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公开(公告)号：CN111095513B
公开(公告)日：2023-10-31
申请号：CN201880057402.1
申请日：2018-07-20
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01L21/67
Abstract: 本公开内容的实施方式涉及用于退火半导体基板的设备和方法。在一个实施方式中，披露一种批量处理腔室。批量处理腔室包括：腔室主体，所述腔室主体包围处理区域；气体面板，所述气体面板配置成提供处理流体至处理区域中；凝结器，所述凝结器流体连接至处理区域；和温度控制的流体回路，所述温度控制的流体回路配置成将处理流体维持在高于处理流体的凝结点的温度。处理区域被配置成在处理期间保持多个基板。凝结器被配置成将处理流体凝结成液态。
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公开(公告)号：CN110582836B
公开(公告)日：2023-07-11
申请号：CN201880029367.2
申请日：2018-03-26
Applicant: 应用材料公司
Abstract: 提供了一种用于处理基板的方法和设备。二氧化碳液体的进料流在压力下自进料供应器被供应至纯化容器。在该纯化容器中的该二氧化碳液体在单级蒸馏工艺中被蒸馏以形成纯化的二氧化碳气体。该处理方法包含以下步骤：通过与来自制冷系统的制冷剂进行热交换来冷凝在该冷凝器中的该纯化的二氧化碳气体以形成纯化的二氧化碳液体。该纯化的二氧化碳液体被加热至高于临界点的目标温度以使该纯化的二氧化碳液体变为超临界二氧化碳流体。该处理方法包含以下步骤：使用该超临界二氧化碳流体以清洁被设置在处理腔室中的基板。
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公开(公告)号：CN108140603B
公开(公告)日：2023-02-28
申请号：CN201680058300.2
申请日：2016-09-14
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01L21/683 , H01L21/67 , H01L21/02 , H01L21/687
Abstract: 提供一种基板支撑设备。该设备包含圆形底板和一个或更多个间隔器，绕着该底板的圆周设置间隔器。间隔器可从该底板的顶部表面延伸，且环形主体可耦合至间隔器。该环形主体可与该底板间隔开以界定该底板与该环形主体之间的孔隙。一个或更多个支撑柱可耦合至该底板且从该底板延伸。支撑柱可在从该环形主体的内表面径向向内的位置处耦合至该底板。
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公开(公告)号：CN108140549A
公开(公告)日：2018-06-08
申请号：CN201680058294.0
申请日：2016-09-13
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01L21/02 , H01L21/67 , H01L21/683 , H01L21/677
CPC classification number: H01L21/02041 , H01L21/02057 , H01L21/0206 , H01L21/02101 , H01L21/67034 , H01L21/6704 , H01L21/6719
Abstract: 在此描述的实施方式一般涉及具有缩减空间的处理腔室，以执行超临界干燥处理或其他相变处理。该腔室包含可移动地设置于第一轨道上的基板支撑件和可移动地设置于第二轨道上的门。基板支撑件和门可经配置以相互独立地移动，且该腔室可经配置以最小化腔室内基板的垂直移动。
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公开(公告)号：CN119855986A
公开(公告)日：2025-04-18
申请号：CN202380067060.2
申请日：2023-08-18
Applicant: 应用材料公司
IPC: F04B43/073 , F04B53/10 , F16K15/04 , B22D39/00
Abstract: 在一个实施方式中，公开了一种液态金属泵。所述液态金属泵包括：金属侧台板，所述金属侧台板包括液态金属腔；空气侧台板，所述空气侧台板包括空气腔；隔膜；液态金属入口端口；金属出口端口；多个加热线圈；以及滑块。隔膜设置在金属侧台板与空气侧台板之间、处于金属侧台板与空气侧台板的接合处。隔膜将液态金属腔与空气腔分开。滑块附接到隔膜并被配置为在打开位置与关闭位置之间致动隔膜。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN118160127A
公开(公告)日：2024-06-07
申请号：CN202280068857.X
申请日：2022-09-16
