公开(公告)号：CN112530923A

公开(公告)日：2021-03-19

申请号：CN202010074582.3

申请日：2020-01-22

Applicant: 株式会社东芝 ,  东芝电子元件及存储装置株式会社

Inventor： 吉冈启 ,  杉山亨 ,  岩井正明 ,  细川直范 ,  小野村正明 ,  洪洪 ,  矶部康裕

IPC: H01L25/16 ,  H02M7/537

Abstract: 实施方式提供噪声被降低的半导体装置。实施方式的半导体装置具备：第1常关断晶体管，具有第1电极、第2电极和第1控制电极；常导通晶体管，具有经由第1布线而与第2电极电连接的第3电极、第4电极和第2控制电极；第2常关断晶体管，具有第5电极、经由第2布线而与第3电极电连接的第6电极和第3控制电极；第1二极管，具有与第2控制电极电连接的第1阳极和与第3电极电连接的第1阴极；以及电容器，具有与第1阳极及第2控制电极连接的第1端部和第2端部。

公开(公告)号：CN116779667A

公开(公告)日：2023-09-19

申请号：CN202210811216.0

申请日：2022-07-11

Applicant: 株式会社东芝 ,  东芝电子元件及存储装置株式会社

Inventor： 杉山亨 ,  吉冈启 ,  小林仁 ,  小野村正明 ,  矶部康裕 ,  洪洪 ,  关口秀树 ,  大野哲也

IPC: H01L29/778

Abstract: 实施方式提供具有电流感测功能的氮化物半导体装置。实施方式的半导体装置具备：第一氮化物半导体层；第二氮化物半导体层，被设于第一氮化物半导体层上；漏极电极，具有多个漏极指部；源极电极，具有多个源极指部和与源极指部电连接的开尔文源极部；感测电极，位于漏极指部与开尔文源极部之间；以及栅极电极，位于漏极指部与源极指部之间和漏极指部与感测电极之间。感测电极与开尔文源极部经由基于第二方向上的感测电极与开尔文源极部的间隔的感测电阻而电连接。

公开(公告)号：CN115084258A

公开(公告)日：2022-09-20

申请号：CN202110878873.2

申请日：2021-08-02

Applicant: 株式会社东芝 ,  东芝电子元件及存储装置株式会社

Inventor： 矶部康裕 ,  洪洪 ,  吉冈启 ,  杉山亨 ,  小野村正明

IPC: H01L29/778 ,  H01L29/40

Abstract: 半导体装置具备：第一氮化物半导体层；第二氮化物半导体层，设置于第一氮化物半导体层的上方，与第一氮化物半导体层相比带隙大；第一电极及第二电极，设置于第二氮化物半导体层的上方；第一绝缘膜，设置于第二氮化物半导体层的上方的、第一电极与第二电极之间，与第二氮化物半导体层接触，并包含第一绝缘材料；第二绝缘膜，设置于第一电极与第一绝缘膜之间的第二氮化物半导体层的上方、第一绝缘膜的上方及第一绝缘膜与第二电极之间的第二氮化物半导体层的上方，并包含第二绝缘材料；第三电极，设置于第一电极与第一绝缘膜之间的第二绝缘膜的上方；以及第四电极，具有第一电极部和第二电极部。

公开(公告)号：CN118693143A

公开(公告)日：2024-09-24

申请号：CN202310717029.0

申请日：2023-06-16

Applicant: 株式会社东芝 ,  东芝电子元件及存储装置株式会社

Inventor： 小林仁 ,  小野村正明 ,  杉山亨 ,  吉冈启 ,  矶部康裕 ,  大野哲也 ,  关口秀树 ,  洪洪 ,  垣内赖人

IPC: H01L29/778 ,  H01L29/417 ,  H01L21/335

Abstract: 实施方式涉及半导体装置及其制造方法。半导体装置具备氮化物半导体层、源极电极、漏极电极、栅极电极、绝缘膜、以及位于栅极电极与漏极电极之间且与氮化物半导体层接触且与漏极电极电连接的导体层。漏极电极具有与氮化物半导体层接触的第一部分、和与第一部分相比位于导体层侧的第二部分。绝缘膜具有位于导体层与漏极电极之间的一部分。第二部分设置在绝缘膜的一部分上。

