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公开(公告)号：CN112020770B
公开(公告)日：2024-12-27
申请号：CN201980028149.1
申请日：2019-02-21
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01L21/768 , H01L21/027 , H01L21/52 , H01L33/00 , H01L27/146 , G03F7/00
Abstract: 此处系统及方法相关于使用硅晶圆、玻璃、或如基板的装置来形成光学装置，所述光学装置包含堆叠的光学元件层。可在暂时或永久基板上制造此处所讨论的光学元件。在一些范例中，制造光学装置以包含透明基板或装置，所述装置包含电荷耦合装置(CCD)、或互补式金属氧化物半导体(CMOS)图像传感器、发光二极管(LED)、微LED(μLED)显示器、有机发光二极管(OLED)或垂直腔表面发光激光器(VCSEL)。光学元件可在光学元件层之间形成夹层，夹层的厚度范围可为1nm至3mm。
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公开(公告)号：CN112368639B
公开(公告)日：2024-07-09
申请号：CN201980040608.8
申请日：2019-06-27
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 卢多维克·戈代 , 韦恩·麦克米兰 , 罗格·梅耶·蒂默曼·蒂杰森
IPC: G03F7/00 , G03F7/20 , G03F1/80 , H01L21/033 , H01L21/02 , H01L21/306
Abstract: 本文讨论的系统与方法用于衍射光栅(诸如在波导组合器中使用的那些光栅)的制造。本文讨论的波导组合器是使用高折射率与低折射率材料的纳米压印光刻(NIL)结合高折射率与低折射率材料的定向蚀刻来制造的。波导组合器可额外地或替代地通过定向蚀刻透明基板来形成。包括本文讨论的衍射光栅的波导组合器可直接地形成在永久透明基板上。在其他示例中，衍射光栅可形成在临时基板上并转移至永久、透明基板。
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公开(公告)号：CN113196442B
公开(公告)日：2024-05-24
申请号：CN201980083747.9
申请日：2019-12-17
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 卢多维克·戈代 , 约瑟夫·C·奥尔森 , 罗格·梅耶·蒂默曼·蒂杰森
IPC: H01J37/305 , H01J37/08 , H01J37/30
Abstract: 本公开内容的方面涉及用于制造波导的装置。在一个实例中，利用成角度的离子源来朝向基板投射离子以形成包括成角度的光栅的波导。在另一个实例中，利用成角度的电子束源来朝向基板投射电子以形成包括成角度的光栅的波导。本公开内容的另外的方面提供了用于利用成角度的离子束源和成角度的电子束源来在波导上形成成角度的光栅的方法。
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公开(公告)号：CN111201589B
公开(公告)日：2023-12-12
申请号：CN201980005019.6
申请日：2019-04-17
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 罗格·梅耶·蒂默曼·蒂杰森 , 摩根·埃文斯 , 约瑟夫·C·奥尔森
IPC: H01L21/3065 , H01L21/311 , H01L21/3213 , H01L21/67
Abstract: 本文描述的具体实施方式，涉及在基板上形成具有不同倾斜角的光栅的方法，以及使用角度蚀刻系统在循序基板上形成具有不同倾斜角的光栅的方法。方法包括将保持在平台上的基板的部分定位在离子束的路径中。基板上设置有光栅材料。离子束经配置以相对于基板的表面法线的离子束角θ接触光栅材料，并在光栅材料中形成光栅。基板围绕平台的轴线旋转，以在离子束与光栅的表面法线之间产生旋转角φ。光栅相对于基板的表面法线具有倾斜角θ'。由方程式φ＝cos‑1(tan(θ')/tan(θ))选出旋转角φ。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN113728250B
公开(公告)日：2023-06-06
申请号：CN202080031521.7
申请日：2020-02-24
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 塔帕什里·罗伊 , 罗格·梅耶·蒂默曼·蒂杰森
IPC: G02B1/00
