B

公开(公告)日：2014-01-15

申请号：CN201010610519.3

申请日：2010-12-16

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 铃木康伸 ,  上田二朗 ,  一户大吾 ,  高瀬英明

IPC: G03F7/075 ,  H01L23/29

Abstract: 本发明涉及一种放射线敏感性组合物以及固化膜。本发明目的在于提供一种具有形成保护膜等的材料所必要的高涂布性、放射线敏感度、图案形成性、以及所得固化膜的透明性和密合性，并且具有高折射率的正型的聚硅氧烷类的放射线敏感性组合物，以及由该组合物所形成的固化膜。本发明是一种放射线敏感性组合物，其含有[A]水解缩合物，该水解缩合物包含由铝、锆、钛、锌和锡构成的群组中选出的至少一种元素和硅；以及[B]放射线敏感性酸产生剂或放射线敏感性碱产生剂。[A]成分的水解缩合物，优选含有来自于(R1)n-Si-(OR2)4-n所表示的水解性化合物的部分，以及来自于(R3)m-M-(OR4)p-m所表示的水解性化合物的部分。

公开(公告)号：CN103376649A

公开(公告)日：2013-10-30

申请号：CN201310131736.8

申请日：2013-04-16

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 八代隆郎 ,  松村信司 ,  高瀬英明

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  G03F7/029 ,  G03F7/031 ,  G03F7/00

Abstract: 本发明的目的在于提供一种具有更高的感度且能够形成表面硬度、耐溶剂性、耐热性以及电压保持率优异的显示元件用层间绝缘膜的感放射线性组合物，使用该感放射线性组合物而形成的显示元件用层间绝缘膜以及其形成方法。本发明的感放射线性组合物含有：[A]具有含有酸解离性基的结构单元(I)、含有聚合性基的结构单元(II)以及下述式(1)所表示的结构单元(III)的聚合物；以及[B]感放射线性酸产生剂。

公开(公告)号：CN102156387A

公开(公告)日：2011-08-17

申请号：CN201010610519.3

申请日：2010-12-16

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 铃木康伸 ,  上田二朗 ,  一户大吾 ,  高瀬英明

IPC: G03F7/075 ,  H01L23/29

Abstract: 本发明涉及一种放射线敏感性组合物以及固化膜。本发明目的在于提供一种具有形成保护膜等的材料所必要的高涂布性、放射线敏感度、图案形成性、以及所得固化膜的透明性和密合性，并且具有高折射率的正型的聚硅氧烷类的放射线敏感性组合物，以及由该组合物所形成的固化膜。本发明是一种放射线敏感性组合物，其含有[A]水解缩合物，该水解缩合物包含由铝、锆、钛、锌和锡构成的群组中选出的至少一种元素和硅；以及[B]放射线敏感性酸产生剂或放射线敏感性碱产生剂。[A]成分的水解缩合物，优选含有来自于(R1)n-Si-(OR2)4-n所表示的水解性化合物的部分，以及来自于(R3)m-M-(OR4)p-m所表示的水解性化合物的部分。