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公开(公告)号：CN117242025A
公开(公告)日：2023-12-15
申请号：CN202280032456.9
申请日：2022-04-18
Applicant: 应用材料公司
IPC: B65H20/14
Abstract: 描述了一种用于传输柔性基板(10)的辊(100)。辊(100)包括主体(101)，其具有设置在主体(101)的外表面(102)中的多个气体供应狭缝(103)。多个气体供应狭缝(103)在辊(100)的中心旋转轴线(111)的方向上延伸。此外，辊(100)包括被设置为周向地围绕主体(101)并与主体(101)接触的套筒(104)。套筒(104)具有设置在多个气体供应狭缝(103)的上方的多个气体出口(105)。此外，套筒(104)包括嵌入在隔离材料内的金属层(106)。
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公开(公告)号：CN109983150B
公开(公告)日：2022-04-26
申请号：CN201680091011.2
申请日：2016-11-22
Applicant: 应用材料公司
Abstract: 本公开内容提供了一种用于在基板(10)上进行层沉积的设备(100)。所述设备(100)包括：真空腔室(101)；至少一个溅射源(110)，所述至少一个溅射源(110)在所述真空腔室(101)中，其中所述至少一个溅射源(110)包括可旋转的柱形阴极(112)和在所述可旋转的柱形阴极(112)中的磁体组件(114)，并且其中所述磁体组件(114)是围绕第一旋转轴线(115)可旋转的；控制器(120)，所述控制器(120)被配置为通过所述磁体组件(114)围绕所述第一旋转轴线(115)的旋转来调整所述磁体组件(114)相对于垂直于所述基板(10)的平面的角度；和驱动布置(130)，所述驱动布置(130)被配置为用于在层沉积工艺期间所述至少一个溅射源(110)的基本连续的线性移动。
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公开(公告)号：CN118160127A
公开(公告)日：2024-06-07
申请号：CN202280068857.X
申请日：2022-09-16
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 类维生 , G·K·戈帕拉克里希南·奈尔 , 赵·K·秋静 , 丹尼尔·斯托克 , 托比亚斯·斯托利 , 托马斯·德皮施 , 简·德尔马斯 , 肯尼斯·S·勒德福 , 苏布拉曼亚·P·赫尔勒 , 基兰·瓦查尼 , 马亨德兰·奇丹巴拉姆 , 罗兰·特拉斯尔 , 尼尔·莫里森 , 弗兰克·施纳朋伯杰 , 凯文·劳顿·坎宁安 , 斯蒂芬·班格特 , 詹姆斯·库辛 , 维斯韦斯瓦伦·西瓦拉玛克里施南
IPC: H01M10/058 , H01M10/052 , B23K26/36 , B23K26/352
Abstract: 提供用于借由具有宽工艺窗、高效率及低成本的激光源来处理锂电池的方法及设备。激光源被调适以实现皮秒脉冲的高平均功率及高频率。激光源可在固定位置或以扫描模式产生线形光束。系统可在干燥室或真空环境中操作。系统可包括对处理位点的碎屑移除机制(例如，惰性气体流)以移除在图案化工艺期间产生的碎屑。
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公开(公告)号：CN118176319A
公开(公告)日：2024-06-11
申请号：CN202180103781.5
申请日：2021-10-26
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 弗兰克·施纳朋伯杰
Abstract: 描述一种用于在真空条件下传输薄膜基板(12)的设备(10)。用于传输的所述设备(10)包括具有面向基板表面(102)的可旋转辊(100)，所述面向基板表面(102)包括第一面向基板表面部分(104)，其中所述面向基板表面(102)包括一或多个气体出口(105)，其中所述一或多个气体出口经配置用于释放气流，并且所述辊包括沉积区域(106)及至少一个非沉积区域(108)。所述设备进一步包括：气体分配系统(400)，所述气体分配系统(400)用于穿过一或多个气体出口(105)提供气流至薄膜基板(12)与第一面向基板表面部分(104)之间的间隙中；及密封带输送系统(120)，所述密封带输送系统(120)包括在至少一个非沉积区域(108)处提供的一或多个密封带(122)。
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公开(公告)号：CN116635566A
公开(公告)日：2023-08-22
申请号：CN202080106890.8
申请日：2020-10-28
Applicant: 应用材料公司
IPC: C23C14/56