Abstract: 本公开内容的实施方式大体上涉及形成光学器件的方法，光学器件包含设置在透明基板上的纳米结构。提供基板作为用于形成光学器件的底座。透明层设置在基板的第一表面上，以及结构层设置在透明表面上。氧化物层设置在基板的与第一表面相反的第二表面上，以及在氧化物层中形成窗口或开口，以暴露出基板的第二表面的一部分。接着，在结构层中形成多个纳米结构，以及移除基板的从窗口延伸至透明层的部分。然后，使透明层的一部分与基板分离以形成光学器件，透明层的该部分具有设置在其上的纳米结构。
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公开(公告)号：CN114930253A
公开(公告)日：2022-08-19
申请号：CN202080090426.4
申请日：2020-12-08
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 徐永安 , 罗格·梅耶·蒂默曼·蒂杰森 , 郭津睿 , 卢多维克·戈代
Abstract: 提供了一种在基板上形成图案化特征的方法。该方法包括以下步骤：将布置在掩模布局中的多个掩模定位在基板上方。基板定位在第一平面中，且多个掩模定位在第二平面中，掩模布局中的多个掩模具有多个边缘，多个边缘各自平行于第一平面且平行或垂直于基板上的对准特征延伸，基板包括多个分区，多个分区被配置为被引导通过布置在掩模布局中的掩模的能量图案化。该方法进一步包括以下步骤：通过基板上方的掩模布局中布置的多个掩模向多个分区引导能量，以在多个分区的各者中形成多个图案化特征。
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公开(公告)号：CN113906350A
公开(公告)日：2022-01-07
申请号：CN202080040885.1
申请日：2020-05-21
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 赛捷·托克·加勒特·多莎 , 罗格·梅耶·蒂默曼·蒂杰森 , 卢多维克·戈代 , 陈建安 , 平克什·罗希特·沙阿
IPC: G03F7/42
Abstract: 本公开内容的实施方式涉及制造光学装置的方法。此方法的一个实施方式包括在基板的表面上设置结构材料层和在结构材料层上方设置图案化光刻胶。图案化光刻胶具有至少一个装置部分与至少一个辅助部分。各装置部分与各辅助部分暴露结构材料层的未掩蔽部分。对应于各装置部分与各辅助部分的结构材料层的未掩蔽部分被蚀刻。蚀刻未掩蔽部分形成具有装置结构与至少一个辅助区的至少一个光学装置，该装置结构对应于至少一个装置部分的未掩蔽部分，该至少一个辅助区具有对应于至少一个辅助部分的未掩蔽部分的辅助结构。
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公开(公告)号：CN113677825A
公开(公告)日：2021-11-19
申请号：CN202080027992.0
申请日：2020-02-19
Applicant: 应用材料公司
Abstract: 本公开内容的实施方式总体涉及在沉积、蚀刻和/或固化工艺期间利用掩模来处理含有基板的工件，以在工件上具有局部的沉积。将掩模放置在工件的第一层上，所述掩模保护复数个沟槽免受第二层的沉积的影响。在一些实施方式中，在第二层的沉积之前放置掩模。在其他实施方式中，在沉积掩模之前使第二层固化。在其他实施方式中，在沉积掩模之后蚀刻第二层。本文中所公开的方法允许在工件中所存在的沟槽中的一些中沉积第二层，而同时至少部分地防止在工件中所存在的其他沟槽中沉积第二层。
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公开(公告)号：CN113169110A
公开(公告)日：2021-07-23
申请号：CN201980079480.6
申请日：2019-12-13
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 韦恩·麦克米兰 , 维斯韦斯瓦伦·西瓦拉玛克里施南 , 约瑟夫·C·奥尔森 , 卢多维克·戈代 , 罗格·梅耶·蒂默曼·蒂杰森 , 拿玛·阿加曼
IPC: H01L21/683 , H01J37/32 , H01L21/687
Abstract: 本公开内容的实施方式大体涉及用于保持具有设置在表面上的一个或多个装置的基板的表面而不会接触一个或多个装置且不会使基板变形的基板支撑组件以及具有所述基板支撑组件的系统。在一个实施方式中，基板支撑组件包括边缘环，边缘环耦接至基板支撑组件的主体。控制器耦接至与基板支撑组件的主体耦接的多个像素的致动机构，使得与待保持的基板的表面的部分相对应的像素的部分经定位以支撑所述部分，而不接触在待保持在支撑表面上的基板的表面上所设置的一个或多个装置。
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