公开(公告)号：CN118100098A

公开(公告)日：2024-05-28

申请号：CN202410225970.5

申请日：2021-01-11

Applicant: 株式会社东芝 ,  东芝电子元件及存储装置株式会社

Inventor： 杉山亨 ,  吉冈启 ,  洪洪 ,  矶部康裕 ,  小林仁 ,  大野哲也 ,  细川直范 ,  小野村正明 ,  岩井正明

IPC: H02H7/20 ,  H02H9/02 ,  H02H9/04 ,  H02M7/537

Abstract: 一种能应用于多种使用方案的半导体装置。半导体装置具备：半导体封装，半导体封装具有具备第一电极、第二电极和第一控制电极的n型沟道常断晶体管、具有电连接于第二电极的第三电极、第四电极和第二控制电极的常通晶体管、具有电连接于第二控制电极的第一阳极和电连接于第三电极的第一阴极的第一二极管及具有电连接于第一电极的第二阳极和电连接于第二电极的第二阴极的齐纳二极管；第一端子，设于半导体封装，电连接于第一电极；多个第二端子，电连接于第一电极，排列于第一方向上；第三端子，电连接于第四电极；多个第四端子，电连接于第一控制电极，排列于第一方向上；以及多个第五端子，电连接于第二控制电极，排列于第一方向上。

公开(公告)号：CN114242712A

公开(公告)日：2022-03-25

申请号：CN202110878854.X

申请日：2021-08-02

Applicant: 株式会社东芝 ,  东芝电子元件及存储装置株式会社

Inventor： 矶部康裕 ,  洪洪 ,  吉冈启 ,  杉山亨 ,  小林仁 ,  大野哲也 ,  岩井正明 ,  细川直范 ,  小野村正明

IPC: H01L25/18 ,  H01L29/778 ,  H01L29/78

Abstract: 实施方式的半导体装置具备：第一氮化物半导体层，具有第一面和第二面；第一源极电极，设置于第一面；第一漏极电极，设置于第一面；第一栅极电极，设置于第一源极电极与第一漏极电极之间的第一面；第二氮化物半导体层，设置于第二面，具有第三面和第四面，与第一氮化物半导体层相比带隙小，该第三面与第二面对置；以及第一半导体器件，设置于第四面，具有为第四面以下的大小且与第四面对置的第五面，包含与第二氮化物半导体层相比带隙的第一半导体材料。

公开(公告)号：CN1921148A

公开(公告)日：2007-02-28

申请号：CN200610115100.4

申请日：2006-08-24

Applicant: 株式会社东芝

Inventor： 斋藤渉 ,  小野村正明 ,  田中明 ,  橘浩一 ,  藏口雅彦 ,  野田隆夫 ,  新田智洋 ,  吉冈启

IPC: H01L29/778 ,  H01L29/02

CPC classification number: H01L29/7787 ,  H01L29/0649 ,  H01L29/0657 ,  H01L29/2003 ,  H01L29/42316

Abstract: 一种氮化物半导体元件，其特征在于，具备：有导电性衬底部、和高电阻部的基体；由设在所述基体之上的氮化物半导体构成的第1半导体层；设在所述第1半导体层之上，由带隙比所述第1半导体层大的未掺杂或n型氮化物半导体构成的第2半导体层；在所述第2半导体层之上设在所述导电部之上的第1主电极；在所述第2半导体层之上设在所述高电阻部之上的第2主电极；以及在所述第2半导体层之上设在所述第1主电极和所述第2主电极之间的控制电极。

