-
公开(公告)号：CN117597466A
公开(公告)日：2024-02-23
申请号：CN202280041759.7
申请日：2022-06-28
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 乔斯林甘·罗摩林甘 , 曹勇 , 伊利亚·拉维特斯凯 , 基思·A·米勒 , 龚则-敬 , 唐先敏 , 谢恩·拉万 , 兰迪·D·施密丁 , 约翰·C·福斯特 , 克兰库玛尔·纽拉桑德拉·萨凡迪亚
Abstract: 描述了一种物理气相沉积处理腔室。所述处理腔室包括：靶背板，所述靶背板在处理腔室的顶部部分中；基板支撑件，所述基板支撑件在所述处理腔室的底部部分中；沉积环，所述沉积环定位在所述基板支撑件的外周边处；和屏蔽物。所述基板支撑件具有支撑表面，所述支撑表面与所述靶背板间隔开某个距离以形成工艺腔。所述屏蔽物形成工艺腔的外边界。还描述了腔室内清洁方法。在一实施方式中，所述方法包括关闭处理腔室至工艺腔的底部气体流动路径；使惰性气体从所述底部气体流动路径流动；使反应物经由所述屏蔽物中的开口流入所述工艺腔中；和从所述工艺腔排出所述反应气体。
-
公开(公告)号：CN117581327A
公开(公告)日：2024-02-20
申请号：CN202280044425.5
申请日：2022-05-05
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 威廉·R·约翰逊 , 科里·尤金·拉福利特 , 克兰库玛尔·纽拉桑德拉·萨凡迪亚
IPC: H01J37/32
Abstract: 本文提供了用于高压等离子体处理的设备的实施例。在一些实施例中，该设备包括隔离板和接地支架，用于等离子体处理腔室中的基板支撑件(如静电吸盘)。在一些实施例中，一种用于高压等离子体处理的设备包括：静电吸盘；与静电吸盘间隔开的接地回程支架；及介电板，该介电板设置在静电吸盘和接地回程支架之间。
-
公开(公告)号：CN113166927A
公开(公告)日：2021-07-23
申请号：CN201980083200.9
申请日：2019-12-12
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 大卫·冈瑟 , 蔡振雄 , 克兰库玛尔·纽拉桑德拉·萨凡迪亚
Abstract: 本文提供了处理配件的实施方式。在一些实施方式中，一种处理配件包括：沉积环，沉积环被配置为设置在基板支撑件上，沉积环包括：环形带，环形带被配置为置放在基板支撑件的下凸缘上，环形带具有上表面和下表面，下表面在径向内部和径向外部之间包括台阶；内唇部，内唇部从环形带的上表面向上延伸并与环形带的内表面相邻，其中环形带的上表面与内唇部的上表面的水平部分之间的深度在约6.0mm至约12.0mm之间；通道，通道设置在环形带的径向外侧和下方；及外唇部，外唇部向上延伸并设置在通道的径向外侧。
-
公开(公告)号：CN112805815A
公开(公告)日：2021-05-14
申请号：CN201980065400.1
申请日：2019-09-16
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 乔斯林甘·罗摩林甘 , 克兰库玛尔·纽拉桑德拉·萨凡迪亚 , 张富宏 , 威廉·约翰森
IPC: H01L21/67 , H01L21/687 , H01L21/683
Abstract: 此处提供用于处理基板的方法及装置。在一些实施方式中，用于控制处理腔室中气体流动的遮板包含：封闭壁体，该封闭壁体具有上端及下端，该封闭壁体在该下端处界定该遮板的第一开口且在该上端处界定该遮板的第二开口，其中该第二开口从该第一开口偏移；及顶部壁，该顶部壁设置于该封闭壁体的该上端的一部分顶上，位于该第一开口上方的一位置，以与该封闭壁体的该上端的其余部分一起界定该第二开口，其中该遮板经构造以经由该第一开口使来自该第二开口的气体流动转向。
-
公开(公告)号：CN120082875A
公开(公告)日：2025-06-03
申请号：CN202510146085.2
申请日：2021-04-09
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 克兰库玛尔·纽拉桑德拉·萨凡迪亚 , 斯里尼瓦萨·拉奥·耶德拉 , 托马斯·布里泽哲科
IPC: C23C16/54 , C23C16/455 , C23C16/50 , C23C16/52 , C23C14/56 , C23C14/35 , C23C14/54 , H01L21/67 , H01L21/677 , H01L21/687
Abstract: 本文中所公开的实施方式包括基板处理模块及移动工件的方法。基板处理模块包括遮件堆叠及两个处理站。遮件堆叠设置在处理站之间。移动工件的方法包括以下步骤：在第一方向上将支撑部分从第一位置移动到遮件堆叠，从遮件堆叠取回工件，及将支撑部分移动至第二位置。传输腔室组件及方法允许将工件移动至遮件堆叠及将工件从遮件堆叠移动到两个处理站。基板处理模块的中心传输机器人被配置为抓取基板及遮挡盘两者，从而在一般会需要两个机器人的时候允许使用一个机器人。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN115768920B
