延伸漏极MOS器件及制造方法、芯片

    公开(公告)号:CN119521738A

    公开(公告)日:2025-02-25

    申请号:CN202411532104.7

    申请日:2024-10-30

    Abstract: 本发明涉及半导体领域,提供一种延伸漏极MOS器件及制造方法、芯片。所述延伸漏极MOS器件包括:衬底、P型阱区、N型深阱区、浅槽隔离区、源区、漏区及栅极,浅槽隔离区包括第一浅槽隔离区、第二浅槽隔离区以及第三浅槽隔离区,第一浅槽隔离区位于栅极与漏区之间,第二浅槽隔离区位于漏区与衬底接口之间,第三浅槽隔离区位于源区与衬底接口之间;N型深阱区位于第一浅槽隔离区及漏区的下方,N型深阱区内设有第二P型阱区,第二P型阱区与第一浅槽隔离区纵向相接。本发明将内部有P型阱区的N型深阱区作为漂移区结构,提升了器件的击穿电压和安全工作区,该器件的制造方法与CMOS工艺完全兼容,降低了制造成本。

    低温防雾化露化装置
    28.
    实用新型

    公开(公告)号:CN211425002U

    公开(公告)日:2020-09-04

    申请号:CN201920870166.7

    申请日:2019-06-11

    Abstract: 本实用新型公开了一种低温防雾化露化装置,包括外壳、无水分气体管道、无水分气体进气管、无水分气体出气管以及无水分气体气泵。外壳用以包裹需要防护的设备,且外壳的两端分别开设有进气口与出气口;无水分气体管道内嵌于外壳内,且无水分气体管道分别与进气口与出气口连通;无水分气体进气管的一端通过进气口与无水分气体管道连通;无水分气体出气管的一端通过出气口与无水分气体管道连通;无水分气体气泵与无水分气体进气管的另一端连通,且无水分气体气泵用以提供干燥气体;无水分气体气泵将干燥气体通过无水分气体进气管输送至无水分气体管道中。借此,本实用新型的低温防雾化露化装置,结构简单合理,可以有效防止设备表面雾化露化。

    具有稳定接触的微探针

    公开(公告)号:CN208888290U

    公开(公告)日:2019-05-21

    申请号:CN201920516048.6

    申请日:2019-04-17

    Abstract: 本实用新型公开了一种具有稳定接触的微探针,包括:主针轴,其具有头部,主针轴的头部用于与芯片焊盘形成接触;以及多个辅助针须,其设置于主针轴的侧部,并且辅助针须靠近主针轴头部,辅助针须与主针轴之间的夹角小于90度。其中辅助针须用于稳固主针轴头部与芯片焊盘的接触位置,主针轴与辅助针须被设置为:当微探针与芯片焊盘接触时,主针轴与芯片焊盘的夹角小于90度,并且辅助针须与芯片焊盘的夹角大于主针轴与芯片焊盘的夹角。当主针轴头部与芯片焊盘接触时,多个辅助针须能够同时与芯片焊盘接触。本实用新型由于辅助针须与芯片焊盘的接触,使得主针轴向前滑动的摩擦力增大,从而起到稳固微探针与芯片焊盘接触的作用。

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