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公开(公告)号：CN106409884A
公开(公告)日：2017-02-15
申请号：CN201610976437.8
申请日：2016-11-07
Applicant: 株洲中车时代电气股份有限公司
IPC: H01L29/06
CPC classification number: H01L29/0615
Abstract: 本发明公开一种功率半导体器件终端结构，包括多个场限环和与所述场限环横向连接的第一pn结延展区，所述第一pn结延展区与所述场限环的掺杂类型相同，且掺杂浓度低于所述场限环的掺杂浓度。所述功率半导体器件终端结构，通过设置与场限环横向连接的第一pn结延展区，延伸了场限环外边缘区域的pn结曲面，使各场限环都形成类似于JTE的结构，从而弱化场限环外边缘电场，实现提升整个终端结构的击穿电压，降低器件反向漏电流的目的。
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公开(公告)号：CN109841674B
公开(公告)日：2020-08-28
申请号：CN201711225585.7
申请日：2017-11-29
Applicant: 株洲中车时代电气股份有限公司
IPC: H01L29/739 , H01L29/08
Abstract: 本发明涉及具有改进的发射极结构的沟槽栅IGBT。沟槽栅IGBT包括平行的两个沟槽以及位于所述两个沟槽之间的P基区和发射极，其中，所述发射极位于所述P基区上方，所述发射极包括多个N++区与两两相接的多个P++区，其中，从所述沟槽栅IGBT的顶面看，每个所述P++区的形状均为以下任一种：圆形，其内接于所述两个沟槽的侧壁；椭圆形，其内接于所述两个沟槽的侧壁；以及N边形，N为大于或等于2的偶数，其中，所述N边形有且只有两个顶点分别位于所述两个沟槽的侧壁上，且所述N边形关于所述两个沟槽中间的与所述沟槽平行的直线对称，并且，所述N++区为所述两个沟槽的侧壁之间的除了所述P++区之外的区域。
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公开(公告)号：CN107275394B
公开(公告)日：2020-08-14
申请号：CN201610216853.8
申请日：2016-04-08
Applicant: 株洲中车时代电气股份有限公司
IPC: H01L29/739 , H01L23/58
Abstract: 本发明公开了一种功率半导体模块及其自保护方法，在第一金属化区与第二金属化区之间，或功率半导体芯片的发射极母排与集电极母排之间的功能单元。当功率半导体模块正常工作时，电流从集电极母排经第二金属化区流至功率半导体芯片，再经第一金属化区流至发射极母排。当功率半导体芯片工作时的发热使得功率半导体模块的内部上升至一定温度时，从集电极母排流过的电流通过功能单元直接流至发射极母排，而不再流过功率半导体芯片。本发明描述的功率半导体模块及其自保护方法无需外围控制电路参与，具有超温度自动保护功能，能够有效地保护功率半导体芯片因为过热而失效，同时降低了控制电路的复杂性，提高了系统工作的可靠性。
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公开(公告)号：CN108122897B
公开(公告)日：2019-11-29
申请号：CN201611085332.X
申请日：2016-11-30
Applicant: 株洲中车时代电气股份有限公司
IPC: H01L25/07
Abstract: 本发明提供一种IGBT模块，其包括上电极、下电极以及设置在所述上电极与下电极之间的多个子单元，所述上电极上设有与多个子单元一一对应的盲孔，所述子单元包括从所述下电极向所述上电极方向依次层叠的第一导电基板、芯片、第二导电基板、导电压块以及弹性元件，所述弹性元件设置于所述盲孔内，并呈压缩状。本发明具有保证各子单元压力均衡、避免芯片压坏，且占用空间小，模块体积小的优点。
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公开(公告)号：CN108624844B
公开(公告)日：2019-11-12
申请号：CN201710160262.8
申请日：2017-03-17
Applicant: 株洲中车时代电气股份有限公司
Abstract: 本发明公开了一种晶圆背面金属薄膜及其制备方法，包括在晶圆背面溅射形成第一金属层；在晶圆背面与第一金属层接触处形成第一金属与硅的合金层；在第一金属层上溅射形成第二金属层；在第二金属层上溅射形成第三金属层，控制溅射后晶圆温度低于设定值，并在溅射时通入保护气体；关闭第三金属溅射，保持腔体中气体流通，当晶圆温度低于设定值，开启第三金属溅射，控制溅射后晶圆温度低于设定值，若第三金属层厚度未达目标值，则重复该步骤；若达目标值，在第三金属层上溅射形成第四金属层。本发明能解决现有工艺形成的金属薄膜存在较大应力而导致晶圆发生严重翘曲，使后端晶圆电参数测试、封装划片等工艺无法实现，并增加晶圆碎片率的技术问题。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN109962104A
