一种微孔电池铝箔的化学腐蚀制备方法

    公开(公告)号:CN107699894A

    公开(公告)日:2018-02-16

    申请号:CN201710930893.3

    申请日:2017-10-09

    发明人: 王宥宏 刘忆恩

    摘要: 本发明一种微孔电池铝箔的化学腐蚀制备方法,属于电池铝箔的制备技术领域,本发明克服现有技术的不足,目的是提供一种高性能锂电池微孔铝箔的化学腐蚀制备方法,采用的技术方案为:按照下述步骤进行:第一步,对轧制后的电池铝箔进行表面清洗祛除润滑剂;第二步,将清洗后的电池铝箔全部浸入化学腐蚀液:所述的化学腐蚀液为盐溶液,含有摩尔浓度为0.1-3mol/L的Cl-的阴离子,含有摩尔浓度为0.1-3mol/L的Fe3+和Cu2+的阳离子,腐蚀时间为20-120S;第三步,腐蚀后的电池铝箔清洗表面残留液体;第四步,烘干,本发明可广泛应用到锂电池微孔铝箔的制造领域。

    铁基纳米晶电感磁芯的制造方法

    公开(公告)号:CN107256792A

    公开(公告)日:2017-10-17

    申请号:CN201710427657.X

    申请日:2017-06-08

    发明人: 赵玉林 刘宗滨

    摘要: 本发明公开了一种铁基纳米晶电感磁芯的制造方法,依次包括:卷绕步骤、热处理步骤、固化步骤、切割步骤、表面预处理步骤、防护处理步骤、腐蚀处理步骤以及清洗步骤,其中,在所述腐蚀处理步骤中,采用腐蚀溶液对所述防护处理后得到的磁芯坯体的切割面进行腐蚀处理,所述腐蚀溶液的溶质为三氯化铁、硝酸铁、硝酸铜、氯化铜中的一种或多种。本发明所述的改善磁芯电感的方法,工艺流程简单,操作方便,能实现批量化生产,可有效降低工人劳动强度,提高生产效率。

    一种双氧水稳定剂及双氧水蚀刻液

    公开(公告)号:CN106884167A

    公开(公告)日:2017-06-23

    申请号:CN201510937359.6

    申请日:2015-12-15

    IPC分类号: C23F1/14

    CPC分类号: C23F1/14

    摘要: 本发明公开了一种双氧水稳定剂及双氧水蚀刻液,属于金属蚀刻领域。该双氧水稳定剂中同时含有醇羟基和醚键,且该双氧水稳定剂中碳原子的个数为3-12。本发明提供的具有如上结构双氧水稳定剂,将其用于双氧水体系的金属蚀刻液中时,其能够明显抑制过氧化氢的分解,且利用含该双氧水稳定剂的蚀刻液进行蚀刻,蚀刻后的金属材料表面不会残留金属,利于提高蚀刻的均一性。可见,本发明实施例提供的双氧水稳定剂不仅能提高双氧水体系蚀刻液的使用稳定性和保质期,且利于保证双氧水体系蚀刻液的蚀刻效果。

    铜选择性蚀刻液和钛选择性蚀刻液

    公开(公告)号:CN105603425A

    公开(公告)日:2016-05-25

    申请号:CN201610046399.6

    申请日:2016-01-25

    发明人: 江月华

    IPC分类号: C23F1/14 C23F1/38

    CPC分类号: C23F1/14 C23F1/38

    摘要: 本发明公开了一种铜选择性蚀刻液,其由铜氧化液和铜螯合液组成,所述铜氧化液包括氧化剂和/或水,所述铜螯合液包括草酸盐、氨基羧酸和水,所述铜选择性蚀刻液pH值为6.0~8.5。所述铜选择性蚀刻液可对铜进行选择性和均匀性地蚀刻。本发明还公开了一种钛选择性蚀刻液,其由钛氧化液和钛螯合液组成,所述钛氧化液包括过氧化氢和/或水,所述钛螯合液包括亚磷酸螯合剂、铜防腐蚀剂、无机碱和水,所述钛选择性蚀刻液pH值为7~10。所述钛选择性蚀刻液可对钛进行选择性和均匀性地蚀刻。在无铅焊料凸块的制作过程中使用所述铜选择性蚀刻液和钛选择性蚀刻液进行蚀刻可在半导体基板上方便快捷地制造出尺寸重现性好的无铅焊料凸块。

    金属掩模板及其制作方法
    10.
    发明公开

    公开(公告)号:CN105568217A

    公开(公告)日:2016-05-11

    申请号:CN201610007307.3

    申请日:2016-01-06

    发明人: 白珊珊

    IPC分类号: C23C14/04 C23C14/24

    摘要: 本公开的实施例提供了一种金属掩模板及其制作方法,该金属掩模板具有相反的第一主表面和第二主表面,并包括间隔设置的多个面板限定区域以及主边框部分,在每个面板限定区域中,用于限定像素结构的多个通孔成矩阵排列,每个通孔连通金属掩模板的第一主表面和第二主表面,每相邻两个通孔的侧壁在金属掩模板的第二主表面彼此直接连接使得面板限定区域中的相邻两个通孔之间的金属掩模板具有厚度D1,该金属掩模板的主边框部分具有第二厚度D2,且第一厚度D1和第二厚度D2满足|D1-D2|/D1≤20%。