一种用于降低刻蚀工艺掉片率的装置、方法和刻蚀装置

    公开(公告)号:CN114864468A

    公开(公告)日:2022-08-05

    申请号:CN202210343293.8

    申请日:2022-03-31

    Abstract: 本发明涉及半导体深硅刻蚀技术领域,公开了一种用于降低刻蚀工艺掉片率的方法、装置和刻蚀装置,用于降低刻蚀工艺掉片率的装置包括通气控制器和陶瓷遮挡盘;通气控制器一端用于连接进气管道,另一端用于连接刻蚀设备的通气管路,陶瓷遮挡盘设置于刻蚀设备的下电极基座上;通气控制器用于在刻蚀完成后,向刻蚀设备内通入气体,使晶圆片浮起和下落,以消除刻蚀完成后晶圆片上的残余静电力粘片效应;陶瓷遮挡盘用于限制晶圆片浮起过程中晶圆片的移动范围。本发明提供的用于降低刻蚀工艺掉片率的装置,通过陶瓷遮挡盘和通气控制器的共同使用,消除了刻蚀工艺完成后晶圆片上的残余静电力粘片效应,解决了现有刻蚀工艺中晶圆片掉片率高的问题。

    晶圆片背氦压力控制装置及控制方法

    公开(公告)号:CN118471854A

    公开(公告)日:2024-08-09

    申请号:CN202410567024.9

    申请日:2024-05-09

    Abstract: 本发明提供了一种晶圆片背氦压力控制装置及控制方法,属于半导体制作技术领域,自上至下依次包括线性执行器、针尾顶板、微针阵列板、针孔定位板、定高环以及微针底板,微针经针孔定位板从微针底板穿出;微针底板与针尾顶板相连,并将微针阵列板、针孔定位板及定高环限制在微针底板与针尾顶板之间。本发明采用线性执行器驱动微针阵列板向下移动,即可对晶圆片背面薄膜一次性的加工微孔阵列,不仅保证了微孔孔径的均匀性,而且通过控制微孔的直径,进而能够控制晶圆片背氦的流量,实现晶圆片深槽内密封空气排出的同时,背氦冷却系统漏率满足工艺要求,最终提高背氦冷却系统冷却效果,提升晶圆片刻蚀的质量,降低废片率。

    基于非奇异终端滑模的机械臂固定时间轨迹跟踪控制方法

    公开(公告)号:CN116276965A

    公开(公告)日:2023-06-23

    申请号:CN202310019296.0

    申请日:2023-01-06

    Abstract: 本申请适用于轨迹跟踪技术领域,提供了一种基于非奇异终端滑模的机械臂固定时间轨迹跟踪控制方法,该方法包括:基于预先设计的机械臂的关节的期望轨迹的数据,建立不确定性的机械臂的动力学模型;基于动力学模型,获取机械臂的关节的实时轨迹数据;基于期望轨迹的数据和实时轨迹数据,确定滑模信号;基于动力学模型,构建径向基神经网络,并利用投影法确定径向基神经网络的权值向量的权值更新律;将滑模信号和径向基神经网络的权值向量的自适应更新律作用于机械臂的控制器上,获得机械臂的关节在固定时间的跟踪期望轨迹。本申请的方法能够在多种复杂场景下,提高估计机械臂的模型参数不确定性和外部干扰的准确性。

    激光设备功率测试装置及激光设备功率测试方法

    公开(公告)号:CN115265771A

    公开(公告)日:2022-11-01

    申请号:CN202210673221.X

    申请日:2022-06-14

    Abstract: 本发明提供一种激光设备功率测试装置及激光设备功率测试方法。该装置包括:底座、调节组件、反射组件、探头托组件、全反镜片、指示镜片和功率计;调节组件设置在底座下,反射组件固定设置在底座上,探头托组件固定设置在反射组件上,全反镜片安装在所述反射组件内,指示镜片位于探头托组件上,功率计设置在指示镜片上方;当激光设备发射的激光照射到全反镜片上时,反射到指示镜片上,功率计测量指示镜片上的激光的功率。本发明能够实现在测试过程中,仅需移动上述激光设备功率测试装置,无需移动扩束镜,保证激光设备实际使用时的原有光路不会发生偏移,避免测试完成后重新调试校准激光设备的光路,以便快速、准确、无影响地测量激光功率。

    非完整环面轮廓度误差确定方法、装置及终端设备

    公开(公告)号:CN115218854B

    公开(公告)日:2024-09-27

    申请号:CN202210741742.4

    申请日:2022-06-27

    Abstract: 本申请适用于面轮廓度误差评定技术领域,提供了一种非完整环面轮廓度误差确定方法、装置及终端设备。该方法包括:获取待测零件的测量环面与理想环面,测量环面包括待测零件的实测点,理想环面包括理想环面参数;根据坐标变换参数对实测点进行坐标变换处理得到测点;将理想环面等弧长细分,确定测点在理想环面上最近的对应点,在该对应点位于理想环面的边缘区域和非边缘区域时,采用不同算法计算测点到理想环面的最小距离;根据最小距离构建基于坐标变换参数和理想环面参数的环面轮廓度误差函数作为目标函数,基于差分进化算法对目标函数求解,确定环面轮廓度误差。本申请能够准确计算具有非完整环面结构的工业零件的环面轮廓度误差。

    一种电子束光阑和束闸一体化装置和电子光学系统

    公开(公告)号:CN116300335A

    公开(公告)日:2023-06-23

    申请号:CN202310174542.X

    申请日:2023-02-28

    Abstract: 本申请提供了一种电子束光阑和束闸一体化装置和电子光学系统,该装置包括:基座、正极、第一光阑片和第二光阑片;基座的内部设置有第一负极板和第二负极板,顶部设置有第一光阑片安装孔和第二光阑片安装孔;正极呈长条状,正极的上部与基座配合,第一负极板和第二负极板分居正极的上部的两侧,第一负极板与正极之间形成第一束闸,第二负极板与正极之间形成第二束闸;正极的下部设置有刀口槽结构;第一光阑片和第二光阑片分别安装于第一光阑片安装孔和第二光阑片安装孔中;第一光阑片位于第一束闸的上方,第二光阑片位于第二束闸的上方。本申请使束闸和光阑采用一体式设计,结构简单紧凑,装配调试方便,达到关断速度快,拖尾小的目的。

    回转体零件轮廓度误差计算方法及电子设备

    公开(公告)号:CN115758599A

    公开(公告)日:2023-03-07

    申请号:CN202211248121.9

    申请日:2022-10-12

    Abstract: 本发明提供一种回转体零件轮廓度误差计算方法及电子设备。该方法包括:对回转体零件中回转面上的每个测量点进行坐标变换处理,得到每个测量点的第一坐标;建立理想回转面模型,并对理想回转面模型进行区域划分,得到标准区域和逼近区域;当测量点处于标准区域时,根据标准区域内理想回转面的几何性质,计算该测量点到标准区域内的理想回转面的最小距离;当测量点处于逼近区域时,根据测量点的第一坐标,分别计算该测量点到各个细分面的第一距离,将第一距离中的最小值确定为该测量点到该逼近区域内的理想回转面的最小距离;基于最小距离,确定回转体零件的回转面轮廓度误差。本发明能够可以准确计算回转体零件中复合回转面的回转面轮廓度误差。

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