公开(公告)号：CN102333797B

公开(公告)日：2014-08-13

申请号：CN201080008657.2

申请日：2010-02-23

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 松村信司 ,  浅野裕介 ,  榊原宏和 ,  西村幸生 ,  成冈岳彦

IPC: C08F20/28 ,  C07C68/00 ,  C07C69/96 ,  G03F7/039

CPC classification number: C07C69/96 ,  C07C68/06 ,  C07C2601/14 ,  C08F220/30 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0392

Abstract: 本发明涉及通式(1)(其中，R0为碳原子数1～10的(n+1)价的直链状或支链状脂肪族烃基等，R1为氢原子、甲基或三氟甲基，R2为单键等，R3为碳原子数1～4的直链状或支链状烷基等，X为碳原子数1～10的直链状或支链状氟代亚烷基，n为1～5的整数)表示的化合物。

公开(公告)号：CN103923426A

公开(公告)日：2014-07-16

申请号：CN201410015553.4

申请日：2014-01-14

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 三岛绘里 ,  西村幸生 ,  下川努 ,  八代隆郎

IPC: C08L33/16 ,  G03F7/004 ,  G03F7/027 ,  G03F7/039 ,  G02F1/13

Abstract: 本发明涉及树脂组合物、固化膜、其形成方法、半导体元件及显示元件。所述树脂组合物含有[A1]具有结构单元(I)和结构单元(II-1)的聚合物，该结构单元(I)包含由下述式(1)表示的基团以及下述式(2)表示的基团组成的组中选出的至少一种，该结构单元(II-1)包含交联性基团(a1)。所述树脂组合物可形成具有优异的表面硬度并且可充分满足灵敏度、显影密接性、耐化学品性、耐热性、透射率以及相对介电常数等一般特性的固化膜，且保存稳定性优异。

公开(公告)号：CN101395189B

公开(公告)日：2013-07-17

申请号：CN200780007265.2

申请日：2007-03-23

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 中川大树 ,  中岛浩光 ,  若松刚史 ,  原田健太郎 ,  西村幸生 ,  盐谷健夫

IPC: C08F20/22 ,  G03F7/039 ,  G03F7/004 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/0046 ,  C08F220/18 ,  C08F220/24 ,  C08F220/28 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/039 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/162 ,  G03F7/168 ,  G03F7/2006 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/322 ,  G03F7/38 ,  G03F7/40

Abstract: 本发明的目的在于提供：新型的含氟聚合物、以及液浸曝光用的感放射线性树脂组合物、以及含氟聚合物的精制方法，其中所说的液浸曝光用的感放射线性树脂组合物含有该聚合物，得到的图案形状良好，焦深优良，且在液浸曝光时在所接触的水中的溶出物的量少，抗蚀剂被膜与水的后退接触角大。本发明的树脂组合物中含有：由下述通式(1)和(2)表示的重复单元、且Mw为1000～50000的新型含氟聚合物(A)；含有酸不稳定基团的树脂(B)；感放射线性酸发生剂(C)；含氮化合物(D)以及溶剂(E)。

公开(公告)号：CN102109760A

公开(公告)日：2011-06-29

申请号：CN201110008725.1

申请日：2007-03-23

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 中川大树 ,  中岛浩光 ,  若松刚史 ,  原田健太郎 ,  西村幸生 ,  盐谷健夫

IPC: G03F7/00 ,  G03F7/004

CPC classification number: G03F7/0046 ,  C08F220/18 ,  C08F220/24 ,  C08F220/28 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/039 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/162 ,  G03F7/168 ,  G03F7/2006 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/322 ,  G03F7/38 ,  G03F7/40

Abstract: 本发明的目的在于提供：抗蚀剂图案形成方法，包括以下步骤：使用包含含氟聚合物作为光致抗蚀剂用添加剂的感放射线性树脂组合物形成光致抗蚀剂被膜的步骤，其中，所述含氟聚合物采用凝胶渗透色谱法测定的重均分子量为1000～50000，在形成上述光致抗蚀剂被膜时与水的后退接触角为70度以上；将波长193nm处的折射率比空气的折射率大的液浸曝光用液体介于透镜与光致抗蚀剂被膜之间并对其进行放射线照射的步骤；以及现影上述曝光的光致抗蚀剂被膜的步骤。

公开(公告)号：CN1708728B

公开(公告)日：2011-03-16

申请号：CN200380102382.9

申请日：2003-10-23

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 西村幸生 ,  石井宽之 ,  西村功 ,  小林英一

IPC: G03F7/039

Abstract: 本发明提供一种感放射线性树脂组合物，该树脂组合物在使用如KrF准分子激光、ArF准分子激光等远紫外线之类的各种放射线的微细加工中可以用作为化学增幅型抗蚀剂。本发明的感放射线性树脂组合物含有〔A〕含有由下述通式(I-1)表示的重复单元(1-1)的树脂、〔B〕感放射线性酸发生剂(1-(4-正丁氧基萘基)四氢噻吩鎓九氟-正丁磺酸酯等)。进而，还可以含有〔C〕酸扩散控制剂(苯基苯并咪唑等)。

公开(公告)号：CN102597878B

公开(公告)日：2015-09-02

申请号：CN201080045526.1

申请日：2010-11-16

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 切通优子 ,  成冈岳彦 ,  西村幸生 ,  浅野裕介 ,  川上峰规 ,  中岛浩光

IPC: G03F7/039 ,  C08F220/22

CPC classification number: C08F220/22 ,  C08F220/24 ,  C08F228/00 ,  C08L33/14 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/11 ,  G03F7/2041 ,  C08L101/00