公开(公告)号：CN100463311C

公开(公告)日：2009-02-18

申请号：CN200610142391.6

申请日：2006-10-11

Applicant: 株式会社东芝

Inventor： 松山隆之 ,  小野村正明

IPC: H01S5/00 ,  H01L33/00

CPC classification number: H01S5/22 ,  B82Y20/00 ,  H01S5/0014 ,  H01S5/02212 ,  H01S5/02224 ,  H01S5/028 ,  H01S5/0282 ,  H01S5/0287 ,  H01S5/0422 ,  H01S5/34333 ,  H01S2301/18

Abstract: 一种氮化物半导体发光器件，其特征在于：具备氮化镓衬底和在上述氮化镓衬底上设置的包含发光层的氮化物半导体的多层膜，上述氮化镓衬底和上述多层膜分别构成由同一劈开面形成的激光出射侧端面和由同一劈开面形成的激光反射侧端面，在上述激光出射侧端面上设置了包含第1氮化硅层的第1膜，在上述激光反射侧端面上设置了包含第2氮化硅层和交替地层叠在上述第2氮化硅层上设置的氧化物层与氮化硅层的层叠膜的第2膜。

公开(公告)号：CN100449800C

公开(公告)日：2009-01-07

申请号：CN200510097748.9

申请日：2005-08-24

Applicant: 株式会社东芝

Inventor： 橘浩一 ,  本乡智惠 ,  布上真也 ,  小野村正明

IPC: H01L33/00 ,  H01L21/205 ,  H01S5/30 ,  H01S5/343

CPC classification number: H01L33/32 ,  C30B25/18 ,  C30B25/20 ,  C30B29/406 ,  H01L21/02389 ,  H01L21/02433 ,  H01L21/02458 ,  H01L21/02507 ,  H01L21/0254 ,  H01L21/02576 ,  H01L21/02584 ,  H01L21/0262 ,  H01L29/045 ,  H01L29/2003 ,  H01L29/205 ,  H01L29/7787 ,  H01L29/812 ,  H01L29/861 ,  H01L33/0075 ,  H01L33/16 ,  H01S5/3202 ,  H01S5/32341

Abstract: 本发明的半导体衬底包括GaN衬底和在GaN衬底上外延生长的由III-V族氮化物化合物半导体构成的单晶层。所述GaN衬底具有由位于0.12度至0.35度范围内的从{0001}面向 方向的表面倾角绝对值和位于0.00度至0.06度范围内的从{0001}面向 方向的表面倾角绝对值来确定的表面取向。

公开(公告)号：CN1741296A

公开(公告)日：2006-03-01

申请号：CN200510097748.9

申请日：2005-08-24

Applicant: 株式会社东芝

Inventor： 橘浩一 ,  本乡智惠 ,  布上真也 ,  小野村正明

IPC: H01L33/00 ,  H01L21/205 ,  H01S5/30 ,  H01S5/343

CPC classification number: H01L33/32 ,  C30B25/18 ,  C30B25/20 ,  C30B29/406 ,  H01L21/02389 ,  H01L21/02433 ,  H01L21/02458 ,  H01L21/02507 ,  H01L21/0254 ,  H01L21/02576 ,  H01L21/02584 ,  H01L21/0262 ,  H01L29/045 ,  H01L29/2003 ,  H01L29/205 ,  H01L29/7787 ,  H01L29/812 ,  H01L29/861 ,  H01L33/0075 ,  H01L33/16 ,  H01S5/3202 ,  H01S5/32341

Abstract: 本发明的半导体衬底包括GaN衬底和在GaN衬底上外延生长的由III－V族氮化物化合物半导体构成的单晶层。所述GaN衬底具有由位于0.12度至0.35度范围内的从{0001}面向 方向的表面倾角绝对值和位于0.00度至0.06度范围内的从{0001}面向 方向的表面倾角绝对值来确定的表面取向。