一种周期性孔隙介质表面二次电子发射特性确定方法

    公开(公告)号:CN109060854B

    公开(公告)日:2020-10-20

    申请号:CN201810695524.5

    申请日:2018-06-29

    Abstract: 一种周期性孔隙介质表面二次电子发射特性确定方法,首先确定介质材料的材料特性、表面周期性孔隙特性、射频电磁场、静电荷积累场、静态磁场和初始电子信息,然后确定介质材料表面孔隙中的各个电子运动轨迹、电子与孔隙边界碰撞前运动时间,进而计算得到电子与孔隙边界的碰撞角度、碰撞能量,最后根据各个电子与孔隙边界碰撞后的二次电子出射信息,结合电子运动轨迹方程与孔隙边界条件,判断电子是否从孔隙中出射,得到周期性孔隙介质材料表面二次电子发射特性。

    一种基于第一性原理的二次电子产额的计算方法

    公开(公告)号:CN113517032B

    公开(公告)日:2024-08-13

    申请号:CN202110564970.4

    申请日:2021-05-24

    Abstract: 本发明涉及一种基于第一性原理的二次电子产额的计算方法,通过第一性原理的计算获取材料的能量损失函数和表面功函数,然后使用蒙特卡罗的模拟方法根据所述能量损失函数和表面功函数对材料内每个电子的每次散射碰撞过程进行跟踪,通过统计所有出射电子便可以获得材料的二次电子产额。本发明对二次电子的计算不过不再需要对实验数据的依赖,而材料相关的参数如果通过实验获得成本高昂,本发明打破了这种对瓶颈,同时并不采用实验测量二次电子发射系数的反推式拟合方法,具有很好的通用型和推广价值。

    一种原位监测辐照放电表面成键态断层剖面的方法

    公开(公告)号:CN115639237A

    公开(公告)日:2023-01-24

    申请号:CN202211177005.2

    申请日:2022-09-26

    Abstract: 一种原位监测辐照放电表面成键态断层剖面的方法,在设定的真空度环境下,包括:将样品底部连接示波器,判定不同能量电子辐照下样品表面是否发生放电,确定电子辐照门限值;采用原位Ar+离子刻蚀的方法对样品表面的断层剖面进行刻蚀,并标定刻蚀速率;选择辐照条件超过电子辐照门限值,对样品进行辐照;然后对样品表面进行逐步刻蚀,采用XPS获得不同刻蚀深度剖面的表面结合能谱。本发明所提出的原位成键态剖面的测试方法,极大的突破了电子辐照放电后原位表征的限制,能获得前所未有的测试结果。

    一种基于第一性原理的二次电子产额的计算方法

    公开(公告)号:CN113517032A

    公开(公告)日:2021-10-19

    申请号:CN202110564970.4

    申请日:2021-05-24

    Abstract: 本发明涉及一种基于第一性原理的二次电子产额的计算方法,通过第一性原理的计算获取材料的能量损失函数和表面功函数,然后使用蒙特卡罗的模拟方法根据所述能量损失函数和表面功函数对材料内每个电子的每次散射碰撞过程进行跟踪,通过统计所有出射电子便可以获得材料的二次电子产额。本发明对二次电子的计算不过不再需要对实验数据的依赖,而材料相关的参数如果通过实验获得成本高昂,本发明打破了这种对瓶颈,同时并不采用实验测量二次电子发射系数的反推式拟合方法,具有很好的通用型和推广价值。

    一种刻蚀石墨烯纳米孔减小二次电子发射系数的方法

    公开(公告)号:CN106044757B

    公开(公告)日:2018-03-09

    申请号:CN201610378294.0

    申请日:2016-05-31

    Abstract: 一种刻蚀石墨烯纳米孔减小二次电子发射系数的方法,本发明采用结合两种不同方法,涂覆低二次电子发射系数的材料和表面制备陷阱结构:在表面涂覆低二次电子发射系数的石墨烯,然后通过氩离子刻蚀的技术制备纳米孔。技术上通过控制表面涂覆石墨烯的厚度和纳米孔的孔隙率、深宽比实现不同的二次电子发射抑制效果。实验研究发现,金属基片上沉积几纳米至十几纳米不等厚度的石墨烯,二次电子发射系数可以从2.0左右将至1.5‑1.1,在氩离子刻蚀石墨烯纳米孔后,表面的二次电子发射系数降至0.9,实现了电子发射系数从1.5至0.9的可控调节。该技术简单方便,稳定性高,表面无损的状态下涂覆纳米级厚度的导电镀层对器件表面插入损耗影响较小。此技术方案能有效地减小二次电子发射系数,在粒子加速器、真空传输线以及大功率微波部件领域有着广泛的应用前景。

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