公开(公告)号：CN117597466A

公开(公告)日：2024-02-23

申请号：CN202280041759.7

申请日：2022-06-28

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 乔斯林甘·罗摩林甘 ,  曹勇 ,  伊利亚·拉维特斯凯 ,  基思·A·米勒 ,  龚则-敬 ,  唐先敏 ,  谢恩·拉万 ,  兰迪·D·施密丁 ,  约翰·C·福斯特 ,  克兰库玛尔·纽拉桑德拉·萨凡迪亚

IPC: C23C14/56 ,  H01J37/32 ,  H01J37/34 ,  C23C14/22 ,  C23C14/50 ,  C23C14/34

Abstract: 描述了一种物理气相沉积处理腔室。所述处理腔室包括：靶背板，所述靶背板在处理腔室的顶部部分中；基板支撑件，所述基板支撑件在所述处理腔室的底部部分中；沉积环，所述沉积环定位在所述基板支撑件的外周边处；和屏蔽物。所述基板支撑件具有支撑表面，所述支撑表面与所述靶背板间隔开某个距离以形成工艺腔。所述屏蔽物形成工艺腔的外边界。还描述了腔室内清洁方法。在一实施方式中，所述方法包括关闭处理腔室至工艺腔的底部气体流动路径；使惰性气体从所述底部气体流动路径流动；使反应物经由所述屏蔽物中的开口流入所述工艺腔中；和从所述工艺腔排出所述反应气体。