基于宽带光源的大面积自成像光刻

    公开(公告)号:CN113227901A

    公开(公告)日:2021-08-06

    申请号:CN201980085140.4

    申请日:2019-12-06

    Abstract: 本文中描述的实施方式提供减小被写入到光刻胶中的部分的宽度的大面积光刻的方法。所述方法的一个实施方式包括在最小波长下将多个光束的初始光束投射到在所述多个光束的传播方向中的掩模。所述掩模具有多个色散元件。增加所述多个光束的各光束的波长直到所述多个光束的最后光束在最大波长下被投射。所述掩模的多个色散元件将所述多个光束衍射成阶模束以在位于所述掩模与上面设置有光刻胶层的衬底之间的介质中产生强度图案。具有多个强度顶点的所述强度图案将多个部分写入所述光刻胶层中。

    基于宽带光源的大面积自成像光刻

    公开(公告)号:CN113227901B

    公开(公告)日:2024-08-23

    申请号:CN201980085140.4

    申请日:2019-12-06

    Abstract: 本文中描述的实施方式提供减小被写入到光刻胶中的部分的宽度的大面积光刻的方法。所述方法的一个实施方式包括在最小波长下将多个光束的初始光束投射到在所述多个光束的传播方向中的掩模。所述掩模具有多个色散元件。增加所述多个光束的各光束的波长直到所述多个光束的最后光束在最大波长下被投射。所述掩模的多个色散元件将所述多个光束衍射成阶模束以在位于所述掩模与上面设置有光刻胶层的衬底之间的介质中产生强度图案。具有多个强度顶点的所述强度图案将多个部分写入所述光刻胶层中。

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