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 类维生 , G·K·戈帕拉克里希南·奈尔 , 赵·K·秋静 , 丹尼尔·斯托克 , 托比亚斯·斯托利 , 托马斯·德皮施 , 简·德尔马斯 , 肯尼斯·S·勒德福 , 苏布拉曼亚·P·赫尔勒 , 基兰·瓦查尼 , 马亨德兰·奇丹巴拉姆 , 罗兰·特拉斯尔 , 尼尔·莫里森 , 弗兰克·施纳朋伯杰 , 凯文·劳顿·坎宁安 , 斯蒂芬·班格特 , 詹姆斯·库辛 , 维斯韦斯瓦伦·西瓦拉玛克里施南
IPC: H01M10/058 , H01M10/052 , B23K26/36 , B23K26/352
Abstract: 提供用于借由具有宽工艺窗、高效率及低成本的激光源来处理锂电池的方法及设备。激光源被调适以实现皮秒脉冲的高平均功率及高频率。激光源可在固定位置或以扫描模式产生线形光束。系统可在干燥室或真空环境中操作。系统可包括对处理位点的碎屑移除机制(例如，惰性气体流)以移除在图案化工艺期间产生的碎屑。
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公开(公告)号：CN108140542B
公开(公告)日：2022-10-18
申请号：CN201680054443.6
申请日：2016-09-12
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01L21/02 , H01L21/67 , H01L21/683 , H01L21/677
Abstract: 本文描述的实施方式一般涉及并入小热质量的处理腔室，所述腔室能够实现针对超临界干燥工艺的有效温度循环。所述腔室一般包含：主体、衬垫和隔离元件，所述隔离元件能够实现使衬垫展现出相对于主体的小热质量。所述腔室还构造有用于在腔室的处理容积内产生和/或维持超临界流体的合适的设备。
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公开(公告)号：CN112368404A
公开(公告)日：2021-02-12
申请号：CN201980042305.X
申请日：2019-06-19
Applicant: 应用材料公司
Abstract: 提供了用于生产和递送高纯度的锂金属的方法和系统。尤其是，提供了用于锂金属纯化、递送和沉积的方法和系统。在至少一个方面中，提供了一种液态锂递送系统。所述液态锂递送系统包括液态锂递送模块。所述液态锂递送系统包括：锂存储区域，所述锂存储区域可操作以储存液态锂；泵送区域，所述泵送区域可操作以移动液态锂通过所述锂递送模块；和流控制区域。所述泵送区域包括电磁泵，所述电磁泵可操作以使用电磁来移动所述液态锂。可操作以控制液态锂的流量的所述流控制区域包括一个或多个阀，所述一个或多个阀可操作以控制所述液态锂的所述流量，其中所述泵送区域定位在所述锂存储区域下游和所述流控制区域上游。
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公开(公告)号：CN111095513A
公开(公告)日：2020-05-01
申请号：CN201880057402.1
申请日：2018-07-20
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01L21/67
Abstract: 本公开内容的实施方式涉及用于退火半导体基板的设备和方法。在一个实施方式中，披露一种批量处理腔室。批量处理腔室包括：腔室主体，所述腔室主体包围处理区域；气体面板，所述气体面板配置成提供处理流体至处理区域中；凝结器，所述凝结器流体连接至处理区域；和温度控制的流体回路，所述温度控制的流体回路配置成将处理流体维持在高于处理流体的凝结点的温度。处理区域被配置成在处理期间保持多个基板。凝结器被配置成将处理流体凝结成液态。
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公开(公告)号：CN108140542A
公开(公告)日：2018-06-08
申请号：CN201680054443.6
申请日：2016-09-12
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01L21/02 , H01L21/67 , H01L21/683 , H01L21/677
CPC classification number: H01L21/67034 , B08B7/0021 , B08B7/0035 , C11D11/0047 , F26B21/14 , H01L21/02101 , H01L21/6704 , H01L21/67126 , H01L21/6719 , H01L21/67739 , H01L21/67748 , H01L21/68792
Abstract: 本文描述的实施方式一般涉及并入小热质量的处理腔室，所述腔室能够实现针对超临界干燥工艺的有效温度循环。所述腔室一般包含：主体、衬垫和隔离元件，所述隔离元件能够实现使衬垫展现出相对于主体的小热质量。所述腔室还构造有用于在腔室的处理容积内产生和/或维持超临界流体的合适的设备。
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