Abstract: 本发明的目的在于，提供能够获得良好图案形状、MEEF性能优异、不易产生牵丝等缺陷的放射线敏感性树脂组合物、和适合用于该放射线敏感性树脂组合物的聚合物、以及使用该放射线敏感性树脂组合物的图案形成方法；所述放射线敏感性树脂组合物含有：[A]具有选自分别以下式(1-1)和(1-2)表示的多个结构单元中的至少1种结构单元(I)、且氟原子含量在5质量％以上的聚合物，[B]具有酸解离性基团、且氟原子含量低于5质量％的聚合物，以及[C]放射线敏感性酸产生剂。

公开(公告)号：CN102150083B

公开(公告)日：2013-09-04

申请号：CN200980135701.3

申请日：2009-09-10

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 西村幸生 ,  松田恭彦 ,  中川大树 ,  藤泽友久 ,  滨友香里 ,  笠原一树

IPC: G03F7/039 ,  G03F7/004 ,  G03F7/38 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/0397 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/2041

Abstract: 本发明的目的在于，提供一种放射线敏感性树脂组合物及使用有该树脂组合物的抗蚀剂图案形成方法，其中，所述放射线敏感性树脂组合物得到的图案形状良好，灵敏度、析像度、LWR、显影缺陷、图案抗坍塌性等抗蚀剂基本性能优异，且在液浸曝光时显现出可以抑制水纹缺陷及气泡缺陷的充分的抗蚀剂膜表面的防水性。本发明的树脂组合物含有：包含通过酸的作用成为可溶于碱的重复单元且不包含含有氟原子的重复单元的树脂(A)、放射线敏感性产酸剂(B)、包含通过酸的作用成为可溶于碱的重复单元及含有氟原子的重复单元的含氟树脂(C)、内酯化合物(D)，在将树脂(A)设定为100质量份的情况下，内酯化合物(D)的含量为31～200质量份。

公开(公告)号：CN102150083A

公开(公告)日：2011-08-10

申请号：CN200980135701.3

申请日：2009-09-10

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 西村幸生 ,  松田恭彦 ,  中川大树 ,  藤泽友久 ,  滨友香里 ,  笠原一树

IPC: G03F7/039 ,  G03F7/004 ,  G03F7/38 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/0397 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/2041

Abstract: 本发明的目的在于，提供一种放射线敏感性树脂组合物及使用有该树脂组合物的抗蚀剂图案形成方法，其中，所述放射线敏感性树脂组合物得到的图案形状良好，灵敏度、析像度、LWR、显影缺陷、图案抗坍塌性等抗蚀剂基本性能优异，且在液浸曝光时显现出可以抑制水纹缺陷及气泡缺陷的充分的抗蚀剂膜表面的防水性。本发明的树脂组合物含有：包含通过酸的作用成为可溶于碱的重复单元且不包含含有氟原子的重复单元的树脂(A)、放射线敏感性产酸剂(B)、包含通过酸的作用成为可溶于碱的重复单元及含有氟原子的重复单元的含氟树脂(C)、内酯化合物(D)，在将树脂(A)设定为100质量份的情况下，内酯化合物(D)的含量为31～200质量份。

公开(公告)号：CN101215421A

公开(公告)日：2008-07-09

申请号：CN200810002129.0

申请日：2001-06-15

Applicant: JSR株式会社 ,  国际商业机器公司

Inventor： 西村幸生 ,  山原登 ,  山本将史 ,  梶田徹 ,  下川努 ,  伊藤洋

IPC: C08L101/06 ,  C08K5/16 ,  G03F7/004 ,  C08F232/08 ,  C08F222/06 ,  C08F220/12 ,  C08G61/08

Abstract: 公开了含有含酸不稳定基的树脂和光致酸产生剂的辐射敏感树脂组合物。该树脂具有通式(1)的结构，其中R1表示氢原子、一价酸不稳定基、不带有酸不稳定基的1－6碳烷基，或不带有酸不稳定基的2－7碳烷羰基，X1表示带有1－4个碳原子的直链的或支化氟化烷基，R2表示氢原子、带有1－10个碳原子的直链的或支化烷基，或带有1－10个碳原子的直链的或支化氟化烷基。该树脂组合物表现出高辐照穿透率、高敏感度、分辨率和图案形状，可用作高产率半导体制造中的化学增强型抗蚀剂。

公开(公告)号：CN1916760A

公开(公告)日：2007-02-21

申请号：CN200610126701.5

申请日：2002-06-28

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 江幡敏 ,  米田英司 ,  永井智树 ,  舍人达也 ,  王勇 ,  岩泽晴生 ,  西村幸生

IPC: G03F7/004 ,  C07D207/40 ,  C07D209/70 ,  C07D211/88 ,  C07D221/14 ,  C07D491/18

CPC classification number: C07C309/23 ,  C07C309/17 ,  C07C309/19 ,  C07C381/12 ,  C07C2602/42 ,  C07C2603/86 ,  C07D333/46 ,  C07D333/78 ,  C07D335/02 ,  C07D347/00 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0757 ,  Y10S430/114 ,  Y10S430/115

Abstract: 提供了一种含有下式(2)、(2－A)或(2－B)的结构的新的光致酸发生剂，其中各基团如说明书所定义。当用于化学放大辐射敏感树脂组合物时，光致酸发生剂表现出高透明度、较高的可燃性，和没有生物累积，产生的酸表现出高酸性、高沸点、在树脂涂层中适度的扩散长度以及对掩模图形密度的低依赖性。