公开(公告)日：2019-07-02
申请号：CN201711433645.4
申请日：2017-12-26
Applicant: 株洲中车时代电气股份有限公司
IPC: H01L29/739 , H01L21/331 , H01L29/06
Abstract: 一种功率半导体器件，其包括：具有第一导电类型的衬底；有源区，其设置在衬底中并具有第二导电类型；若干场限环，其设置在衬底中并具有第二导电类型，有源区设置在场限环所形成的环形内部。相较于现有的功率半导体器件，本功率半导体器件中各个场限环的环宽之间存在基于环宽调整系数的函数关系，此外，各个场限环的间距之间还可以存在基于间距调整系数的函数关系，设计人员在对功率半导体器件进行设计制作时，通过调整场限环结构调节因子(包括环宽调整系数和间距调整系数)，即可快速有效地调节场限环终端结构，从而获得各种具有不同环宽和环间距的终端结构作为NGV‑FLR终端设计的备选方案。
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公开(公告)号：CN106409884B
公开(公告)日：2019-06-28
申请号：CN201610976437.8
申请日：2016-11-07
Applicant: 株洲中车时代电气股份有限公司
IPC: H01L29/06
Abstract: 本发明公开一种功率半导体器件终端结构，包括多个场限环和与所述场限环横向连接的第一pn结延展区，所述第一pn结延展区与所述场限环的掺杂类型相同，且掺杂浓度低于所述场限环的的掺杂浓度。所述功率半导体器件终端结构，通过设置与场限环横向连接的第一pn结延展区，延伸了场限环外边缘区域的pn结曲面，使各场限环都形成类似于JTE的结构，从而弱化场限环外边缘电场，实现提升整个终端结构的击穿电压，降低器件反向漏电流的目的。
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公开(公告)号：CN105226090B
公开(公告)日：2018-07-13
申请号：CN201510760338.1
申请日：2015-11-10
Applicant: 株洲中车时代电气股份有限公司
IPC: H01L29/739 , H01L21/331 , H01L21/28 , H01L29/423
Abstract: 本发明公开了一种绝缘栅双极晶体管及其制作方法，通过在第一常规沟槽和第二常规沟槽之间的发射极金属电极下方设置一辅助沟槽栅(即辅助沟槽、辅助栅层和其对应的栅氧化层的结构)，以为绝缘栅双极晶体管关断时提供载流子通路，不仅提高了绝缘栅双极晶体管的关断速度，而且提升了绝缘栅双极晶体管的反偏安全工作区特性，提高了绝缘栅双极晶体管的性能。
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公开(公告)号：CN108122897A
公开(公告)日：2018-06-05
申请号：CN201611085332.X
申请日：2016-11-30
Applicant: 株洲中车时代电气股份有限公司
IPC: H01L25/07
Abstract: 本发明提供一种IGBT模块，其包括上电极、下电极以及设置在所述上电极与下电极之间的多个子单元，所述上电极上设有与多个子单元一一对应的盲孔，所述子单元包括从所述下电极向所述上电极方向依次层叠的第一导电基板、芯片、第二导电基板、导电压块以及弹性元件，所述弹性元件设置于所述盲孔内，并呈压缩状。本发明具有保证各子单元压力均衡、避免芯片压坏，且占用空间小，模块体积小的优点。
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公开(公告)号：CN107564954A
公开(公告)日：2018-01-09
申请号：CN201610503258.2
申请日：2016-06-30
Applicant: 株洲中车时代电气股份有限公司
IPC: H01L29/739 , H01L29/40 , H01L29/423
Abstract: 一种功率半导体，包括：衬底；形成在衬底中的第一导电区域，第一导电区域中形成有具有第一导电类型的源极区；形成在衬底一表面的栅氧化层，栅极氧化层与源极区接触；形成在栅氧化层上的第一多晶硅层；其中，栅氧化层内部形成有第二多晶硅层，第二多晶硅层的一端位于第一导电区域上方，另一端与功率半导体的元胞右边缘对齐。该功率半导体的栅氧化层内部形成有浮空多晶硅层，因此在栅氧化层内部形成了场板结构，提高了器件的耐压性能，使得增强型载流子层的掺杂浓度及元胞之间的距离可以进一步增大，减小了器件的基区电阻及JFET区电阻，从而降低了通态压降，并实现了通态压降与耐压的良好折中。
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