Abstract: 根据本公开内容的各方面，提供了用于在基板上沉积蒸镀材料层的沉积源、沉积设备和方法。所述沉积源(100)包括：坩埚(104)，所述坩埚用于提供蒸镀材料；第一喷嘴区(110)，所述第一喷嘴区在第一方向上延伸并具有与所述坩埚(104)连通的第一多个喷嘴(101)；以及第二喷嘴区(120)，所述第二喷嘴区从所述第一喷嘴区(110)的端部在所述第一方向上延伸，所述第二喷嘴区(120)具有与所述坩埚(104)连通的第二多个喷嘴(102)，其中所述第二多个喷嘴(102)中的每个相邻喷嘴在朝向所述第一喷嘴区的方向上倾斜。所述沉积设备(200)包括：真空腔室(201)；根据本公开内容的各方面的沉积源(100)；以及基板运输机或源运输机，所述基板运输机用于将所述基板S运输经过所述沉积源(100)，所述源运输机用于将所述沉积源(100)运输经过所述基板S。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN116438129A
公开(公告)日：2023-07-14
申请号：CN202080106919.2
申请日：2020-11-05
Applicant: 应用材料公司
IPC: B65H19/18
Abstract: 描述了一种用于更换基板卷(10)的换卷腔室(100)。所述换卷腔室(100)包括可绕中心轴线(111)旋转的可旋转基部构造(110)。所述基部构造(110)包括：第一卷保持器(120)，所述第一卷保持器用于保持第一基板卷(121)第二卷保持器(130)，所述第二卷保持器用于保持第二基板卷(131)；以及壁(140)，所述壁用于在所述换卷腔室(100)中提供第一隔室(101)和第二隔室(102)。所述壁(140)布置在所述第一卷保持器(120)与所述第二卷保持器(130)之间。另外，描述了一种具有换卷腔室的卷对卷处理系统以及一种在卷对卷处理系统中连续地提供柔性基板的方法。
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公开(公告)号：CN115279935A
公开(公告)日：2022-11-01
申请号：CN202080098613.7
申请日：2020-03-26
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 弗兰克·施纳朋伯杰
Abstract: 在本公开内容中，提供一种用于在处理腔室(510)中在基板(S)上沉积材料的蒸发源(100)。该蒸发源(100)包括壁(110)，将内部区域(101)与外部区域(102)分离；蒸发管(120)，自壁(110)延伸至内部区域(101)中，该蒸发管(120)具有多个开口(122)；内管(160)，延伸经过壁(110)至蒸发管(120)中，该内管环绕加热元件(140)；和可密封外壳(130)，自壁(110)延伸至外部区域(102)中，其中可密封外壳(130)和内管(160)形成与内部区域(101)隔离的维护腔室(150)。其他多个方面包括一种具有所述蒸发源(100)的沉积设备(500)、一种用于替换所述蒸发源(100)中的加热元件(140)的方法、一种用于填充所述蒸发源(100)的方法，和一种用于停用所述蒸发源(100)的方法。
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公开(公告)号：CN109983150A
公开(公告)日：2019-07-05
申请号：CN201680091011.2
申请日：2016-11-22
Applicant: 应用材料公司
Abstract: 本公开内容提供了一种用于在基板(10)上进行层沉积的设备(100)。所述设备(100)包括：真空腔室(101)；至少一个溅射源(110)，所述至少一个溅射源(110)在所述真空腔室(101)中，其中所述至少一个溅射源(110)包括可旋转的柱形阴极(112)和在所述可旋转的柱形阴极(112)中的磁体组件(114)，并且其中所述磁体组件(114)是围绕第一旋转轴线(115)可旋转的；控制器(120)，所述控制器(120)被配置为通过所述磁体组件(114)围绕所述第一旋转轴线(115)的旋转来调整所述磁体组件(114)相对于垂直于所述基板(10)的平面的角度；和驱动布置(130)，所述驱动布置(130)被配置为用于在层沉积工艺期间所述基板(10)和所述至少一个溅射源(110)中的至少一个的基本连续的线性移动。
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公开(公告)号：CN208400806U
公开(公告)日：2019-01-18
申请号：CN201590001572.X
申请日：2015-07-24
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01J37/34
Abstract: 说明了一种用于溅射沉积的沉积源和一种真空沉积设备。沉积源包括：阴极(130,230)，用于提供待沉积的靶材料；至少一个阳极组件(110,210)，至少具有第一阳极区段(111,211)和第二阳极区段(112,212)，第一阳极区段面对阴极的第一部分，第二阳极区段面对阴极的第二部分；和连接器组件(120)。连接器组件包括：第一电连接件(121)，用于将第一阳极区段(111,211)连接到第一参考电位(P1)；第二电连接件(122)，用于将第二阳极区段(112,212)连接到第二参考电位(P2)；和调整装置(150)，用于调整第一电连接件(121)的第一电阻和第二电连接件(122)的第二电阻中的至少一个。可改善所溅射的层的层均匀性。
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