公开(公告)日：2025-03-07
申请号：CN202180045093.8
申请日：2021-04-09
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 克兰库玛尔·纽拉桑德拉·萨凡迪亚 , 斯里尼瓦萨·拉奥·耶德拉 , 托马斯·布里泽哲科
IPC: C23C16/455
Abstract: 本文中所公开的实施方式包括基板处理模块及移动工件的方法。基板处理模块包括遮件堆叠及两个处理站。遮件堆叠设置在处理站之间。移动工件的方法包括以下步骤：在第一方向上将支撑部分从第一位置移动到遮件堆叠，从遮件堆叠取回工件，及将支撑部分移动至第二位置。传输腔室组件及方法允许将工件移动至遮件堆叠及将工件从遮件堆叠移动到两个处理站。基板处理模块的中心传输机器人被配置为抓取基板及遮挡盘两者，从而在一般会需要两个机器人的时候允许使用一个机器人。
-
公开(公告)号：CN116288286B
公开(公告)日：2025-02-21
申请号：CN202310118230.7
申请日：2021-04-09
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 克兰库玛尔·纽拉桑德拉·萨凡迪亚 , 斯里尼瓦萨·拉奥·耶德拉 , 托马斯·布里泽哲科
IPC: C23C16/54 , H01L21/677 , H01L21/687 , H01L21/67 , C23C16/455 , C23C14/56 , C23C14/34 , C23C16/50
Abstract: 本文中所公开的实施方式包括基板处理模块及移动工件的方法。基板处理模块包括遮件堆叠及两个处理站。遮件堆叠设置在处理站之间。移动工件的方法包括以下步骤：在第一方向上将支撑部分从第一位置移动到遮件堆叠，从遮件堆叠取回工件，及将支撑部分移动至第二位置。传输腔室组件及方法允许将工件移动至遮件堆叠及将工件从遮件堆叠移动到两个处理站。基板处理模块的中心传输机器人被配置为抓取基板及遮挡盘两者，从而在一般会需要两个机器人的时候允许使用一个机器人。
-
公开(公告)号：CN118056269A
公开(公告)日：2024-05-17
申请号：CN202280067478.9
申请日：2022-06-28
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 拉克希米坎斯·克里希纳穆提·希拉哈蒂 , 克兰库玛尔·纽拉桑德拉·萨凡迪亚 , 普拉尚·A·德赛 , 托马斯·布里泽哲科
IPC: H01L21/67
Abstract: 本文提供的公开内容的方面总体涉及被配置以冷却基板处理系统的子系统的流体流动网络。本公开内容的方面提供一种流体流动网络及方法，所述方法调整穿过基板处理系统的每个子系统的冷却流体的流动。本文描述的方法可以包括在冷却流体压力的范围内维持穿过每个子系统的冷却流体的流率。本文描述的方法可进一步包括配置流体流动网络以均衡穿过相似子系统的冷却流体的流率，使得穿过每个子系统的流率相似而无需调整。
-
公开(公告)号：CN116113726A
公开(公告)日：2023-05-12
申请号：CN202180057753.4
申请日：2021-04-14
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 纳加布沙纳·南军达帕 , 克兰库玛尔·纽拉桑德拉·萨凡迪亚 , 斯里尼瓦萨·拉奥·耶德拉 , 托马斯·布里泽哲科 , 巴斯卡尔·普拉萨德
IPC: C23C16/46
Abstract: 本文公开的实施方式一般涉及一种系统，并且更具体而言，涉及一种基板处理系统。该基板处理系统包括一个或多个冷却系统。所述冷却系统被构造为用以降低和/或控制基板处理系统的主体的温度。所述冷却系统包括用于使用气体和/或液体冷却系统冷却基板处理系统中设置的主体的特征。本文公开的冷却系统能够用在主体设置在任何高度的时候。
-
公开(公告)号：CN115768920A
公开(公告)日：2023-03-07
申请号：CN202180045093.8
申请日：2021-04-09
Applicant: 应用材料公司
Inventor： 克兰库玛尔·纽拉桑德拉·萨凡迪亚 , 斯里尼瓦萨·拉奥·耶德拉 , 托马斯·布里泽哲科
IPC: C23C16/455
Abstract: 本文中所公开的实施方式包括基板处理模块及移动工件的方法。基板处理模块包括遮件堆叠及两个处理站。遮件堆叠设置在处理站之间。移动工件的方法包括以下步骤：在第一方向上将支撑部分从第一位置移动到遮件堆叠，从遮件堆叠取回工件，及将支撑部分移动至第二位置。传输腔室组件及方法允许将工件移动至遮件堆叠及将工件从遮件堆叠移动到两个处理站。基板处理模块的中心传输机器人被配置为抓取基板及遮挡盘两者，从而在一般会需要两个机器人的时候允许使用一个机器人。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
29
records
(took 0.026 seconds)
