公开(公告)号：CN106884167A

公开(公告)日：2017-06-23

申请号：CN201510937359.6

申请日：2015-12-15

申请人： 上海飞凯光电材料股份有限公司

发明人： 高晓义 ,  刘翘楚 ,  季冬晨 ,  苏双峰 ,  胡正山 ,  胡杭剑

IPC分类号： C23F1/14

CPC分类号： C23F1/14

摘要： 本发明公开了一种双氧水稳定剂及双氧水蚀刻液，属于金属蚀刻领域。该双氧水稳定剂中同时含有醇羟基和醚键，且该双氧水稳定剂中碳原子的个数为3-12。本发明提供的具有如上结构双氧水稳定剂，将其用于双氧水体系的金属蚀刻液中时，其能够明显抑制过氧化氢的分解，且利用含该双氧水稳定剂的蚀刻液进行蚀刻，蚀刻后的金属材料表面不会残留金属，利于提高蚀刻的均一性。可见，本发明实施例提供的双氧水稳定剂不仅能提高双氧水体系蚀刻液的使用稳定性和保质期，且利于保证双氧水体系蚀刻液的蚀刻效果。

公开(公告)号：CN109976111A

公开(公告)日：2019-07-05

申请号：CN201711455983.8

申请日：2017-12-28

申请人： 上海飞凯光电材料股份有限公司

发明人： 高晓义 ,  季冬晨 ,  尚大鹏 ,  胡杭剑 ,  彭永强 ,  周燚 ,  王亚骏 ,  陈春晓 ,  刘翘楚

IPC分类号： G03F7/42

摘要： 本发明公开了一种光刻胶清洗液，属于光刻胶领域。该光刻胶清洗液包括以下质量百分比的组分：1％‑6％的季铵氢氧化物水合物或季铵氢氧化物溶液、1％‑10％的醇胺、以及余量的助溶剂；该季铵氢氧化物水合物或季铵氢氧化物溶液包括：质量百分比大于或等于80％的季铵氢氧化物。该清洗液的水含量较低，通过上述各组分的协同作用，具有对光刻胶清洗效果强，同时，对金属基材，例如铝、铜、锡、锡银合金等损伤低，对光刻胶图案无损伤等优点，有效解决了现有技术光刻胶清洗液的清洗效果差，对金属基材损伤大的问题。