一种基于退火处理以改善石墨烯宏观润滑性能的方法

    公开(公告)号:CN114956064A

    公开(公告)日:2022-08-30

    申请号:CN202210498061.X

    申请日:2022-05-07

    Abstract: 本发明公开了一种基于退火处理以改善石墨烯宏观润滑性能的方法,包括如下步骤:S1、将石墨烯粉末、去离子水和表面活性剂混合,得到混合溶液A;S2、将所述混合溶液A进行超声处理;S3、将所述混合溶液A滴定于二氧化硅基底上,干燥后在高纯氩气下进行退火处理;S4、将石墨烯/二氧化硅样品迅速空冷至30℃左右,即可获得宏观润滑性能优异的石墨烯涂层。本发明所提供的一种基于退火处理以改善石墨烯宏观润滑性能的方法,降低了石墨烯在大气环境下的氧化程度及缺陷密度,从而改善大气环境下石墨烯的润滑性能。本发明的方法简单易行,成本极低。

    一种高速轴承用多孔聚酰亚胺表面的研磨抛光方法

    公开(公告)号:CN114888646A

    公开(公告)日:2022-08-12

    申请号:CN202210693694.6

    申请日:2022-06-18

    Abstract: 本发明公开了一种高速轴承用多孔聚酰亚胺表面的研磨抛光方法,包括如下步骤:S1、分别使用不同目数的碳化硅砂纸对多孔聚酰亚胺材料表面进行打磨,将表面打磨平整;S2、分别使用不同研磨颗粒大小的氧化铝研磨膏,将其均匀铺撒在抛光垫上,在高速研磨机上进行研磨,实现表面精抛,多孔聚酰亚胺表面达到镜面平整;S3、分别用无水乙醇和去离子水超声清洗多孔聚酰亚胺表面,清洗残存的研磨颗粒。本发明方法可以降低高速轴承用多孔聚酰亚胺的表面粗糙度,提高其润滑性能,同时减少磨损过程中相应的黑色物质产生,延长聚酰亚胺轴承保持架的使用寿命,且方法简单,成本低廉。

    一种无损伤摩擦诱导纳米加工方法

    公开(公告)号:CN109437085A

    公开(公告)日:2019-03-08

    申请号:CN201811249602.5

    申请日:2018-10-25

    Abstract: 本发明公开了一种无损伤摩擦诱导纳米加工方法,包括以下步骤:S1、对单晶硅样品表面进行清洗以去除表面杂质;S2、通过机械刻划加工设备利用探针在单晶硅样品表面按设定的加工参数进行扫描加工;S3、配置刻蚀溶液,并将盛有刻蚀溶液的容器放置于磁力搅拌器中水浴加热并保持恒温,调制转子转速并保持恒定;S4、将经步骤S2处理后的单晶硅样品冲洗之后,浸入到步骤S3的容器中进行刻蚀,刻蚀时间为10~30min,取出并再次分别对单晶硅样品表面进行清洗即可。该方法通过在化学刻蚀中施加外场的方法来保持刻蚀溶液的高速流动,从而及时有效地带走单晶硅表面生成的反应产物,保证单晶硅表面微/纳结构的质量,同时加快了化学刻蚀的效率且不会对纳米结构造成任何损伤。

    一种基于摩擦诱导选择性刻蚀的玻璃表面纳米加工方法

    公开(公告)号:CN102503155B

    公开(公告)日:2018-04-27

    申请号:CN201110392803.2

    申请日:2011-12-01

    Abstract: 一种基于摩擦诱导选择性刻蚀的玻璃表面纳米加工方法,主要应用于玻璃表面微纳米结构的加工。其具体操作方法是:将尖端为球状的探针安装在原子力显微镜上,将清洗过的玻璃固定在样品台上,启动原子力显微镜,给探针施加定载荷F或者变载荷F′,并使探针沿着设定的扫描轨迹,循环次数N和扫描速率v在玻璃表面进行扫描;扫描后将玻璃置于质量浓度为10‑20%的HF溶液中,腐蚀5‑10秒,即可。该方法不需要模版或掩膜,单次腐蚀就能在玻璃表面加工斜面、台阶、阵列等三维纳米图案;其加工流程极其简便,腐蚀速率极快,是一种简单、精确、高效的玻璃表面的纳米加工方法。

    一种真空下多探针摩擦磨损测试及原位形貌探测系统

    公开(公告)号:CN105181501B

    公开(公告)日:2018-01-16

    申请号:CN201510488002.4

    申请日:2015-08-10

    Abstract: 本发明公开了一种真空下多探针摩擦磨损测试及原位形貌探测系统,包括主体和外部手动驱动装置;所述主体包括腔体上盖、安装在腔体上盖上面用于密封的光窗顶盖和安装腔体上盖内部的多探针组件;其能在高真空下实现对具有不同功能的SPM针尖切换,使摩擦学测试及原位形貌探测在高真空环境下可相继完成,且原位定位精度较高。由于更换针尖时无须打开腔体,确保了实验样品不受外界因素干扰,使实验所得结果更为真实可信;不仅如此,也节省了实验前期设备调整校准时间,提高实验效率。

    一种砷化镓表面量子点形核位置的低损伤加工方法

    公开(公告)号:CN103738916B

    公开(公告)日:2017-12-22

    申请号:CN201310732192.0

    申请日:2013-12-27

    Abstract: 本发明公开了一种砷化镓表面量子点形核位置的低损伤加工方法,其具体操作是:将尖端为球状的二氧化硅探针安装在扫描探针显微镜上,将清洗过的砷化镓固定在样品台上;启动扫描探针显微镜,给探针施加0.5‑1GPa的接触压力,并使探针按照设定的扫描轨迹、扫描循环次数在砷化镓表面进行扫描。该方法能在不同晶面、不同掺杂类型的砷化镓表面加工各种纳米凹结构,所需的接触压力不引起基体晶格缺陷,且其操作简单、位置可控、灵活性高。

    一种用于原子力显微镜的气氛控制系统

    公开(公告)号:CN103760383B

    公开(公告)日:2016-07-06

    申请号:CN201410009253.5

    申请日:2014-01-09

    Abstract: 一种用于原子力显微镜的气氛控制系统,其特征在于:气体瓶一(1a)和气体瓶二(1b)分别通过流量计一(3a)、流量计二(3b)与混合气管(4)的进气口相连,混合气管(4)的出气口通过进气腔(6)与原子力显微镜上的气氛腔(7)的进气口相连。该系统能为原子力显微镜提供不同气体、各种比例组成的可控混合气氛,从而使原子力显微镜能进行各种比例的不同气体组成的混合气氛下微机电系统的磨损失效、防护机理的模拟试验与研究,从而为相应混合气氛工作中的微机电系统的设计、制造与维护提供更准确、可靠的试验依据,以降低微机电系统的磨损,提高微机电系统的使用寿命。

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